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一种花盆底座制造技术

技术编号:5145141 阅读:146 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种花盆底座,包括盘面和盘壁,其特征在于:还包括有与盘面形状一致的吸水层,所述的吸水层的边缘处留有豁口。本实用新型专利技术结构简单、使用方便,能够避免水的溢出。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术适用于生活领域,具体说是一种花盆底座
技术介绍
现代生活中,为了净化环境,美化空间,人们常常会在家庭或者办公室内摆放盆 景,然而这些盆景需要浇水,但由于盆景的花盆底部为了透气透水的考虑都留有开孔,这就 导致在花盆中浇水后,水会自花盆底部的开孔流出,现有的花盆底座往往呈托盘形,一旦有 水流入就会沉积其中,浇水稍多时泥水就会从底座中直接溢出,弄脏地面,破坏环境。因此急需一种结构简单、使用方便,能够避免水流出的花盆底座。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种结构简单、使用方便,能够避免水流出的花盆底座。为实现上述的目的,本技术所采用的技术方案是一种花盆底座,包括盘面和 盘壁,其特征在于还包括有与盘面形状一致的吸水层,所述的吸水层的边缘处留有豁口。本技术的有益效果是由于本技术不仅包括盘面和盘壁,还包括有与盘面形状一致的吸水层,使用 时,将吸水层放在盘面之上,再在吸水层上摆置花盆,由于吸水层与盘面形状相应,所以可 以很好的贴合盘面,这样在当花盆中的水从花盆底部的开孔流出时,就会被吸水层所吸收, 避免了外溢;同时由于所述的吸水层边缘处留有豁口,这样就便于人们将吸水层从盘面上 取出进行晾晒本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种花盆底座,包括盘面和盘壁,其特征在于:还包括有与盘面形状一致的吸水层,所述的吸水层的边缘处留有豁口。

【技术特征摘要】
1. 一种花盆底座,包括盘面和盘壁,其特征在于还包括有...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴宏照
申请(专利权)人:吴宏照
类型:实用新型
国别省市:34[中国|安徽]

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