一种基于一维硅纳米结构阵列的可见光电化学探测器制造技术

技术编号:6819842 阅读:392 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公布了一种基于一维硅纳米结构阵列的可见光电化学探测器,属于纳米材料性能和应用领域。特征在于利用光吸收性能优异的一维硅纳米结构阵列的光电化学响应特性实现可见光的探测。器件制备过程及所需设备相对简单,可控性良好,光响应度较高。器件构建过程主要包括:(1)利用金属催化各向异性化学腐蚀法制备一维硅纳米结构阵列;(2)利用磁控溅射或真空蒸镀技术在一维硅纳米结构阵列背面沉积导电层,并进行退火处理形成一维硅纳米结构阵列光电极;(3)以一维硅纳米结构阵列光电极为基础,构建可见光电化学探测器。本发明专利技术利用一维硅纳米结构阵列的高光电化学响应特性构建了可见光电化学探测器,拓展了半导体纳米材料的应用领域。

【技术实现步骤摘要】

一种基于一维硅纳米结构阵列的可见光电化学探测器,涉及一维硅纳米结构阵列的光电化学响应特性的研究,属于纳米材料与应用领域。
技术介绍
硅纳米结构的研究可以追溯到1964年R. S. Wanger和W. C. Ellis利用气-液-固机理制备出最早的单晶硅纳米须,然而受限于当时表征技术手段,硅纳米结构的研究直到上世纪90年代才引起人们的广泛关注。过去20年,大量的研究专注于一维硅纳米结构的制备技术,发展并完善了多种方法,总的来说可以归结为两类一是自下而上法,即通过调控硅原子的自组装过程得到一维纳米结构。如研究较为广泛的金属催化化学气相沉积法,它以一层准连续的纳米金属颗粒薄膜为催化剂,在一定温度下引导硅原子自组装成一维纳米结构。这类方法的优点是可以实现一维硅纳米结构的大量制备,结构基本为单晶,缺陷少; 但是这类一维硅纳米结构取向通常为<111>,其它取向的一维硅纳米结构制备很困难,生长过程和结构的可控性较差,且纳米结构易脱离基底,电子在纳米结构与基底间传输困难,这在一定程度上阻碍了其应用开发。二是自上而下法,即通过刻蚀体硅而得到纳米尺度的硅结构。如反应离子刻蚀法,即通过在单晶本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于一维硅纳米结构阵列的可见光电化学探测器,其特征是利用一维硅纳米结构阵列的光电化学响应实现光的探测,器件构造过程相对简单,主要包括:一维硅纳米结构阵列的制备;一维硅纳米结构阵列的光电极制备;以一维硅纳米结构阵列为光电极的可见光电化学探测器构建。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:程国安吴绍龙郑瑞廷
申请(专利权)人:北京师范大学
类型:发明
国别省市:11

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