光记录方法和光记录装置制造方法及图纸

技术编号:5446287 阅读:208 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
在按照写策略参数在光记录介质(500)中记录信息的记录方法中,在反复进行针对光盘(500)的规定量信息的记录(S23)、和中断记录而等待向缓存器(190)存储数据的待机状态(S22)的情况下,在记录中断的期间,再现之前刚刚记录的信息,测定该再现信号的质量(S25A),根据需要变更写策略(S25C),由此得到稳定的记录质量。将在一次的中断期间内进行的校正限定为一次。针对光盘上的记录位置的变化、记录条件的变化,能够得到稳定的记录质量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于对光盘进行信息记录的光记录方法和光记录装置,特别涉及在记录时使用的写策略的校正方法。
技术介绍
为了对光盘进行信息记录,需要结合光盘的特性适当地调整记录时使用的写策 略,一般地,光记录装置按照每个光盘的ID(识别信息)来保持最佳的写策略并用于记录。但是,这样在针对光盘使用固有的最佳的写策略的情况下,由于光盘或光记录装 置的个体差异,未必一定能够以良好的记录质量进行记录。并且,存在如下问题在光盘的 翘曲大的情况下、记录特性不均一的情况下、或者记录中的温度变化带来影响的情况下,有 时记录质量恶化。作为其对应策略,在产生温度变化的情况下、记录速度改变的情况下、或者是按照 一定的时间间隔,临时中断记录,对写策略进行校正或优化(例如参照专利文献1 4)。并 且,公知如下技术每次对光盘写入规定量的信息时,读出与周边温度对应的第1记录脉冲 模式以及变化为周边温度附近时的第2记录脉冲模式,在光盘中写入信息,将利用第1和第 2记录脉冲模式写入的信息的错误率低的记录脉冲模式作为写入用的记录脉冲模式(专利 文献5)。而且,公知如下技术按照每个温度参数存储多个调整量,根据光学头附近的温度 来选择调整量。专利文献1 日本特开2006-302332号公报(第1-18页、第1-16图)专利文献2 日本特开2007-200389号公报(第1-20页、第1-16图)专利文献3 日本特开2007-200435号公报(第1-9页、第1-9图)专利文献4 日本特开2007-213674号公报(第1-9页、第1-5图)专利文献5 日本特开2007-234188号公报(第1-13页、第1-7图)专利文献6 日本特开2007-273021号公报(第1-11页、第1-13图)在上述现有的光记录装置中,在记录中途临时中断记录并反复进行试写,对写策 略进行校正或优化,但是,由于反复进行该试写,需要大量的记录所需要的时间。因此,在对 广播节目进行录像的情况下,在试写需要大量时间的情况下,在光记录装置中临时存储在 存储缓冲区中的广播节目数据在存储缓冲区容量以上,存在数据失败的问题。
技术实现思路
本专利技术是为了解决上述问题而完成的,其目的在于,得到能够高效地进行写策略 的校正和优化的光记录方法和光记录装置。本专利技术的光记录方法按照由多个参数构成的与记录数据长度对应的写策略,在光 记录介质上照射激光,由此在光记录介质中记录信息,其特征在于,通过交替重复进行信息 记录的记录期间和中断记录的中断期间来记录信息,所述光记录方法具有以下步骤写策 略校正步骤,在该步骤中,在所述中断期间,再现在前一记录期间记录的信息,根据再现信号的质量来校正写策略参数;以及使用在所述写策略校正步骤中校正的写策略参数来进行 下一记录期间中的上述记录的步骤,所述写策略校正步骤包含以下步骤质量测定步骤,在 该步骤中,测定之前刚刚记录的信号的质量;以及写策略变更步骤,在该步骤中,根据在所 述质量测定步骤中测定的再现信号的质量来变更写策略,在一次的所述中断期间中,所述 写策略校正步骤中的写策略的变更仅进行一次。