液晶显示装置的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术的液晶显示装置的制造方法，为至少具备夹持液晶层的一对基板和在该一对基板的液晶层侧重合而形成的像素电极，在所述一对基板中，至少任意一方的所述基板的像素电极由将氧化锌作为基本构成材料的透明导电膜构成的液晶显示装置的制造方法，具备使用用由氧化锌系材料形成的靶，通过用溅射法在所述基板上形成氧化锌系透明导电膜而形成所述像素电极的工序，在所述像素电极的形成工序中，在含有选自氢气、氧气、水蒸气中的两种或者三种的气氛中实施溅射。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及，详细地说，涉及作为液晶显示装置的像素 电极使用的透明导电膜的制造方法。本申请基于2008年1月24日在日本申请的日本特愿2008-013680号主张优先权， 将其内容合并于此。
技术介绍
一直以来，利用ITO(In2O3-SnO2)作为构成液晶显示装置(IXD)的像素电极的透明 导电膜的材料。然而，成为ITO原料的铟(In)是稀有金属，预计今后由于不易得到而造成成 本上升。因此，作为替代ITO的透明导电膜的材料，丰富且廉价的ZnO系材料受到关注(例 如，参考专利文献1)。ZnO系材料适合于可以向大型基板均勻成膜的溅射。关于成膜装置， 通过将ITO等In2O3系材料的靶变更为ZnO系材料的靶，可以进行成膜。另外，ZnO系材料 不具有像In2O3系材料那样的绝缘性高的低级氧化物(InO)。因此，在溅射时不易发生异常。专利文献1 日本特开平9-87833号公报在以往的使用ZnO系材料的形成像素电极的透明导电膜中，尽管透明性不逊色于 ITO膜，但是有表面电阻高的问题。因此，为了将使用ZnO系材料的透明导电膜的表面电阻 下降到所期望的值，提出了在溅射时向室内导入氢气体作为还原本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液晶显示装置的制造方法，为至少具备夹持液晶层的一对基板和在该一对基板的液晶层侧重合而形成的像素电极，在所述一对基板中，至少任意一方的所述基板的像素电极由将氧化锌作为基本构成材料的透明导电膜构成的液晶显示装置的制造方法，其特征在于，该液晶显示装置的制造方法具备：使用由氧化锌系材料形成的靶，通过用溅射法在所述基板上形成氧化锌系透明导电膜而形成所述像素电极的工序，在所述像素电极的形成工序中，在含有选自氢气、氧气、水蒸气中的两种或者三种的气氛中实施溅射。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2008-1-24 2008-013680一种液晶显示装置的制造方法，为至少具备夹持液晶层的一对基板和在该一对基板的液晶层侧重合而形成的像素电极，在所述一对基板中，至少任意一方的所述基板的像素电极由将氧化锌作为基本构成材料的透明导电膜构成的液晶显示装置的制造方法，其特征在于，该液晶显示装置的制造方法具备使用由氧化锌系材料形成的靶，通过用溅射法在所述基板上形成氧化锌系透明导电膜而形成所述像素电极的工序，在所述像素电极的形成工序中，在含有选自氢气、氧气、水蒸气中的两种或者三种的气氛中实施溅射。2.根据权利要求1所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于，所述氢气的分压 (Ph2)和所述氧气的分压(P02)之比...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥明久，石桥晓，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：JP[日本]