亚波长孔口制造技术

本发明专利技术提供一种在检测体积中检测发光团存在的方法，其包括在所述检测体积中提供激发辐射。发光团提供于可由所述激发辐射激发的所述检测体积中。检测该发光辐射以确定所述发光团在所述检测体积中的存在。在本发明专利技术的一个方面，所述发光团被选择成发出在所述介质中的波长大于所述最小尺寸两倍的发光辐射；以及，其中所述发光团被选择成可由在所述介质中的波长小于所述最小尺寸两倍的激发辐射来激发。因此，除了存在于孔口界面上的部分之外，发光辐射被阻挡不能进入检测器。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在检测体积中检测发光团存在的领域。
技术介绍
US2005244863公开了 一种利用隐失波来激发发光团的配置。隐失波为快速衰减的电磁场，由于亚波长孔口，所以其不能传播。在此公开内容中，提供激发辐射以作为隐失波穿透包含生物分子的混合物。隐失波由具有亚波长孔口的结构产生。但是，该孔口仅允许透射所产生的辐射中的 一小部分。这使得有限量的发光用于检测目的。
技术实现思路
因而存在对于增加发光辐射量的需要。因此，在本专利技术的一个方面，提供一种在检测体积中检测发光团存在的方法，该方法包括在所述检测体积中提供激发辐射；在所述检测体积中提供位于介质中的发光团，该发光团可由激发辐射来激发以发出发光辐射；以及，由检测器来检测穿过所述检测体积的孔口的所述发光辐射的至少 一偏振分量，所述孔口具有平面内最小尺寸；其中，所述发光团被选择成在所述介质中发出在所述介质中的波长大于所述最小尺寸两倍的发光辐射；以及，其中，所述发光团被选择成由在所述介质中的波长小于所述最小尺寸两倍的激发辐射来激发。在本专利技术的另 一方面，提供一种用于在检测体积中检测发光团存在的装置，包括检测体积；该检测体积包括具有平面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在检测体积（１０１）中检测发光团（５，６）存在的方法，包括：　在所述检测体积（１０１）中提供激发辐射（３）；　在所述检测体积（１０１）中提供位于介质中的发光团（５，６），所述发光团（５，６）可由所述激发辐射（３）激发来发 出发光辐射（４）；以及　由检测器（１０）来检测穿过所述检测体积（１０１）的孔口（１）的所述发光辐射（４）的至少一偏振分量，所述孔口（１）具有平面内最小尺寸（１０２）；　其中所述发光团（５，６）被选择成发出在所述介质中的波长大于所 述最小尺寸两倍的发光辐射（４）；以及，其中所述发光团（５，６）被选择成可由在所述介质中的波长小于...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：MMJW范赫彭，DJW克伦德，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]