创建用于微调配方的模型的方法和布置组成比例

提供一种用于由等离子体处理系统的用户创建用于采集有关处理后的衬底的测量数据的模型的布置。该布置包括通用模型生成器，其被配置为用于至少创建该模型。该模型是一组输入数据和一组输出数据之间的关系。该布置还包括输入模块，其包括来自多个输入源的该组输入数据。该布置包括输入调节和确认模块，其被配置为用于至少确定该组输入数据的完整性。该布置进一步包括关系模块，其被配置为用于至少创建一组数学关系。该布置又包括输出调节和确认模块，其被配置为用于至少确定该组输出数据的完整性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】创建用于微调配方的模型的方法和布置
技术介绍
等离子体处理的进步推动了半导体工业的成长。通常，从一个处理过的晶片中可 以形成多个半导体器件。长时间以来，已经使用配方(recipe)来提供用于形成半导体器件 的各步骤。然而，由于外部条件，比如不同的室的条件，需要调整配方以体现各种变化。一种常用的调整配方的方法是通用配方微调法。使用通用配方微调法，一个或多 个晶片可以在被处理过之后用独立的测量工具来测量。然而，使用该通用配方微调法，测量 数据通常不能被马上应用以调整当前批晶片的配方。相反，测量值可以前馈并被用于下一 批晶片的配方的微调。因此，如果对当前的室鉴别出配方的问题，直到当前批的晶片处理完 才能应用从测量值得到的知识。近年来，已经实现了能够进行联线测量，从而能够将测量当作反馈发送到该等离 子体处理系统的工艺控制计算机的集成测量方法。因此，可以对配方进行微调以便同一批 晶片中的下一个晶片能够受益于调整后的配方。换句话说，与通用配方微调法不同，集成测 量方法可用于对当下批的晶片的配方进行调整而不是必须等到当前批的配方被处理完后。使用通用配方微调法以及尤其是集成测量方法，可以获得多个测量值(例如侧壁 角测量值、边缘和中心之间的临界尺寸、用于确定一致性的测量值)。为了采集测量数据，可 以使用一个或多个模型来采集必要的测量值以确定需要对配方进行的调整。此处所述的模型指的是一个或多个输入与一个或多个输出之间的关系。该关系是 一种通常用方程表示的数学关系。通常，该方程是针对特定配方的。输入数据可以来自各 种来源，包括但不限于，传感器数据、工艺数据和软件数据。输出通常被用于整修配方的一 个参数。随着时间的推移，可以创建新的模型或修改现有模型。在一个实施例中，如果配方 的改变引入了新的参数，那么必须创建新的模型。在另一个实施例中，如果一个参数改变 了，那么需要修改用于产生针对该参数的测量数据的模型。在又一个实施例中，在引入新的 配方时需要创建新的模型。尽管需要新的或修改过的模型有许多原因，然而创建新模型和/或修改当前模型 的过程通常并不是一个简单的任务。该过程通常涉及至少两方工具用户和软件工程师。 工具用户通常是拥有该等离子体处理系统的公司的雇员。工具用户可能已经确定了创建 新的模型和/或调整当前模型的需要。因此，工具用户通常负责向软件工程师提供规格 (specifications)。软件工程师通常不是该公司的雇员，他通常与该等离子体处理系统的 制造商有关。为了便于讨论，图1显示了获得新模型的一种现有技术方法的简单流程图。考虑 这种情况，例如，其中公司A拥有的等离子体处理系统的工具用户已经确定了对新模型的需要。在第一个步骤102中，该工具用户可以确定该模型的各参数。换句话说，该工具用 户必须确定输入、方程和所需的输出。在下一个步骤104中，该工具用户可向外方提供所需的参数。因为该工具用户必须通过外方(即，软件工程师)以创建和/或修改一个模型，该工具用户可能必须与该外方 分享专有信息。在一个实施例中，用于蚀刻晶片的配方可能包括一些步骤，这些步骤给公司 A带来了相对公司B的竞争优势。然而，因为来自公司A的工具用户想要创建新模型，该工 具用户可能必须向该外方提供有关该配方的专有数据以使该外方修改该模型。修改当前模型和/或产生新模型的当前方法对该工具用户和该等离子体处理系 统的制造商都带来了潜在的知识产权风险。本领域的技术人员会意识到，配方可能包括提 供公司对其竞争对手的独特优势的专有数据。因此，通过与外方分享有关该配方的细节，该 工具用户将该专有数据的至少一部分暴露给了外方。另外，可能会使一部分知识产权(例如，专有配方)被公开于非预定用户。在一个 实施例中，与该等离子体处理系统有关的工程师可能同时为两个相互竞争的公司同时开发 模型。在他与客户互动过程中，该工程师可能无意地将本应发送到公司A的模型发送到他 在公司B的联系人。由于工程师的大意行为，公司A的专有信息被无意地共享了而该等离 子体处理工具的工程师和制造商是有责任的。除了潜在的知识产权泄露之外，创建和/或修改模型的任务在该任务完成前可能 要花费数个星期(如果不是数个月的话)。很长的周转时间是一些原因的结果。第一，因为 该工具用户必须与外方(即，软件工程师)一起工作以完成创建和/或修改模型的任务，所 以完成该任务的周转时间取决于该外方的工作排程。在一个实施例中，由于该软件工程师 的繁忙排程，该软件工程师可能要在两个月以后才能处理该工具用户的请求。第二，很长的 周转时间还可能部分由于该外方必须使自己先熟悉该配方。第三，该工艺可能要求在具有 嵌入模型的新代码被移入生产过程并对微调配方生效之前，该软件工程师和该工具用户两 者都进行至少一个测试周期以测试对代码的改变。在下一个步骤106中，该工具用户可以接收该模型并用该模型执行一次试运行。 换句话说，一旦工程师创建该模型之后，该模型可以被发送到该工具用户以进行测试。在下一个步骤108中，该工具用户根据其规格确定是否执行该模型。