喷墨记录设备制造技术

技术编号:6639087 阅读:149 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
提供一种喷墨记录设备,喷墨记录设备包括:喷墨头;第一滑架,在所述第一滑架上承载喷墨头;引导构件;移动机构,移动机构使第一滑架沿引导构件移动;输送机构,输送机构沿输送表面输送介质;以及第二滑架,第二滑架在跟随第一滑架的移动的同时能往复移动,并且第二滑架构造成能相对于第一滑架在与输送表面垂直的方向上相对移动。第二滑架具有保护喷射表面不受介质影响的保护构件和关于第三方向调节第二滑架的移动的调节构件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于从喷嘴喷射一种或多种墨的喷墨记录设备
技术介绍
在日本专利申请特开No. 7-61078中描述的喷墨打印机中,由在与扫描方向垂直的方向上延伸的轴以可旋转的方式支撑的滑道或辊关于滑架的扫描方向分别布置在两端部部分,该滑架在扫描方向上能往复移动,并且在该滑架上承载有打印头。记录纸张被辊向下挤压。因此,防止记录纸张引起浮起,否则所述浮起例如在打印期间由墨的着落造成的膨胀而引起。由于防止记录纸张浮起,所以例如防止记录纸张与打印头的喷墨表面接触。在扫描方向上能往复移动的滑架通常具有在与扫描方向和记录纸张的输送方向垂直的方向上设置的间隙或游隙,以便减小相对于用于引导滑架的引导构件的滑动阻力。 因此,当在上述喷墨打印机中设置用于滑架的辊时,担心的是当记录纸张倾向于浮起时, 被允许从记录纸张作用于辊的力可能使设有辊的滑架在使滑架与用于记录纸张的输送表面分离的分离方向上移动。如果滑架在与用于记录纸张的输送表面分离的分离方向上移动,则担心的是被当滑架在与输送表面分离的分离方向上移动时而造成的加速度可能破坏喷嘴的弯月面;和 /或在喷射表面与记录纸张之间的距离可能改变或波动,从而劣化打印质量。如果滑架如上所述移动,则担心的是,滑架可被引导构件的滑动部分卡住,和/或由于滑架和引导构件在上面进行滑动的滑动表面的波动,所以摩擦力可在滑架与引导构件之间改变或波动。此外,当滑架通过附接至滑架的皮带移动时,担心的是,皮带的张紧角可改变或波动,并且滑架的移动速度可改变或波动。如果滑架的移动速度改变或波动,担心的是,打印质量降低。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种喷墨记录设备,该喷墨记录设备设置有用于防止记录纸张与喷墨头的喷射表面接触的保护构件,并且该喷墨记录设备同时使得能够防止被允许从记录纸张作用于保护构件的力使滑架在与用于记录纸张的输送表面分离的分离方向上移动。根据本专利技术的第一方面,提供一种喷墨记录设备,所述喷墨记录设备将墨的液滴喷射到介质上以进行记录,包括喷墨头,所述喷墨头具有喷射表面,在所述喷射表面上形成有多个喷嘴,通过所述多个喷嘴喷射墨;第一滑架,所述喷墨头安装在第一滑架上;引导构件,所述引导构件在与喷射表面平行的第一方向上延伸;移动机构,所述移动机构使第一滑架沿引导构件在第一方向上往复移动;输送机构,所述输送机构沿面对喷射表面并与第一方向平行的输送表面在与第一方向垂直的第二方向上输送介质;以及第二滑架,所述第二滑架在跟随第一滑架的移动的同时能在第一方向上往复移动,并且所述第二滑架能相对于第一滑架在与输送表面垂直的第三方向上相对移动,所述第二滑架包括保护构件,所述保护构件布置在喷墨头的沿所述第一方向的一侧,以保护所述喷射表面不受介质的影响;以及调节构件,所述调节构件调节第二滑架在第三方向上的移动,使得保护构件的相对于输送表面设置的最接近部分在第三方向上同喷射表面相比总是较接近输送表面设置。根据涉及本专利技术的第一方面的喷墨记录设备,第二滑架关于第三方向的移动由调节构件调节。因此,保护构件的相对于输送表面设置的最接近部分同喷射表面相比总是设置在较接近输送表面的位置。因此,即使当诸如记录纸张的介质在沿第三方向与输送表面分离的分离方向上弯曲或卷曲时,介质也是与关于第三方向同喷射表面相比较接近输送表面设置的保护构件接触。因此,能够防止记录纸张与喷射表面接触。此外,在这种情形下,设有保护构件的第二滑架构造成能相对于第一滑架在第三方向上相对移动,并且关于第三方向的移动由调节构件调节,使得保护构件的相对于输送表面设置的最接近部分关于第三方向同喷射表面相比总是较接近输送表面设置。因此,当诸如记录纸张等的介质在沿第三方向与输送表面分离的分离方向上弯曲并且在该方向上挤压保护构件时,则第二滑架相对于第一滑架在沿第三方向与输送表面分离的分离方向上相对移动。在另一种情形下,第二滑架的移动由调节构件调节,和第二滑架不移动。在以上任一情况下,能防止第一滑架在沿第三方向与输送表面分离的分离方向上移动,否则记录纸张挤压保护构件的力会使第一滑架移动。