用于提供光辐射的设备制造技术

一种用于提供光辐射(381)的设备(380)，该设备包括：种子激光器(382)，其用于提供播种辐射(387)；至少一个放大器(383)，其用于对所述播种辐射(387)进行放大；以及反射器(384)，其中，所述种子激光器(382)是法布里珀罗半导体激光器，所述种子激光器(382)经由所述反射器(384)而连接到所述放大器(383)，所述反射器(384)被布置成将由所述种子激光器(382)所发出的所述播种辐射(387)的某一比率的播种辐射(388)反射回到所述种子激光器(382)中，并且所述放大器(383)包括光纤(1)，该光纤(1)包括折射率为n1的芯(3)和折射率为n2的基座(4)，并且其中，所述光纤(1)包括包围所述基座(4)的由折射率为n3的玻璃制成的第一包层(5)，其中，n1大于n2，且n2大于n3。

Apparatus for providing light radiation

\u4e00\u79cd\u7528\u4e8e\u63d0\u4f9b\u5149\u8f90\u5c04(381)\u7684\u8bbe\u5907(380)\uff0c\u8be5\u8bbe\u5907\u5305\u62ec\uff1a\u79cd\u5b50\u6fc0\u5149\u5668(382)\uff0c\u5176\u7528\u4e8e\u63d0\u4f9b\u64ad\u79cd\u8f90\u5c04(387)\uff1b\u81f3\u5c11\u4e00\u4e2a\u653e\u5927\u5668(383)\uff0c\u5176\u7528\u4e8e\u5bf9\u6240\u8ff0\u64ad\u79cd\u8f90\u5c04(387)\u8fdb\u884c\u653e\u5927\uff1b\u4ee5\u53ca\u53cd\u5c04\u5668(384)\uff0c\u5176\u4e2d\uff0c\u6240\u8ff0\u79cd\u5b50\u6fc0\u5149\u5668(382)\u662f\u6cd5\u5e03\u91cc\u73c0\u7f57\u534a\u5bfc\u4f53\u6fc0\u5149\u5668\uff0c\u6240\u8ff0\u79cd\u5b50\u6fc0\u5149\u5668(382)\u7ecf\u7531\u6240\u8ff0\u53cd\u5c04\u5668(384)\u800c\u8fde\u63a5\u5230\u6240\u8ff0\u653e\u5927\u5668(383)\uff0c\u6240\u8ff0\u53cd\u5c04\u5668(384)\u88ab\u5e03\u7f6e\u6210\u5c06\u7531\u6240\u8ff0\u79cd\u5b50\u6fc0\u5149\u5668(382)\u6240\u53d1\u51fa\u7684\u6240\u8ff0\u64ad\u79cd\u8f90\u5c04(387)\u7684\u67d0\u4e00\u6bd4\u7387\u7684\u64ad\u79cd\u8f90\u5c04(388)\u53cd\u5c04\u56de\u5230\u6240\u8ff0\u79cd\u5b50\u6fc0\u5149\u5668(382)\u4e2d\uff0c\u5e76\u4e14\u6240\u8ff0\u653e\u5927\u5668(383)\u5305\u62ec\u5149\u7ea4(1)\uff0c\u8be5\u5149\u7ea4(1)\u5305\u62ec\u6298\u5c04\u7387\u4e3an1\u7684\u82af(3)\u548c\u6298\u5c04\u7387\u4e3an2\u7684\u57fa\u5ea7(4)\uff0c\u5e76\u4e14\u5176\u4e2d\uff0c\u6240\u8ff0\u5149\u7ea4(1)\u5305\u62ec\u5305\u56f4\u6240\u8ff0\u57fa\u5ea7(4)\u7684\u7531\u6298 A first cladding (5) made of glass with a emissivity of N3, wherein N1 is greater than N2 and N2 is greater than n3.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于提供光辐射的设备。该设备可以形成用于材料加工的设备的 ■石出。
技术介绍
脉冲光纤激光器越来越多地被采用作为许多工业应用(例如，显微机械加工、钻孔和打标(marking))中所选择的激光器。在受峰值功率驱动的应用(例如，打标)中，为了实现较快的字符打标及产量的增加，以高重复频率保持高峰值功率(超过2. 5kff至5kW) 是必要的。传统的单级调Q激光器在存储能量方面非常有效。然而，它们由可变平均功率来表征，并且实际的峰值功率随重复频率的增加而下降。在大多数情况下，峰值功率可以下降到加工(例如，打标)阈值以下，对速度和产量造成不利影响。另一方面，主振功率放大器 (MOPA)结构可以对脉冲激光器的脉冲特性和功率性能提供更多的可控性，并将打标单元的操作空间延伸到较高的重复频率从而提供增加的打标速度。需要以超过200kHz的重复频率将峰值功率保持在5kW以上的水平的脉冲激光器。平均功率应当超过10W，脉冲能量在 0. ImJ至0. 5mJ的范围中或更高，脉冲持续时间在IOns与200ns之间变化，而脉冲功率应当以IOkHz至大于200kHz的范围中的重复频率在约5kW本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种用于提供光辐射的设备，该设备包括：种子激光器，其用于发出播种辐射；至少一个光学放大器；反射器；以及控制器，其中，所述种子激光器是法布里珀罗半导体激光器，所述播种辐射包括多个种子激光器脉冲，所述种子激光器经由所述反射器而连接到所述光学放大器，所述种子激光器脉冲由所述光学放大器放大，以产生光学辐射，所述光学辐射包括输出脉冲，所述输出脉冲由峰值功率、脉冲能量和脉冲重复频率来表征，并且所述设备的特征在于：所述反射器被布置成将由所述种子激光器发出的所述播种辐射中的某一比率的播种辐射反射回到所述种子激光器中，并且，所述控制器控制所述种子激光器来改变种子激光器脉冲的形状，以将峰值功率保持在３ｋＷ以上...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·K·德金，F·吉林盖利，A·M·吉洛利，L·M·B·赫基，S·R·诺曼，D·N·佩恩，A·派柏，J·K·撒胡，M·N·泽尔维斯，
申请(专利权)人：SPI激光器英国有限公司，
类型：发明
国别省市：GB