【技术实现步骤摘要】
本技术涉及扩散炉
，特别是一种磷扩散炉尾上下进气管多点进气装置。
技术介绍
由于POCljf体源扩散中，携带磷源的气流直接从炉尾进入炉管，靠近炉口处 反应气体的浓度将比炉尾处低，导致整管方阻片间，片内均勻性较差。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是靠近炉口处反应气体的浓度将比炉尾处 低，导致整管方阻片间，片内均勻性较差。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是一种磷扩散炉尾上下进气管 多点进气装置，包括进气管，进气管从炉尾伸入炉内后一分为二，分为上进气管和下进 气管，上进气管和下进气管分别位于炉管的上部和下部，上进气管和下进气管上开有多 个出气孔，出气孔方向平行硅片表面。上进气管和下进气管为石英材质。本技术的有益效果是通入的反应气体可以通过上下进气管上的多点出气 孔出气，提高磷扩散后的片内、片间方阻均勻性，达到较好的整管方阻分布。以下结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细的说明；附图说明图1是炉管内部进气方式侧视图；图2是炉管内部进气方式截面图；其中1.上进气管，2.下进气管，3.炉管，4.尾气管，5.硅片。具体实施方式现在结合附图1和2对本技术作进一步详细的说明。这些附图均为简化的 示意图，仅以示意方式说明本技术的基本结构，因此其仅显示与本技术有关的 构成。如图1和2所示，一种磷扩散炉尾上下进气管多点进气装置，包括进气管，进气 管从炉尾伸入炉内后一分为二，分为上进气管1和下进气管2，如图2所示，上进气管1 和下进气管2分别位于炉管3的上部和下部，12点和6点方向各一根，上进气管1和下进 气管2上开有多个出气孔，出气孔方向平行硅片5表面。上进气管1...
【技术保护点】
一种磷扩散炉尾上下进气管多点进气装置，包括进气管，其特征是：所述的进气管从炉尾伸入炉内后一分为二，分为上进气管（１）和下进气管（２），上进气管（１）和下进气管（２）分别位于炉管（３）的上部和下部，上进气管（１）和下进气管（２）上开有多个出气孔，出气孔方向平行硅片表面。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：何伟，
申请(专利权)人：常州天合光能有限公司，
类型：实用新型
国别省市：32
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