制造具有疏水和疏油特性的织物的方法技术

技术编号:46625363 阅读:1 留言:0更新日期:2025-10-14 21:21
本发明专利技术涉及制造具有疏水和疏油特性的织物的方法,所述织物具有无卤素等离子体涂层,其中该方法包括:通过等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)借助无卤素前体单体的等离子体聚合在织物上沉积等离子体涂层的步骤DHF,其中该无卤素前体单体是有机硅烷、硅氧烷和/或烃前体,其中等离子体增强化学气相沉积在保护气氛下作为低压等离子体工艺进行,其中该织物包含聚合物材料的机织单丝织物,其具有10μm至150μm的长丝直径和介于5μm和200μm之间的网孔。

【技术实现步骤摘要】


技术介绍


技术实现思路

【技术保护点】

1.一种制造具有疏水和疏油特性的织物的方法,所述织物具有根据标准IEC 62321-3-2:2020、EN 14582:2016和/或ASTM D7359:2018的无卤素等离子体涂层,尤其不含全氟和多氟物质(PFAS),其中所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其中包括通过PVD方法使用氩等离子体溅射碳靶和/或使用烃气体通过PECVD方法来涂覆所述织物的步骤DLC,

3.根据权利要求1所述的方法,其中包括通过烃气体和/或烃气体、反应性气体和惰性气体的混合物的等离子体聚合来产生粘附促进层的APL步骤,

4.根据权利要求1所述的方法,其中包括通过...

【技术特征摘要】

1.一种制造具有疏水和疏油特性的织物的方法,所述织物具有根据标准iec 62321-3-2:2020、en 14582:2016和/或astm d7359:2018的无卤素等离子体涂层,尤其不含全氟和多氟物质(pfas),其中所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其中包括通过pvd方法使用氩等离子体溅射碳靶和/或使用烃气体通过pecvd方法来涂覆所述织物的步骤dlc,

3.根据权利要求1所述的方法,其中包括通过烃气体和/或烃气体、反应性气体和惰性气体的混合物的等离子体聚合来产生粘附促进层的apl步骤,

4.根据权利要求1所述的方法,其中包括通过使用等离子体蚀刻、离子束辐照和/或uv压印来产生粘附促进表面的apt步骤,

5.根据权利要求1所述的方法,其中在步骤dhf中,在所述织物上沉积无卤素的疏水和疏油涂层,其具有30nm至300nm的厚度。

6.根据权利要求1所述的方法,其中在步骤dlc中,在所述织物上沉积疏水性碳涂层,其具有5nm至200nm的厚度。

7.根据权利要求1所述的方法,其中在步骤apl中,在所述织物上沉积粘附促进涂层,其具有5nrm至100nm的厚度。

8.根据权利要求1所述的方法,其中所述织物具有10μm至100μm、特别优选19μm至50μm的长丝直径。

9.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员:M·M·侯赛因K·查卡里C·艾伦伯格
申请(专利权)人:塞法尔股份公司
类型:发明
国别省市:

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