一体化氧化沟制造技术

技术编号:6155309 阅读:238 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术是对一体化氧化沟的改进,包括氧化沟池体,底或中下部的曝气装置,处理流程末端内置分隔沉淀区,其特征是氧化沟池体中有悬浮型填料,至少沉淀区进水口有填料阻拦网,沉淀区内置横人字形折板或折管泥水分离填料。达到既加大氧化沟中微生物量,使处理容积负荷得到提高,又使得增加的生物量主要集中于悬浮填料上,使得氧化沟水中实际悬浮污泥浓度并不增加或还有减少,可以控制在3000mg/l以下,使内置分隔沉淀区可以按高负荷设计,增加生物量不增加沉淀区面积或还有适当减少,实际有效节省了氧化沟占地面积,占地较普通深沟型氧化沟节省1/3-1/5,较带沉淀区的深沟型氧化沟节省10-20%,悬浮型生物填料还可节约运行能耗可降低20-30%。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是对一体化氧化沟的改进,尤其涉及一种氧化沟生物量高,水中悬浮污泥 少,内置沉淀区面积小,底曝气升深沟型的一体化氧化沟。
技术介绍
氧化沟工艺作为活性污泥工艺的革新,与传统活性污泥法相比,具有工艺流程简 单、运行管理方便、处理效果稳定、出水水质好等特点,在污水处理中是应用较多的一种成 熟水处理技术,在水处理中占有相当高的应用比例。氧化沟通常都是以表曝装置例如转盘、 转刷、表曝机等,同时实现向水中供氧和推流循环,然而由于混合泥水循环仅靠表面推流带 动,因此通常沟深较浅一般不超过4. 5米,下游加装导流板也只是适当增加深度,或者改善 底部流态降低污泥沉淀。表曝推流供氧,不仅降低了充氧的利用率,而且污泥浓度受到限制 不能提高,通常氧化沟设计污泥浓度< 3500mg/l,导致污泥负荷小,处理停留时间长,造成 占地相对较大,因而氧化沟占地大,污泥浓度低,成为传统氧化沟推广的重要障碍。中国专利CN1693235A气升式深水型氧化沟,采用间隔设置底部曝气代替表曝,利 用曝气气升带动整体水流向上流动,从而成为整个氧化沟运行的动力源,从而使沟深得到 加大,同时污泥浓度及氧利用率得到提高本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一体化氧化沟,包括氧化沟池体,底或中下部的曝气装置,处理流程未端内置分隔沉淀区,其特征在于氧化沟池体中有悬浮型填料,至少沉淀区进水口有填料阻拦网,沉淀区内置横人字形折板或折管泥水分离填料。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:杨超杭品艳杭明辉刘滨张宇
申请(专利权)人:江苏一环集团有限公司江苏一环集团环保工程有限公司江苏一环环保设计研究院
类型:发明
国别省市:32

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