根据本专利技术,在一次的记录中断期间中仅变更一次写策略参数,所以,能够缩短中 断期间。另一方面,针对每个设定校正间隔来校正写策略参数,所以,能够防止在光记录介 质例如光盘的翘曲大的情况下、记录特性不均一的情况下、或者记录中的温度变化带来影 响的情况下的记录质量恶化,能够进行质量稳定的记录。 附图说明图1是示出本专利技术的实施方式的光记录再现装置的框图。图2(a) (C)是示出在本专利技术的实施方式的再现特性测定部中测定的再现信号 的不对称的例子的图。图3是示出在本专利技术的实施方式的再现特性测定部中测定的再现信号的调制度 的例子的图。图4(a) (e)是示出在本专利技术的实施方式的光记录再现装置中、在针对光盘的记 录为EFM+(8-16)调制时(DVD的情况)生成的写策略的一例的图。图5是示出本专利技术的实施方式的光记录再现装置所保持的写策略的列表的一例 的图。图6是示出本专利技术的实施方式1的光记录再现装置中的记录步骤的一例的流程 图。图7是示出本专利技术的实施方式1的光记录再现装置中的记录步骤的另一例的流程 图。图8是示出本专利技术的实施方式1的光记录再现装置中的写策略校正步骤的一例的 流程图。图9是示出本专利技术的实施方式1的光记录再现装置中的写策略校正步骤的另一例 的流程图。图10是示出本专利技术的实施方式1的光记录再现装置中的写策略校正步骤的另一 例的流程图。图11是示出本专利技术的实施方式1的光记录再现装置中的写策略校正步骤的又一 例的流程图。图12是示出本专利技术的实施方式1的光记录再现装置中的写策略校正步骤的又一 例的流程图。图13是示出本专利技术的实施方式1的光记录再现装置中的写策略校正步骤的另一 例的流程图。图14是示出图13的步骤S38的倾斜校正步骤的一例的流程图。图15是示出本专利技术的实施方式3的光记录再现装置中的写策略校正步骤的流程 图。图16是示出本专利技术的实施方式4的光记录再现装置中的写策略校正步骤的流程 图。图17是示出本专利技术的实施方式5的光记录再现装置中的记录步骤的流程图。图18是示出本专利技术的实施方式5的光记录再现装置中的写策略校正步骤的流程 图。图19是示出本专利技术的实施方式6的光记录再现装置中的记录步骤的流程图。图20是示出本专利技术的实施方式7的光记录再现装置中的写策略校正步骤的流程 图。 标号说明100 光记录再现装置;110 前置放大器;120 再现信号处理部;130 记录质量测 定部;140 数据解码器;150 再现特性测定部;160 数据编码器;170 写策略控制部;180 伺服控制部;181 主轴电动机;182 螺旋电动机;190 缓存器;200 :中央控制部;210 CPU ;220 =ROM ;230 =RAM ;300 光学头;310 半导体激光器;320 激光器驱动电路;330 准 直透镜;340 光束分离器;350 物镜;360 检测透镜;370 受光元件;400 上位控制器; 500 光盘。具体实施例方式实施方式1下面,参照附图说明本专利技术的实施方式。以下说明的实施方式中的光记录方法进行标记边缘记录(mark edgerecording) (PWM记录)。而且,根据要在光盘上记录的数据,按照写策略(记录中使用的激光器发光波 形规则)使半导体激光器发光,形成记录标记,由此进行信息记录。图1是示出本专利技术的实施方式1的光记录再现装置100的基本结构例的图。这 里,图1的光记录再现装置100示出向光盘500记录经EFM+(8-16)调制的记录数据的情况 (例如光盘500是DVD的情况)。伺服控制部180对用于使光盘500旋转的主轴电动机181、用于使光学头300的位 置移动的螺旋电动机182、以及光学头300的致动器(未图示)进行控制。来自光学头300的再现信号利用前置放大电路110放大,并被输入到中央控制部 200。所输入的信号利用中央控制部200进行地址信息的解码,得到光学头300的当前位置。