【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
异常胎先露校正架包括膝托(1)、膝挡(2)、胸托(4)、肩挡(5)、头托(6);其特征在于膝挡(2)、肩挡(5)位于垂直面上,而膝托(1)和胸托(4)位于水平面上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:孙明利,丛德宽,宋瑞香,姜晓婧,
申请(专利权)人:孙明利,丛德宽,宋瑞香,姜晓婧,
类型:实用新型
国别省市:37[中国|山东]
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