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宽地膜栽植新技术制造技术

技术编号:6561424 阅读:234 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及地膜栽植技术,采用2.4~3.0米宽的地膜覆盖农作物;地膜厚度为0.00007mm~0.00009mm;垄的上表面呈中间低、两边高的孤形。本发明专利技术较传统地膜覆盖技术,提高作物产量10%-35%,且大大节省了用工成本。本发明专利技术适于栽植西瓜、甜瓜、黄瓜、豆角、胡萝卜、萝卜、白菜、甘蓝、菠菜、茄子、辣椒、油菜、西红柿、花生、小麦、玉米、高粱、菜子、洋芋等。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种植物栽植技术,具体地说是适用西北地区的宽地膜栽植技术。
技术介绍
用地膜覆盖的方法种植农作物,是一项行之有效、应用广泛的的农作物栽植技术, 尤其适用于西瓜和甜瓜等瓜果蔬菜类植物,实践证明,采用地膜覆盖的栽植方法较露地的 栽植方法,能提高农作物产量约30%。传统地膜覆盖的垅宽为0.7 1.4米;地膜厚度约 0. 005丝(0. 00005mm),垅的顶部为凸面或平面。传统地膜覆盖技术存在长草严重的不足之 处。
技术实现思路
本专利技术的目的在于,提供一种适应西北干旱地区的地膜覆盖栽植新方法。本专利技术是这样实现的地膜覆盖宽为2. 4 3. 0米;地膜厚度为0. 007 0. 009丝 (0. 00007mm 0. 00009mm)。地膜覆膜前,在起铺膜垄沟时,垄的高度为5士0. 3公分;垄左 右两侧,修成5-10度缓坡;垄的上表面并呈中间稍低,两边稍高的孤形,高、低相差小于1. 5 公分。地膜颜色以黑色最好。申请人:经多年研究、实践证明,本专利技术较传统地膜覆盖技术,提高作物产量 10%—35%,且大大节省了用工成本。适于本专利技术栽植的植物,有西瓜、甜瓜、黄瓜、豆角本文档来自技高网...

【技术保护点】
宽地膜栽植新技术,其特征在于:采用2.4~3.0米宽的地膜覆盖农作物;地膜厚度为0.00007mm~0.00009mm。垄的高度为5±0.3公分;垄左右两侧修成5-10度缓坡;垄的上表面呈中间低、两边高的孤形,高、低相差小于1.5公分。

【技术特征摘要】
1.宽地膜栽植新技术,其特征在于采用2.4 3. 0米宽的地膜覆盖农作物;地膜厚度 为0. 00007mm 0. 00009mm。垄的高度为5 士0. 3公分...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵夫缘
申请(专利权)人:赵夫缘
类型:发明
国别省市:62

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