一种刻蚀液容器密封性的测试设备制造技术

技术编号:46624125 阅读:1 留言:0更新日期:2025-10-14 21:19
本发明专利技术涉及密封性测试技术领域,尤其涉及一种刻蚀液容器密封性的测试设备,包括真空釜和用于密封真空釜的罩板,所述罩板的顶端安装有真空泵,还包括过滤板,设置于真空釜内部,所述过滤板内部固接有支撑杆,所述支撑杆的两端外侧均转动连接有限位块,所述限位块的内部滑动连接有一对限位杆。本发明专利技术通过下压组件与旋转组件的结构设计,实现过滤板旋转覆盖‑精准下压‑同步复位的动态过程:旋转组件可以带动过滤板旋转挤压容器,增大容器与水的接触面积,而下压组件配合罩板下移时,带动过滤板对容器二次挤压,测试后过滤板反向旋转复位便于取放容器,全程采用罩板无接触式设计,有效规避水膜溅射引发的污染及人员清理作业。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及密封性测试,尤其涉及一种刻蚀液容器密封性的测试设备


技术介绍

1、刻蚀液是半导体集成电路制造中湿法刻蚀工艺的核心消耗材料,主要用于通过化学腐蚀作用选择性去除晶圆表面不需要的材料,从而精准定义芯片的微观结构与电路图案,刻蚀液容器则用于存放刻蚀液的桶类结构,为了确保容器的密封性达标,则需要在出厂前对其容器进行密封性测试。

2、现有测试设备主要由真空釜、罩板及真空泵构成,其工作流程如下:首先向真空釜内注入指定容量的水,再将待测容器放置其中;随后盖上罩板完成密封,并通过罩板挤压使容器完全浸入水中,启动真空泵抽除真空釜内水面以上的空气至真空状态,此时观察容器周围有无气泡产生——若有气泡则判定密封性不合格,无气泡则为合格,测试完成后打开罩板,取出容器即可。

3、然而,罩板与被测容器的接触界面,会因挤压过程中与真空釜内部的水接触,残留一层与釜内环境同质的水膜,此时若直接抬升罩板,该水膜会因重力势能释放产生定向下落趋势,其运动过程中与真空釜内的水体发生液相冲击,引发局部飞溅现象,当水溅射至真空釜的外侧时,则需人员清理,影响测试的收尾本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种刻蚀液容器密封性的测试设备,包括真空釜(1)和用于密封真空釜(1)的罩板(2),所述罩板(2)的顶端安装有真空泵(3),其特征在于,还包括:

2.根据权利要求1所述的一种刻蚀液容器密封性的测试设备,其特征在于,所述下压组件包括连接杆(9)、压板(10)和弹簧一(11),所述连接杆(9)固接于罩板(2)的顶端,所述压板(10)固接在连接杆(9)的底端,所述压板(10)位于侧箱(8)的内部,所述弹簧一(11)的两端分别与侧箱(8)和限位块(6)固接。

3.根据权利要求2所述的一种刻蚀液容器密封性的测试设备,其特征在于,所述旋转组件包括齿条(12)和正齿轮(13...

【技术特征摘要】

1.一种刻蚀液容器密封性的测试设备,包括真空釜(1)和用于密封真空釜(1)的罩板(2),所述罩板(2)的顶端安装有真空泵(3),其特征在于,还包括:

2.根据权利要求1所述的一种刻蚀液容器密封性的测试设备,其特征在于,所述下压组件包括连接杆(9)、压板(10)和弹簧一(11),所述连接杆(9)固接于罩板(2)的顶端,所述压板(10)固接在连接杆(9)的底端,所述压板(10)位于侧箱(8)的内部,所述弹簧一(11)的两端分别与侧箱(8)和限位块(6)固接。

3.根据权利要求2所述的一种刻蚀液容器密封性的测试设备,其特征在于,所述旋转组件包括齿条(12)和正齿轮(13),所述齿条(12)固接在压板(10)的外侧,所述正齿轮(13)与支撑杆(5)的外侧固接,且正齿轮(13)和齿条(12)啮合。

4.根据权利要求1所述的一种刻蚀液容器密封性的测试设备,其特征在于,所述真空釜(1)的内部设置有夹持机构,所述夹持机构包括驱动组件和弹性组件,其中:

5.根据权利要求4所述的一种刻蚀液容器密封性的测试设备,其特征在于,所述驱动组件包括牵引绳一(14)、牵引绳二(15)、支撑板(16)、连接板(17)和滑槽(18),所述牵引绳一(14)与真空釜(1)的内壁固接,所述牵引绳一(14)远离真空釜(1)的一端贯穿过滤板(4),所述牵引绳二(15)的外侧与牵引绳一(14)远离真空釜(1)的一端固接,所述支撑板(16)固接在牵...

【专利技术属性】
技术研发人员:公正宋犇
申请(专利权)人:山东中成包装科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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