青霉素过敏皮试贴片制造技术

本实用新型专利技术是涉及一种在医学上临床应用的多储库型青霉素过敏皮试贴片，主要用于诊断青霉素过敏，其结构是，在控释层外有保护层，控释层和隔离层之间是药物储库，药物储库周围是压敏胶层，隔离层和背衬层之间是溶剂／促进剂储库，药物储库由青霉噻唑酰、青霉烯酸、青霉吡唑酸和青霉素Ｇ冻干粉构成，溶剂／促进剂储库由十二烷基－Ｎ，Ｎ－二甲氨基异丙酸酯水溶液构成，本实用新型专利技术结构合理，使用方便安全，开拓了诊断青霉素过敏的新途径。（*该技术在2010年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术是涉及一种在医学上临床应用的多储库型青霉素过敏皮试贴片，主要用于诊断青霉素过敏。在药物过敏中，青霉素过敏是最常见和最严重的一种。目前，诊断青霉素过敏采用青霉素G皮内注射法和快速皮试仪，它们有下列缺陷诊断正确率仅30％-50％、皮内注射很痛、其量不易掌握和每次使用前需要临时配制试剂，因而使用起来既不安全又不方便。本技术的目的，就是提供一种临床上诊断青霉素过敏的在皮肤上粘贴的多储库型青霉素过敏皮试贴片，它使用既方便又安全。本技术的目的是这样实现的实验表明，含青霉噻唑酰、青霉烯酸、青霉吡唑酸和青霉素G的试剂诊断青霉素过敏的正确率达97.5％。另外，青霉素类药物透皮吸收行为的药剂学规律也已研究清楚，可以将注射用药改为外敷，即做成贴膏状的帖片，其结构为采用充填热合工艺，在定型机械中，于背衬膜与隔离膜之间热合封闭成梯形的溶剂/促进剂储库。然后在其下方采用涂膜复合工艺，在隔离膜上涂布压敏胶溶液，但在中央预留正方体空间作药物储库，加热挥干压敏胶溶液后，在药物储库中加入药物，最后覆盖上控释膜和保护膜即可。本技术结构合理，易于生产，使用前无需临时配制试剂，正确率高达97.5％，贴用安全方便，为青霉素以及其它药物过敏诊断方法提供了新的途径。以下结合附图对本技术的结构作详细说明。附图说明图1是本技术一个实施例的结构前视图(外形)。图2为本技术的结构截面结构侧视图(纵向放大图)。由图2所示，本技术其结构是，控释层5外有保护层6，控释层5和隔离层3中间是药物储库层4，药物储库4周围是压敏胶7，药物储库层4与上方的溶剂促进剂/储库层2之间有隔离层3，溶剂/促进剂储库2背面是成梯形的背衬层1。所说的保护层6、隔离层3和背衬层1是用聚丙烯溶于氯仿后制成的薄膜构成，压敏胶层7使用压敏胶液(如聚异丁烯，液体石蜡用氯仿溶解)挥干氯仿而成，并在其中央留一个正方体空间为药物储库4，控释层5是聚丙烯拉伸后制成的微孔薄膜做成，溶剂/促进剂储库2是聚丙烯背衬膜在成型机械中与隔离层3热合成梯形而成，本技术的具体制造是首先采用充填热合工艺，在定型机械中于背衬层1和隔离层3之间定量充填十二烷基-N,N-二甲基异丙酸酯水溶液后，热合封闭成梯形的溶剂/促进剂储库2。随后采用涂膜复合工艺，将压敏胶溶液涂布在隔离层3上，但在其中央预留一个呈正方体容积的空间作药物储库4，挥干压敏胶液后，在药物储库中加入药物，然后覆盖控释层5和保护层6切割成型即成本技术。由此可见，本技术结构合理，易于生产制造，使用时，使用者稍施压力使隔离层破裂，溶液与药物混合，然后将保护层揭下，贴片贴于病人的前臂内侧表皮外即可。权利要求1．由被衬层、溶剂/促进剂储库层、隔离层、药物储库层、控释层、保护层及药物周围的压敏胶层构成的多储库型青霉素过敏皮试贴片，其特征在于控释层(5)外有保护层(6)，控释层(5)和隔离层(3)之间有药物储库层(4)，药物储库层(4)和溶剂/促进剂储库(2)中间有隔离层(3)，溶剂/促进剂储库(2)背面贴由被衬层(1)，药物储库层(4)周围是压敏胶层(7)。2．根据权力要求1所述的多储库型青霉素过敏皮试贴片，其特征在于所说的药物储库周围的压敏胶层(7)是由聚异丁烯MML-100、聚异丁烯LM-MS和液状石蜡溶于氯仿后制成。3．根据权力要求1所述的多储库型青霉素过敏皮试贴片，其特征在于所说的控释层(5)是聚丙烯拉伸后制成的微孔薄膜构成。4．根据权力要求1或2所述的多储库型青霉素过敏皮试贴片，其特征在于所所的药物储库层(4)内有呈冻干粉状的青霉噻唑酰、青霉烯酸、青霉吡唑酸、青霉素G。5．根据权力要求1所述的多储库型青霉素过敏皮试贴片，其特征在于所说的隔离层(3)是由乙烯-醋酸乙烯共聚物溶于氯仿后制成的薄膜构成。6．根据权力要求1所述的多储库型青霉素过敏皮试贴片，其特征在于所说的溶剂/促进剂储库层(2)内有十二烷基-N,N-二甲氨基异丙酸酯水溶液。专利摘要本技术是涉及一种在医学上临床应用的多储库型青霉素过敏皮试贴片,主要用于诊断青霉素过敏,其结构是,在控释层外有保护层,控释层和隔离层之间是药物储库,药物储库周围是压敏胶层,隔离层和背衬层之间是溶剂/促进剂储库,药物储库由青霉噻唑酰、青霉烯酸、青霉吡唑酸和青霉素G冻干粉构成,溶剂/促进剂储库由十二烷基－N,N－二甲氨基异丙酸酯水溶液构成,本技术结构合理,使用方便安全,开拓了诊断青霉素过敏的新途径。文档编号A61K9/70GK2436153SQ0022521公开日2001年6月27日 申请日期2000年7月12日 优先权日2000年7月12日专利技术者李玉波 申请人:李玉波本文档来自技高网...

【技术保护点】
由被衬层、溶剂／促进剂储库层、隔离层、药物储库层、控释层、保护层及药物周围的压敏胶层构成的多储库型青霉素过敏皮试贴片，其特征在于控释层（５）外有保护层（６），控释层（５）和隔离层（３）之间有药物储库层（４），药物储库层（４）和溶剂／促进剂储库（２）中间有隔离层（３），溶剂／促进剂储库（２）背面贴由被衬层（１），药物储库层（４）周围是压敏胶层（７）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李玉波，
申请(专利权)人：李玉波，
类型：实用新型
国别省市：43[中国|湖南]