气体分析光学平台制造技术

一种气体分析光学平台，包括气室管、发光元件和光敏元件，其特点在于发光元件固定在一个气室座内，光敏元件固定在另一个气室座内，两个气室座分别与气室管的两端套接。本实用新型专利技术以气室管作为安装基准，只要将两个气室座套在气室管的两端就能使发光元件与光敏元件自行对正，提高了安装精度。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及用于分析气体的气体分析光学平台。
技术介绍
气体分析光学平台广泛应用在机动车尾气检测等各种场合。气体分析光学平台的主要结构包括气室管、位于气室管一端的发光元件以及位于气室管另一端的光敏元件，发光元件发出的光经过气室管投射到光敏元件上。发光元件与光敏元件是否对正，直接影响到气体分析光学平台的测量精度。然而在现有的气体分析光学平台中，发光元件与光敏元件之间没有一个可帮助对正的安装基准，难以保证发光元件与光敏元件的光轴在同一直线上。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种易于保证发光元件与光敏元件安装精度的气体分析光学平台。本技术是这样实现的：气体分析光学平台包括气室管、发光元件和光敏元件，特别地，发光元件固定在一个气室座内，光敏元件固定在另一个气室座内，两个气室座分别与气室管的两端套接。本技术以气室管作为安装基准，只要将两个气室座套在气室管的两端就能使发光元件与光敏元件自行对正，由此提高了安装精度。本技术的优点是即提高了安装精度又便于安装，大大提高了气体分析光学平台的测量精度。附图说明图1是实施例1的结构示意图；图2是实施例2的结构示意图。具体实施方式实施例1参见图1，气体分析光学平台本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体分析光学平台，包括气室管、发光元件和光敏元件，其特征是：发光元件固定在一个气室座内，光敏元件固定在另一个气室座内，两个气室座分别与气室管的两端套接。

【技术特征摘要】
1.一种气体分析光学平台，包括气室管、发光元件和光敏元件，其特征是：发光元件固定在一个气室座内，光敏元件固定在另一个气室座内，两个气室座...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏启源，肖泽民，
申请(专利权)人：佛山市南华仪器有限公司，
类型：实用新型
国别省市：44[中国|广东]