液晶显示装置的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术的液晶显示装置的制造方法，为至少具备夹持液晶层的一对基板和在该一对基板的液晶层侧重合而形成的像素电极，在所述一对基板中，至少任意一方的所述基板的像素电极由将氧化锌作为基本构成材料的透明导电膜构成的液晶显示装置的制造方法，具备使用用由氧化锌系材料形成的靶，通过用溅射法在所述基板上形成氧化锌系透明导电膜而形成所述像素电极的工序，在所述像素电极的形成工序中，在含有选自氢气、氧气、水蒸气中的两种或者三种的气氛中实施溅射。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及，详细地说，涉及作为液晶显示装置的像素 电极使用的透明导电膜的制造方法。本申请基于2008年1月24日在日本申请的日本特愿2008-013680号主张优先权， 将其内容合并于此。
技术介绍
一直以来，利用ITO(In2O3-SnO2)作为构成液晶显示装置(IXD)的像素电极的透明 导电膜的材料。然而，成为ITO原料的铟(In)是稀有金属，预计今后由于不易得到而造成成 本上升。因此，作为替代ITO的透明导电膜的材料，丰富且廉价的ZnO系材料受到关注(例 如，参考专利文献1)。ZnO系材料适合于可以向大型基板均勻成膜的溅射。关于成膜装置， 通过将ITO等In2O3系材料的靶变更为ZnO系材料的靶，可以进行成膜。另外，ZnO系材料 不具有像In2O3系材料那样的绝缘性高的低级氧化物(InO)。因此，在溅射时不易发生异常。专利文献1 日本特开平9-87833号公报在以往的使用ZnO系材料的形成像素电极的透明导电膜中，尽管透明性不逊色于 ITO膜，但是有表面电阻高的问题。因此，为了将使用ZnO系材料的透明导电膜的表面电阻 下降到所期望的值，提出了在溅射时向室内导入氢气体作为还原气体，在该还原气氛中成 膜的方法。然而，在该情况下，尽管得到的透明导电膜的表面电阻确实降低，但是在其表面产 生了一点点的金属光泽。由此，有透光率降低，液晶显示装置的目视确认性降低的问题。
技术实现思路
本专利技术是为了解决上述问题而提出的，其目的在于，提供使使用氧化锌系材料形 成的、构成像素电极的透明导电膜的表面电阻降低的同时，良好地保持可见光的透过性、使 目视确认性提高的。本专利技术为了解决上述课题并达成所涉及的目的，采用了以下技术方案。(1)本专利技术的，为至少具备夹持液晶层的一对基板和在 该一对基板的液晶层侧重合而形成的像素电极，在所述一对基板中，至少任意一方的所述 基板的像素电极由将氧化锌作为基本构成材料的透明导电膜构成的液晶显示装置的制造 方法，该具备使用由氧化锌系材料形成的靶，通过用溅射法在所 述基板上形成氧化锌系透明导电膜而形成所述像素电极的工序，在所述像素电极的形成工 序中，在含有选自氢气、氧气、水蒸气中的两种或者三种的气氛中实施溅射。上述的，也可以如下进行。(2)所述氢气的分压(Ph2)和所述氧气的分压(Pq2)之比R(PH2/PQ2)满足R = PH2/Po2 ^ 5…(1)。上述⑵的情况下，通过满足R = PH2/P02彡5，可以得到电阻率为ΙΟΟΟμ Ω -cm以下的透明导电膜。(3)所述溅射电压为340V以下。上述(3)的情况下，通过降低放电电压，可以形成晶格整齐的氧化锌系透明导电 膜。因此，得到的透明导电膜的电阻率变低。(4)所述溅射电压在直流电压上叠加高频电压。上述(4)的情况下，通过在直流电压上叠加高频电压，进一步降低放电电压。(5)所述靶的表面的水平磁场强度的最大值为600高斯以上。上述(5)的情况下，通过将水平磁场强度的最大值设为600高斯以上，降低放电电压。(6)所述液晶显示装置在所述液晶层和所述基板之间，进一步具有彩色滤光器，所 述像素电极形成于所述彩色滤光器和所述液晶层之间。(7)所述氧化锌系材料为掺铝氧化锌或者掺镓氧化锌。根据上述(1)所述的，在用溅射法形成构成液晶显示装 置的像素电极的氧化锌系透明导电膜时，在含有选自氢气、氧气、水蒸气中的两种或者三种 的气氛中实施溅射。因此，使形成氧化锌系透明导电膜时的气氛成为含有选自氢气、氧气、 水蒸气中的两种或者三种的气氛，即，协调了还原性气体和氧化性气体之比的气氛。所以， 如果在该气氛下进行溅射，则得到的透明导电膜，其氧化锌结晶中的氧空穴的数被控制，成 为具有所期望的导电率的膜。因此，其表面电阻也降低，呈现所期望的表面电阻值。另外，得到的透明导电膜不产生金属光泽，能够维持对可见光的透明性。而且，能 够维持对可见光的透明性。因而，能够容易地形成构成电阻值低、可见光的透过性优异的液晶显示装置的像 素电极的氧化锌系的透明导电膜。由此，可以制造低耗电、而且透明度高、目视确认性优异 的液晶显示装置。