对伺服控制部180提供由当前位置得到的地址信息与应该存取的位置(存取对象 位置)的地址信息的差分,由此,伺服控制部180控制螺旋电动机182,使光学头300向存取 对象位置移动。并且,本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种光记录方法,该光记录方法按照由多个参数构成的与记录数据长度对应的写策略,在光记录介质上照射激光,由此在光记录介质中记录信息,其特征在于,通过交替重复进行信息记录的记录期间和中断记录的中断期间来记录信息,所述光记录方法具有:在所述中断期间中,再现在前一记录期间中记录的信息,根据再现信号的质量来校正写策略参数的写策略校正步骤;以及使用在所述写策略校正步骤中校正后的写策略参数来进行下一记录期间中的上述记录的步骤,所述写策略校正步骤包含:质量测定步骤,在该步骤中,测定之前刚刚记录的信号的质量;以及写策略变更步骤,在该步骤中,根据在所述质量测定步骤中测定的再现信号的质量来变更写策略,在一次的所述中断期间中,所述写策略校正步骤中的写策略变更仅进行一次。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2007-11-26 2007-303930;JP 2008-4-14 2008-104725一种光记录方法,该光记录方法按照由多个参数构成的与记录数据长度对应的写策略,在光记录介质上照射激光,由此在光记录介质中记录信息,其特征在于,通过交替重复进行信息记录的记录期间和中断记录的中断期间来记录信息,所述光记录方法具有在所述中断期间中,再现在前一记录期间中记录的信息,根据再现信号的质量来校正写策略参数的写策略校正步骤;以及使用在所述写策略校正步骤中校正后的写策略参数来进行下一记录期间中的上述记录的步骤,所述写策略校正步骤包含质量测定步骤,在该步骤中,测定之前刚刚记录的信号的质量;以及写策略变更步骤,在该步骤中,根据在所述质量测定步骤中测定的再现信号的质量来变更写策略,在一次的所述中断期间中,所述写策略校正步骤中的写策略变更仅进行一次。2.根据权利要求1所述的光记录方法,其特征在于, 所述光记录方法还具有将从外部供给的信息写入缓存器后,从该缓存器中读出该信息并记录在所述光存储介 质中的步骤;根据所述缓存器内的数据量来控制所述记录期间的开始和所述中断期间的开始的步 骤 ’以及在所述中断期间中检测是否是校正时机的校正时机检测步骤, 以在所述校正时机检测步骤中检测为是所述校正时机为条件,进行所述中断期间中的 所述写策略校正步骤的处理。3.根据权利要求1所述的光记录方法,其特征在于,所述光记录方法还具有校正时机检测步骤,在该步骤中,检测是否是校正时机, 所述光记录方法还具有中断期间开始步骤,在该步骤中,以在所述校正时机检测步骤 中检测为是校正时机为条件,中断所述记录,开始所述中断期间,在通过所述中断期间开始步骤而开始的中断期间中,进行所述写策略校正步骤的处理。4.根据权利要求2或3所述的光记录方法,其特征在于,在所述校正时机检测步骤中,在针对所述光记录介质的记录开始后经过了规定的设定 校正间隔时,或者最近一次的所述写策略校正步骤的处理实施后经过了规定的设定校正间 隔时,检测为是所述校正时机。5.根据权利要求4所述的光记录方法,其特征在于,通过在所述记录介质中记录的信息量来指定所述设定校正间隔。6.根据权利要求4所述的光记录方法,其特征在于,通过所述记录介质上进行记录的部分的半径方向的位移量来确定所述设定校正间隔。7.根据权利要求1 6中的任一项所述的光记录方法,其特征在于,在所述写策略校正步骤中,在一次的所述中断期间中,写策略参数仅变更一级。8.