一种花洒的出水控制机构制造技术

一种花洒的出水控制机构，包括位于花洒头内的内密封壳、活动密封垫、压簧、受控磁铁，内密封壳上具有内凹的滑槽，还包括一活动阀芯，活动阀芯的下端设有内凹嵌槽，受控磁铁嵌于内凹嵌槽内；活动阀芯的头部设有一圈凸肩，活动密封垫固定在凸肩的上端，活动阀芯上套设有密封圈；活动阀芯位于滑槽内，滑槽的内壁设有一圈内凸的垫肩，密封圈靠在垫肩上，压簧套设在凸肩和密封圈之间的活动阀芯上，该压簧的上端顶在凸肩上，该压簧的下端压在密封圈上。增设了活动阀芯，将受控磁铁嵌于活动阀芯内，并通过密封圈来保持密封，使受控磁铁免受水的浸渍而产生腐蚀。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种花洒的出水控制机构。
技术介绍
专利号为200610049163. 4的中国专利技术专利提供了一种可实现在花洒上实现不同 出水效果的淋浴喷头(即花洒)的出水控制机构，包括位于花洒头内的内密封壳、活动密封 垫、压簧、受控磁铁，内密封壳上具有内凹的滑槽，受控磁铁位于滑槽内，活动密封垫固定在 受控磁铁的上端，压簧位于滑槽的底面和受控磁铁之间，其通过主动磁铁和受控磁铁的相 互作用来实现出水的转换。其还存在的缺点在于，受控磁铁会被水浸渍，从而影响受控磁铁 的寿命，一旦受控磁铁受腐蚀后还会影响水质。
技术实现思路
为了克服现有花洒的出水控制机构的上述不足，本技术提供一种受控磁铁受 到保护的花洒的出水控制机构。本技术解决其技术问题的技术方案是一种花洒的出水控制机构，包括位于 花洒头内的内密封壳、活动密封垫、压簧、受控磁铁，所述内密封壳上具有内凹的滑槽，还包 括一活动阀芯，所述活动阀芯的下端设有内凹嵌槽，所述的受控磁铁嵌于所述的内凹嵌槽 内；所述活动阀芯的头部设有一圈凸肩，所述的活动密封垫固定在所述凸肩的上端， 所述的活动阀芯上套设有密封圈；所述的活动阀芯位于所述的滑槽内，所述滑槽的内壁设 有一圈内凸的垫肩，所述的密封圈靠在所述的垫肩上，所述的压簧套设在所述的凸肩和密 封圈之间的活动阀芯上，该压簧的上端顶在所述的凸肩上，该压簧的下端压在所述的密封 圈上。进一步，所述凸肩的上端设有蘑菇状的套件，所述的活动密封垫套设在所述的套 件上。或者所述凸肩的上端面上设有插块；还包括一连接片，所述的活动密封垫设于所述 连接片的上端面上，所述连接片的下端面上设有与所述的插块适配的插口，所述的插块插 入所述的插口内。本技术的使用方法与原理与现有的花洒的出水控制机构的使用方法及原理 相同。本技术的有益效果在于增设了活动阀芯，将受控磁铁嵌于活动阀芯内，并通 过密封圈来保持密封，使受控磁铁免受水的浸渍而产生腐蚀。附图说明图1是本技术的结构示意图。具体实施方式以下结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细说明。参照图1，一种花洒的出水控制机构，包括位于花洒头内的内密封壳、活动密封垫 1、压簧2、受控磁铁3，所述内密封壳上具有内凹的滑槽4，还包括一活动阀芯5，所述活动阀 芯5的下端设有内凹嵌槽，所述的受控磁铁3嵌于所述的内凹嵌槽内；所述活动阀芯5的头部设有一圈凸肩6，所述的活动密封垫1固定在所述凸肩6的 上端，本实施例中，活动密封垫1与凸肩6的具体连接方式为所述凸肩6的上端面上设有 插块8 ；还包括一连接片9，所述的活动密封垫1设于所述连接片9的上端面上，所述连接片 9的下端面上设有与所述的插块9适配的插口 10，所述的插块8插入所述的插口 10内。