如果不执行 的话，那么重复步骤104和106。然而，如果不需要更多的改变的话，那么在下一个步骤110中，该工具用户可接收 他的当前等离子体处理系统的系统软件程序的新的生产拷贝，其中该新模型嵌入了该系统 软件。一旦该工具用户接收到新的生产版本之后，更多的改变可能需要再次重复整个过程。在下一个步骤112中，该工具用户可以在生产中运行具有嵌入的模型的新的软件 代码。在现有技术中，该模型不耦合于该配方。因此，该工具用户可能需要对该配方和该模 型有足够的知识以确定哪个模型最适合那个配方步骤。另外，该工具用户可能需要知道何 时单一配方步骤会需要超过一个模型以微调该配方以体现各种变化，比如不同的处理室条 件。在一个实施例中，当前正在室B中处理的那批晶片以前是在室A中处理的。然而， 室B的条件与室A的条件稍有不同；因此，该配方必须被微调以体现该不同的处理环境。该 工具用户通常负责确定提供必要的测量数据以执行该微调的那组模型。如果该工具用户缺 乏经验和/或技能，那么该工具用户就不能快速地确定正确的模型和/或可能没有意识到 需要执行两个不同的模型以获得必要的数据以执行该配方的微调。在图1中可以看出，模型建立和/或修改的任务是一种机械的、耗时的过程，它要求外方的协作以实现该任务。因此，该现有技术方法可能会带来知识产权泄露的可能。另 外，该现有技术方法可能需要该工具用户对该配方和该模型有还算好的了解以正确地应用 该模型以产生可以用于微调配方的测量数据。
技术实现思路
在一个实施方式中，本专利技术涉及用于由等离子体处理系统的用户创建用于采集有 关处理后的衬底的测量数据的模型的布置。该布置包括通用模型生成器，其被配置为用于 至少创建该模型。该模型是一组输入数据和一组输出数据之间的关系。该布置还包括输入 模块，其包括来自多个输入源的该组输入数据。该布置包括输入调节和确认模块，其被配置 为用于至少确定该组输入数据的完整性。该布置进一步包括关系模块，其被配置为用于至 少创建一组数学关系。该布置又包括输出调节和确认模块，其被配置为用于至少确定该组 输出数据的完整性。上述概述仅涉及本文公开的许多实施方式中的一个且不意在限制本专利技术的范围， 本专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于由等离子体处理系统的用户创建用于采集有关处理后的衬底的测量数据的模型的布置，包含：通用模型生成器，所述通用模型生成器被配置为用于至少创建所述模型，所述模型是一组输入数据和一组输出数据之间的关系；输入模块，所述输入模块包括来自多个输入源的所述组输入数据；输入调节和确认模块，所述输入调节和确认模块被配置为用于至少确定所述组输入数据的完整性；关系模块，所述关系模块被配置为用于至少创建一组数学关系；以及输出调节和确认模块，所述输出调节和确认模块被配置为用于至少确定所述组输出数据的完整性。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US 2007-9-28 60/976,165一种用于由等离子体处理系统的用户创建用于采集有关处理后的衬底的测量数据的模型的布置，包含通用模型生成器，所述通用模型生成器被配置为用于至少创建所述模型，所述模型是一组输入数据和一组输出数据之间的关系；输入模块，所述输入模块包括来自多个输入源的所述组输入数据；输入调节和确认模块，所述输入调节和确认模块被配置为用于至少确定所述组输入数据的完整性；关系模块，所述关系模块被配置为用于至少创建一组数学关系；以及输出调节和确认模块，所述输出调节和确认模块被配置为用于至少确定所述组输出数据的完整性。2.根据权利要求1所述的布置，其中所述多个输入源包括用户定义源、测量前数据源、 测量后数据源、传感器数据源、端点数据源和软件计算数据源。3.根据权利要求2所述的布置，其中所述关系模块被配置为用于将一组输入变量映射 到所述组输入数据。4.根据权利要求3所述的布置，其中所述关系模块被配置为包括数学表达式元件、矩 阵变换微调元件和定制数学表达式元件中的至少一个。5.根据权利要求4所述的布置，其中所述组输出数据与配方给定值、用于另一个数学 关系的输入数据和用于执行缺陷检测的数据中的至少一个有关。6.根据权利要求5所述的布置，其中通过输入用于所述输入调节和确认模块和所述输 出调节和确认模块的至少一个的参数的值而从所述模型创建一组模板。7.根据权利要求6所述的布置，其中所述组模板的一个模板与第一配方步骤有关。8.一种由等离子体处理系统的用户创建用于采集有关处理后的衬底的测量数据的模 型的方法，包含激活通用模型生成器，所述通用模型生成器被配置为用于至少创建所述模型，所述模 型是一组输入数据和一组输出数据之间的关系；对输入调节和确认模块建立滤波条件和确认规则的至少一个，所述输入调节和确认模 块被配置为用于至少确定所述组输入数据的完整性；创建一组数学关系，其中所述组数学关系的第一数学关系包括一组输入变量的至少第 一输入变量和一组数学运算符，所述第一数学关系被配置为用于至少提供所述组输出数据 的第一输出数据；以及对输出调节和确认模块建立滤波条件和确认规则的至少一个，所述输出调节和确认模 块被配置为用于至少确定所述组输出数据的完整性。9.根据权利要求8所述的方法，进一步包括将所述组输入变量映射到从多个输入源接 收的所述组输入数据。10.根据权利要求9所述的方法，其中所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄忠河，常L许，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]