根据权利要求3所述的光记录方法,其特征在于,所述光记录方法具有在所述写策略变更步骤中变更了写策略参数的情况下,使用变更后的写策略参数对数 据进行试记录的试记录步骤;测定在所述试记录步骤中所试记录的信号的质量的试记录质量测定步骤;以及 在所述试记录质量测定步骤中测定的信号质量劣于在所述质量测定步骤中测定的再 现信号质量的情况下,将在所述写策略变更步骤中变更的写策略参数还原的步骤。9.根据权利要求4 6中的任一项所述的光记录方法,其特征在于,所述写策略校正步骤还具有设定校正间隔更新步骤,在该步骤中,根据在所述质量测 定步骤中测定的再现信号质量,变更所述设定校正间隔。10.根据权利要求9所述的光记录方法,其特征在于,在所述设定校正间隔更新步骤中,在所述质量测定步骤中测定的再现信号质量优于规 定值的情况下,延长所述设定校正间隔,在所述质量测定步骤中测定的再现信号质量劣于 规定值的情况下,缩短所述设定校正间隔。11.根据权利要求1 10中的任一项所述的光记录方法,其特征在于,所述光记录方法还具有记录功率校正步骤,在该步骤中,在所述中断期间中,测定之前 刚刚记录的信号的再现特性,根据所测定的再现信号的特性,进行记录功率的校正,在一次的所述中断期间中,仅执行所述写策略校正步骤和所述记录功率校正步骤中的 任意一方。12.根据权利要求11所述的光记录方法,其特征在于, 交替进行所述记录功率校正步骤和所述写策略校正步骤。13.根据权利要求11所述的光记录方法,其特征在于,所述光记录方法还具有记录功率检查步骤,在该步骤中,针对在所述记录功率校正步 骤中校正的记录功率,判断是否需要进一步校正记录功率,在所述记录功率检查步骤中判断为不需要校正记录功率的情况下,在与进行该记录功 率检查步骤相同的中断期间内,执行所述写策略校正步骤。14.根据权利要求1 13中的任一项所述的光记录方法,其特征在于,所述光记录方法还具有倾斜校正步骤,在该步骤中,在所述中断期间中,测定之前刚刚 记录的信号的再现特性,根据所测定的再现信号的特性,进行倾斜的校正,在一次的所述中断期间中,仅执行所述写策略校正步骤、所述记录功率校正步骤和所 述倾斜校正步骤中的任意一方。15.根据权利要求14所述的光记录方法,其特征在于,所述光记录方法还具有记录功率校正步骤,在该步骤中,在所述中断期间中,测定之前 刚刚记录的信号的再现特性,根据所测定的再现信号的特性,进行记录功率的校正,所述光记录方法还具有记录功率检查步骤,在该步骤中,针对在所述记录功率校正步 骤中校正的记录功率,判断是否需要进一步校正记录功率,在所述记录功率检查步骤中判断为不需要校正记录功率的情况下,在与进行该记录功 率检查步骤相同的中断期间内,执行所述写策略校正步骤和所述倾斜校正步骤。16.根据权利要求10 15中的任一项所述的光记录方法,其特征在于,所述光记录方法还具有半径位置检测步骤,在该步骤中,检测向光记录介质记录信息部分的半径方向位置,在所述设定校正间隔更新步骤中,在所述半径位置检测步骤中检测到的半径方向位置 是光记录介质的内周侧的情况下,延长根据在所述质量测定步骤中测定的再现信号质量而 决定的所述设定校正间隔,在检测到的半径方向位置是光记录介质的外周侧的情况下,缩 短根据在所述质量测定步骤中测定的再现信号质量而决定的所述设定校正间隔。17.根据权利要求10 16中的任一项所述的光记录方法,其特征在于,所述光记录方法还具有温度检测步骤,在该步骤中,检测与开始记录时相差的温度差, 在所述设定校正间隔更新步骤中,在所述温度检测步骤中检测到的温度差为规定值以 上的情况下,缩短根据在所述质量测定步骤中测定的再现信号质量而决定的所述设定校正 间隔。18.根据权利要求1 17中的任一项所述的光记录方法,其特征在于,所述写策略校正步骤具有记录功率变更步骤,在该步骤中,根据校正后的写策略的变 化量,变更记录功率,在所述记录功率变更步骤中,根据预先确定的写策略和变更前的记录功率之间的关系 以及在所述写策略校正步骤中校正后的写策略的变更量,决定在下一记录期间中使用的记 录功率。19.