当 然活动密封垫1与凸肩6的具体连接方式也可采用其他形式，如所述凸肩6的上端设有蘑 菇状的套件，所述的活动密封垫1套设在所述的套件上。所述的活动阀芯5上套设有密封圈7。该活动阀芯5位于所述的滑槽4内，所述滑 槽4的内壁设有一圈内凸的垫肩，所述的密封圈7靠在所述的垫肩上，所述的压簧2套设在 所述的凸肩6和密封圈7之间的活动阀芯上，该压簧2的上端顶在所述的凸肩6上，该压簧 2的下端压在所述的密封圈7上。本技术的使用方法与原理与现有的花洒的出水控制机构的使用方法及原理 相同，在此不再赘述。本技术增设了活动阀芯5，将受控磁铁3嵌于活动阀芯5内，并通过密封圈7 来保持密封，使受控磁铁3免受水的浸渍而产生腐蚀。权利要求1.一种花洒的出水控制机构，包括位于花洒头内的内密封壳、活动密封垫、压簧、受控 磁铁，所述内密封壳上具有内凹的滑槽，其特征在于还包括一活动阀芯，所述活动阀芯的 下端设有内凹嵌槽，所述的受控磁铁嵌于所述的内凹嵌槽内；所述活动阀芯的头部设有一圈凸肩，所述的活动密封垫固定在所述凸肩的上端，所述 的活动阀芯上套设有密封圈；所述的活动阀芯位于所述的滑槽内，所述滑槽的内壁设有一 圈内凸的垫肩，所述的密封圈靠在所述的垫肩上，所述的压簧套设在所述的凸肩和密封圈 之间的活动阀芯上，该压簧的上端顶在所述的凸肩上，该压簧的下端压在所述的密封圈上。2.如权利要求1所述的花洒的出水控制机构，其特征在于所述凸肩的上端设有套件， 所述的活动密封垫套设在所述的套件上。3.如权利要求1所述的花洒的出水控制机构，其特征在于所述凸肩的上端面上设有 插块；还包括一连接片，所述的活动密封垫设于所述连接片的上端面上，所述连接片的下端 面上设有与所述的插块适配的插口，所述的插块插入所述的插口内。专利摘要一种花洒的出水控制机构，包括位于花洒头内的内密封壳、活动密封垫、压簧、受控磁铁，内密封壳上具有内凹的滑槽，还包括一活动阀芯，活动阀芯的下端设有内凹嵌槽，受控磁铁嵌于内凹嵌槽内；活动阀芯的头部设有一圈凸肩，活动密封垫固定在凸肩的上端，活动阀芯上套设有密封圈；活动阀芯位于滑槽内，滑槽的内壁设有一圈内凸的垫肩，密封圈靠在垫肩上，压簧套设在凸肩和密封圈之间的活动阀芯上，该压簧的上端顶在凸肩上，该压簧的下端压在密封圈上。增设了活动阀芯，将受控磁铁嵌于活动阀芯内，并通过密封圈来保持密封，使受控磁铁免受水的浸渍而产生腐蚀。文档编号B05B1/30GK201848331SQ20102057607公开日2011年6月1日 申请日期2010年10月26日 优先权日2010年10月26日专利技术者鲍耐清 申请人:鲍耐清本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种花洒的出水控制机构，包括位于花洒头内的内密封壳、活动密封垫、压簧、受控磁铁，所述内密封壳上具有内凹的滑槽，其特征在于：还包括一活动阀芯，所述活动阀芯的下端设有内凹嵌槽，所述的受控磁铁嵌于所述的内凹嵌槽内；　　所述活动阀芯的头部设有一圈凸肩，所述的活动密封垫固定在所述凸肩的上端，所述的活动阀芯上套设有密封圈；所述的活动阀芯位于所述的滑槽内，所述滑槽的内壁设有一圈内凸的垫肩，所述的密封圈靠在所述的垫肩上，所述的压簧套设在所述的凸肩和密封圈之间的活动阀芯上，该压簧的上端顶在所述的凸肩上，该压簧的下端压在所述的密封圈上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：鲍耐清，
申请(专利权)人：鲍耐清，
类型：实用新型
国别省市：33[]