抛光机的下抛光盘制造技术

本实用新型专利技术涉及硅片研磨机或抛光机的结构，尤其涉及硅片研磨机或抛光机下抛光盘的结构。一种抛光机的下抛光盘，包括有下盘工作盘（７），其主要特点在于还包括有在下盘工作盘（７）的下方设有下盘基盘（９），下盘基盘（９）与下盘工作盘（７）之间形成冷却腔（３），在下盘基盘（９）上设有进水口（８）和出水口（５），分别与冷却腔（３）连通。本实用新型专利技术的优点是特殊的水冷盘结构避免了冷却水走捷径，只有在冷却水充满腔体后才能从出水口流出，确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却，及时带走因加工而产生的热量，对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠。结合精密的测温系统及冷却水流量调节系统，实现了抛盘温度的精密控制。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及硅片研磨机或抛光机的结构，尤其涉及硅片研磨机或抛光机下抛 光盘的结构。
技术介绍
用于硅片抛光机的下抛光盘，由于在抛光过程中会产生大量的热，温度的变化必 然会导致抛光盘发生形变，进而影响加工质量，因此必须严格控制抛光盘的温度。近年来IC 芯片硅片的尺寸趋向大直径化，对硅片的质量要求也越来越严，对于用来进行硅片双面抛 光加工的抛光设备，必须严格控制抛盘的形变。此前生产的双面抛光机的抛盘采用整体式结构，没有进行专门温度控制的装置， 抛光加工过程中所产生的热量主要靠抛光液带走，属于被动式冷却，抛盘温度的变化不可 控。传统的设备也大多应用在非IC行业，对下盘的温度控制要求不高，而IC行业对硅片的 要求比较高，对上下抛光盘进行精密温度控制是必需的，因此必须采用新的下盘结构，以便 对抛盘进行冷却，达到温度精确控制的目的。
技术实现思路
本技术的目的在于避免现有技术的不足，提供一种抛光机的下抛光盘。在抛 盘内部强制通冷却介质，对下抛光盘进行强制冷却，实现抛盘温度的精密控制，达到控制抛 盘变形的目的。为实现上述目的，本技术采取的技术方案为一种抛光机的下抛光盘，包括有 下盘工作盘(7)，还包括有在下盘工作盘(7)的下方设有下盘基盘(9)，下盘基盘(9)与下 盘工作盘(7)之间设有冷却腔(3)，在下盘基盘(9)上设有进水口(8)和出水口(5)，所述 的进水口(8)和出水口(5)分别与冷却腔(3)连通。所述的冷却腔C3)是在下盘基盘(9)上设有数个下凹的扇形区域；每个下凹的扇 形区域由进水管(6)分为两个互为连通的下凹的冷却区G)，所述的进水管(6)与进水口(8)连通；在下盘基盘(9)的内圆上设有出水口(5)。采用独特的循环通道，在进水口(8) 处装有水管(6)将冷却水由盘体内侧导向盘体外侧，即通过冷却区⑷从出水口(5)排出， 保证了冷却水经过的回路较长而不走捷径，所述的进水管(6)通过进水接头(10)与进水口(8)连通。在所述的进水管(6)的末端设有管卡(2)。所述的下盘基盘(9)与下盘工作盘(7)之间的外圈和内圈处均设有密封装置。密 封装置为密封圈。在所述的下盘基盘(9)上设有分隔筋，在分隔筋上设有连接螺孔(1)，下盘基盘(9)与下盘工作盘(7)通过螺钉连接。所述的出水口(5)的高度高于冷却腔(3)的高度。出水口(5)的高度高于复合盘 体的结合面，冷却水必须完全充满腔体后才能从出水口( 流出，确保抛盘能得到充分的冷却。本技术的有益效果特殊的水冷盘结构避免了冷却水走捷径，只有在冷却水 充满腔体后才能从出水口流出，确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却，及时带走因加工而 产生的热量，对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠。结合精密的测温 系统及冷却水流量调节系统，实现了抛盘温度的精密控制。附图说明图1是本技术的结构示意图；图2是图1的AA的剖视图。图中1、连接螺孔；2、管卡；3、冷却腔；4、冷却区；5、出水口 ；6、进水管；7、下盘工 作盘；8 ；进水口 ；9、下盘基盘；10、进水接头。具体实施方式以下对本技术的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本技术，并 非用于限定本技术的范围。实施例1 如图1，图2所示，一种抛光机的下抛光盘，包括有下盘工作盘7，还包括 有在下盘工作盘7的下方设有下盘基盘9，下盘基盘9与下盘工作盘7之间设有冷却腔3， 在下盘基盘9上设有进水口 8和出水口 5，所述的进水口 8和出水口 5分别与冷却腔3连 通。所述的冷却腔3是在下盘基盘9上设有数个下凹的扇形区域；每个下凹的扇形区域由 进水管6分为两个互为连通的下凹的冷却区4，所述的进水管6与进水口 8连通；在下盘基 盘9的内圆上设有出水口 5。所述的进水管6通过进水接头10与进水口 8连通。在所述的 进水管6的末端设有管卡2。所述的下盘基盘9与下盘工作盘7之间的外圈和内圈处均设 有密封装置。在所述的下盘基盘9上设有分隔筋，在分隔筋上设有连接螺孔1，下盘基盘9 与下盘工作盘7通过螺钉连接。所述的出水口5的高度高于冷却腔3的高度。出水口5的 高度高于复合盘体的结合面，冷却水必须完全充满腔体后才能从出水口 5流出，确保抛盘 能得到充分的冷却。本技术下抛光盘均采用复合双层结构，为中空结构，上层为工作盘，下层为水 冷盘，中间可通冷却水。下盘设有十二个独立的扇形区域腔，内布水冷通道，采用独特的循 环通道，在进水口处装有水管将冷却水由盘体内侧导向盘体外侧，保证了冷却水经过的回 路较长而不走捷径，且回水口的高度高于复合盘体的结合面，冷却水必须完全充满腔体后 才能从回水口流出，确保抛盘能得到充分的冷却，盘体内外侧结合面装以及螺钉连接处装 有密封圈，用于防止泄露。上所述仅为本技术的较佳实施例，并不用以限制本技术，凡在本实用新 型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护 范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抛光机的下抛光盘，包括有下盘工作盘（７），其特征在于，还包括有在下盘工作盘（７）的下方设有下盘基盘（９），下盘基盘（９）与下盘工作盘（７）之间设有冷却腔（３），在下盘基盘（９）上设有进水口（８）和出水口（５），所述的进水口（８）和出水口（５）分别与冷却腔（３）连通。

【技术特征摘要】
1.一种抛光机的下抛光盘，包括有下盘工作盘(7)，其特征在于，还包括有在下盘工作 盘(7)的下方设有下盘基盘(9)，下盘基盘(9)与下盘工作盘(7)之间设有冷却腔(3)，在 下盘基盘(9)上设有进水口⑶和出水口(5)，所述的进水口⑶和出水口(5)分别与冷却 腔⑶连通。2.如权利要求1所述的抛光机的下抛光盘，其特征在于，所述的冷却腔(3)是在下盘基 盘(9)上设有数个下凹的扇形区域；每个下凹的扇形区域由进水管(6)分为两个互为连通 的下凹的冷却区G)，所述的进水管(6)与进水口(8)连通；在下盘基盘(9)的内圆上设有 出水口(5)。3.如权利要求1所述的抛光机的下...

【专利技术属性】
技术研发人员：金万斌，李方俊，梁春，
申请(专利权)人：兰州瑞德实业集团有限公司，
类型：实用新型
国别省市：62[中国|甘肃]