附图说明图1是表示适合于本专利技术的的成膜装置的简要构成图；图2是表示适合本专利技术的的成膜装置的剖面图；图3是表示成膜装置的另一例的剖面图；图4是表示通过本专利技术的制造方法形成的液晶显示装置的一例的剖面图；图5是表示实施例1的导入气体的效果的曲线图；图6是表示实施例2的导入气体的效果的曲线图；图7是表示实施例3的导入气体的效果的曲线图；图8是表示实施例4的导入气体的效果的曲线图；图9是表示实施例5的导入气体的效果的曲线图；图10是表示实施例6的导入气体的效果的曲线图；图11是表示实施例7的导入气体的效果的曲线图。符号说明50液晶显示装置51液晶层52、53 基板(玻璃基板)54、55 像素电极(透明电极)具体实施例方式以下，基于附图对本专利技术所涉及的的最佳实施方式进行 说明。本实施方式是为了更好地理解本专利技术的思想而进行的具体说明，只要不特别指定，就 不限定本专利技术。首先，关于，对适合形成构成像素电极(透明电极)的氧 化锌系的透明导电膜的溅射装置(成膜装置)的一个例子进行说明。(溅射装置1)图1是表示第一实施方式的溅射装置(成膜装置)的简要构成图。图2是表示第 一实施方式的溅射装置的成膜室的主要部分的剖面图。溅射装置1是往复(4 >夕一夂)式的溅射装置。该溅射装置1例如具备搬进/搬出无碱玻璃基板(未图示)等基板 的装入/取出室2 ；和在基板上形成氧化锌系透明导电膜的成膜室(真空容器)3。在装入/取出室2，设置有将该室内粗略抽真空的回转泵等粗抽排气设备4。另外， 在该室内，用于保持和运送基板的基板托盘5可移动地被配置。在成膜室3的一方侧面3a，纵向地设置有加热基板6的加热器11。在成膜室3的 另一方侧面3b，纵向地设置有保持氧化锌系材料的靶7并施加所期望的溅射电压的溅射阴 极机构(靶保持设备)12。进一步，在该另一方侧面3b，设置有将该室内抽高真空的涡轮分 子泵等高真空排气设备13、向靶7施加溅射电压的电源14以及向该室内导入气体的气体导 入设备15。溅射阴极机构12由板状的金属板构成。该溅射阴极机构12用焊料等通过焊接 (固定)将靶7固定。电源14将在直流电压上叠加高频电压的溅射电压施加到靶7。该电源14具备直 流电源和高频电源(省略图示)。气体导入设备15具备有导入Ar等溅射气体的溅射气体导入设备15a ；导入氢气 的氢气导入设备15b ；导入氧气的氧气导入设备15c和导入水蒸气的水蒸气导入设备15d。在该气体导入设备15中，可以根据需要选择氢气导入设备15b 水蒸气导入设备 15d。例如，可以通过氢气导入设备15b和氧气导入设备15c或氢气导入设备15b和水蒸气 导入设备15d这样的两种设备构成气体导入设备15。(溅射装置2)图3是表示用于本专利技术的的另一溅射装置的一个例子， 即往复式的磁控管溅射装置的成膜室的主要部分的剖面图。图3所示的磁控管溅射装置21 与图1、2所示的溅射装置1的相异点在于，在成膜室3的另一方的侧面3b纵向地设置有保 持氧化锌系材料的靶7并发生所期望的磁场的溅射阴极机构(靶保持设备)22。溅射阴极机构22具有用焊料等焊接(固定)靶7的背面板23本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液晶显示装置的制造方法，为至少具备夹持液晶层的一对基板和在该一对基板的液晶层侧重合而形成的像素电极，在所述一对基板中，至少任意一方的所述基板的像素电极由将氧化锌作为基本构成材料的透明导电膜构成的液晶显示装置的制造方法，其特征在于，该液晶显示装置的制造方法具备：使用由氧化锌系材料形成的靶，通过用溅射法在所述基板上形成氧化锌系透明导电膜而形成所述像素电极的工序，在所述像素电极的形成工序中，在含有选自氢气、氧气、水蒸气中的两种或者三种的气氛中实施溅射。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2008-1-24 2008-013680一种液晶显示装置的制造方法，为至少具备夹持液晶层的一对基板和在该一对基板的液晶层侧重合而形成的像素电极，在所述一对基板中，至少任意一方的所述基板的像素电极由将氧化锌作为基本构成材料的透明导电膜构成的液晶显示装置的制造方法，其特征在于，该液晶显示装置的制造方法具备使用由氧化锌系材料形成的靶，通过用溅射法在所述基板上形成氧化锌系透明导电膜而形成所述像素电极的工序，在所述像素电极的形成工序中，在含有选自氢气、氧气、水蒸气中的两种或者三种的气氛中实施溅射。2.根据权利要求1所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于，所述氢气的分压 (Ph2)和所述氧气的分压(P02)之比...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥明久，石桥晓，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：JP[日本]