在根据本专利技术的喷墨记录设备中,在保护构件最紧密接近输送表面的条件下,在喷射表面与保护构件的最接近部分之间关于第三方向设置的第一距离可大于一第二距离, 所述第二距离关于第三方向设置并且第二滑架能相对于第一滑架相对移动所述第二距离。在该布置中,即使当允许保护构件关于第三方向后退或与输送表面分开最远时, 保护构件也能设置成使得同喷射表面相比,保护构件朝输送表面突出。在根据本专利技术的喷墨记录设备中,保护构件可以是由在第二方向上延伸的轴以可旋转的方式支撑的辊。此外,辊的表面可由具有高的相对于墨的拒液性的材料形成。在该布置中,保护构件是由允许在第二方向上延伸的轴以可旋转的方式支撑的辊。因此,即使当保护构件在该保护构件与弯曲的记录纸张接触的状态下在第一方向上移动时,记录纸张也几乎肯定不被保护构件卡住。因此,能够防止保护构件在第一方向上的移动受记录纸张干扰。即使当作为保护构件的辊在第一滑架的移动期间与记录纸张的表面接触时,由于辊本身旋转,辊也不移动成使得所以辊的周向表面摩擦记录纸张的表面。因此,在第一滑架的移动期间能够防止被墨弄脏的周向表面连续摩擦记录纸张的表面。记录纸张几乎不被弄5脏。此外,当辊的表面由具有高的相对于墨的拒液性的材料形成时,例如当辊本身有具有高的拒水特性的材料形成时,或者当辊的表面经受拒水处理时,则墨几乎肯定不粘附至辊的表面,并且不太担心介质可能被粘附至辊表面的墨弄脏。在根据本专利技术的喷墨记录设备中,保护构件关于第二方向可布置在比布置喷嘴的范围宽的范围中。当诸如记录纸张等的介质吸收墨时,则介质本身膨胀,并且介质在接近方向上弯曲或卷曲,以接近喷射表面。担心的是,记录纸张可能与喷射表面接触。尤其地,记录纸张紧接在墨着落在记录纸张上之后膨胀。因此,在本专利技术中,保护构件在比喷嘴布置的范围宽的范围中保护记录纸张。因此,能够更加可靠地避免记录纸张与喷射表面的接触。在根据本专利技术的喷墨记录设备中,调节构件可具有接触部分,所述接触部分抵靠弓I导构件以关于第三方向调节第二滑架的移动。保护构件关于第三方向的位置取决于调节构件抵靠的构件的形式的准确度而改变或波动。第一滑架关于第三方向的位置取决于引导构件的形式的准确度而改变或波动。 就这个角度来看,在本专利技术的布置中,调节构件具有抵靠用于引导第一滑架的引导构件的接触部分。因此,保护构件和第一滑架关于第三方向的位置取决于引导构件(接触部分) 的形式的准确度在相同的方向上以大致相同的量改变或波动。因此,即使当保护构件和第一滑架关于第三方向的位置取决于引导构件的形式的准确度而改变或波动时,也能够关于第三方向保持保护构件与第一滑架之间恒定的位置关系。此外,由于不需要提供调节构件抵靠的不同于引导构件的任何构件,所以简化设备的布置。在根据本专利技术的喷墨记录设备中,保护构件可包括关于第一方向设置在喷墨头的两侧的一对保护构件。在该布置中,由于保护构件关于第一方向分别设置在喷墨头的两侧,所以能够更加可靠地防止诸如记录纸张等的介质与喷射表面接触。在根据本专利技术的喷墨记录设备中,第二滑架还可包括使关于第一方向设置在喷墨头的两侧的一对保护构件连接的连接构件。在该布置中,设置在喷墨头的两侧的保护本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种喷墨记录设备,所述喷墨记录设备将墨的液滴喷射到介质上以进行记录,所述喷墨记录设备包括:喷墨头,所述喷墨头具有喷射表面,在所述喷射表面上形成有多个喷嘴,通过所述多个喷嘴喷射墨;第一滑架,所述喷墨头安装在所述第一滑架上;引导构件,所述引导构件在与所述喷射表面平行的第一方向上延伸;移动机构,所述移动机构使所述第一滑架沿所述引导构件在所述第一方向上往复移动;输送机构,所述输送机构沿输送表面在与所述第一方向垂直的第二方向上输送所述介质,所述输送表面面对所述喷射表面且与所述第一方向平行;以及第二滑架,所述第二滑架在跟随所述第一滑架的移动的同时能在所述第一方向上往复移动,并且所述第二滑架能相对于所述第一滑架在与所述输送表面垂直的第三方向上相对移动,所述第二滑架包括:保护构件,所述保护构件布置在所述喷墨头的沿所述第一方向的一侧,以保护所述喷射表面不受所述介质的影响;以及调节构件,所述调节构件调节所述第二滑架在所述第三方向上的移动,使得所述保护构件的相对于所述输送表面设置的最接近部分在所述第三方向上同所述喷射表面相比总是较接近所述输送表面设置。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:寺田宏平
申请(专利权)人:兄弟工业株式会社
类型:发明
国别省市:JP

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