根据权利要求18所述的光记录方法,其特征在于, 所述光记录方法还具有记录功率和再现特性的关系测定步骤,在该步骤中,求出记录功率和再现特性之间的 关系;以及写策略和再现特性的关系计算步骤,在该步骤中,使用基准的写策略和再现特性之间 的关系、基准的记录功率和再现特性之间的关系、以及在所述记录功率和再现特性的关系 测定步骤中求出的记录功率和再现特性之间的关系,计算写策略和再现特性之间的关系,在所述写策略和再现特性的关系计算步骤中,根据在所述记录功率和再现特性的关系 测定步骤中求出的记录功率和再现特性之间的关系与所述基准的写策略和再现特性之间 的关系之比、以及所述基准的写策略和再现特性之间的关系,计算在所述记录功率变更步 骤中使用的写策略和再现特性之间的关系,在所述记录功率变更步骤中,根据在所述写策略校正步骤中校正的写策略的变更量、 在所述记录功率和再现特性的关系测定步骤中求出的记录功率和再现特性之间的关系、以 及在所述写策略和再现特性的关系计算步骤中计算出的校正后的写策略和再现特性的关 系,决定在下一记录期间中使用的记录功率。20.根据权利要求18所述的光记录方法,其特征在于, 所述光记录方法还具有记录功率和再现特性的关系测定步骤,在该步骤中,求出记录功率和再现特性之间的 关系;以及试写步骤,在该步骤中,测定写策略和再现特性之间的关系,在所述试写步骤中,变更写策略进行信息的试写,再现所述试写的信息,根据所测定的 再现信号,测定写策略和再现特性之间的关系,在所述记录功率变更步骤中,根据在所述记录功率和再现特性的关系测定步骤中求出的记录功率和再现特性之间的关系、以及在所述试写步骤中测定的校正后的写策略和再现 特性之间的关系,决定在下一记录期间中使用的记录功率。21.根据权利要求18 20中的任一项所述的光记录方法,其特征在于,所述写策略校正步骤还具有写策略和再现特性的关系校正步骤,在该步骤中,在所述 中断期间中,再现在前一记录期间记录的信息,根据再现信号的再现特性来校正写策略和 再现特性之间的关系,在所述写策略和再现特性的关系校正步骤中,根据前一记录期间记录的信号的再现特 性、上次校正写策略之前的再现特性、以及上次校正写策略时的写策略的变化量,求出写策 略和再现特性之间的关系的校正量,在下一记录功率变更步骤的记录功率的变更中,使用 对上次使用的写策略和再现特性之间的关系加上所述校正量而得到的写策略和再现特性 之间的关系。22.根据权利要求8 21中的任一项所述的光记录方法,其特征在于,所述写策略和再现特性之间的关系是由再现特性相对于写策略的变更量的变化量决 定的系数,所述记录功率和再现特性之间的关系是由记录功率相对于再现特性的变化量的变更 量决定的系数,所述写策略和记录功率之间的关系是由记录功率相对于写策略的变更量的变更量决 定的系数,是将表示所述写策略和再现特性之间的关系的系数与表示所述记录功率和再现 特性之间的关系的系数相乘而得到的系数。23.一种光记录装置,该光记录装置按照由多个参数构成的与记录数据长度对应的写 策略,在光记录介质上照射激光,由此在光记录介质中记录信息,其特征在于,通过交替重复进行信息记录的记录期间和中断记录的中断期间来记录信息,所述光记录装置具有写策略校正单元,其在所述中断期间中,再现在前一记录期间记录的信息,根据再现信 号的质量来校正写策略参数;以及使用由所述写策略校正单元校正的写策略参数来进行下一记录期间中的上述记录的 单元,所述写策略校正单元包含质量测定单元,其测定之前刚刚记录的信号的质量;以及写策略变更单元,其根据由所述质量测定单元所测定的再现信号质量来变更写...

【专利技术属性】
技术研发人员:岸上智
申请(专利权)人:三菱电机株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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