一种电子级三氟化硼的纯化方法技术

技术编号:46612578 阅读:1 留言:0更新日期:2025-10-14 21:10
本发明专利技术涉及一种电子级三氟化硼的纯化方法,包括以下步骤:S1、吸附步骤:将含有杂质的三氟化硼气体通入吸附塔,去除HF杂质,所述吸附塔装填有负载氢氧化钠的活性氧化铝;S2、精馏步骤:在一级精馏塔塔顶去除轻组分杂质,合格后从侧线至二级精馏塔中间位置进料口,在二级精馏塔塔釜去除重组分,塔顶采出合格产品,最终三氟化硼气体纯度不低于99.999%。本发明专利技术解决现有技术中三氟化硼纯度不足、纯化工艺不佳的问题,实现高效去除杂质、提高产品纯度的效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及气体纯化,具体涉及一种电子级三氟化硼的纯化方法


技术介绍

1、三氟化硼(bf3)作为一种重要的工业原料,在有机合成、石油化工、电子工业等诸多领域有着广泛应用。例如,它在有机反应中常作为催化剂,能有效促进各类化学反应的进行。然而,市售的三氟化硼通常含有多种杂质,如氟化氢、二氧化硫、二氧化碳等,这些杂质的存在会严重影响三氟化硼的催化活性以及在电子级应用中的性能,限制了其在高精度要求领域的使用。

2、中国专利cn119240724a涉及一种高纯度三氟化硼11的纯化方法,包括以下步骤:s1、将三氟化硼11的纯化装置进行氮气吹扫并置换,保持水分含量<1ppm;s2、将三氟化硼11原料经过吸附除杂,脱除部分hf杂质,得到混合气;s3、将s2得到的混合气通过精馏脱除轻组分,得到混合液;s4、将s3得到的混合液再次经过精馏脱除重组分,得到高纯三氟化硼11;s5、将高纯三氟化硼11收集到冷阱并进行充装。本专利技术的技术方案,将采购的产品通入精馏塔去除轻组分和重组分,得到高纯产品,通过精馏过程的精确控制,有效去除了三氟化硼11中的轻组分和重组分杂质本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种电子级三氟化硼的纯化方法,其特征在于包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种电子级三氟化硼的纯化方法,其特征在于,所述负载氢氧化钠的活性氧化铝的制备方法为:用去离子水溶解氢氧化钠,制备质量分数为10%~30%的氢氧化钠溶液,将活性氧化铝放入制备好的氢氧化钠溶液中活性氧化铝完全浸没,室温下搅拌浸泡1~3h,使活性氧化铝充分吸附氢氧化钠中的氢氧根离子,将浸泡过的活性氧化铝取出,用滤纸吸出多余溶液放置烘箱,在100℃~150℃下干燥2~5h,将干燥后的活性氧化铝放置马弗炉中,在300℃~600℃下烘3~5h。

3.根据权利要求2所述的一种电子级三氟化硼的纯化...

【技术特征摘要】

1.一种电子级三氟化硼的纯化方法,其特征在于包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种电子级三氟化硼的纯化方法,其特征在于,所述负载氢氧化钠的活性氧化铝的制备方法为:用去离子水溶解氢氧化钠,制备质量分数为10%~30%的氢氧化钠溶液,将活性氧化铝放入制备好的氢氧化钠溶液中活性氧化铝完全浸没,室温下搅拌浸泡1~3h,使活性氧化铝充分吸附氢氧化钠中的氢氧根离子,将浸泡过的活性氧化铝取出,用滤纸吸出多余溶液放置烘箱,在100℃~150℃下干燥2~5h,将干燥后的活性氧化铝放置马弗炉中,在300℃~600℃下烘3~5h。

3.根据权利要求2所述的一种电子级三氟化硼的纯化方法,其特征在于,活性氧化铝直径0.5mm~5mm,孔径0.5nm~5nm。

4.根据权利要求1所述的一种电子级三氟化硼的纯化方法,其特征在于,所述轻组分包括h2、n2和o2;...

【专利技术属性】
技术研发人员:王佳佳王星帅武建鹏李曼华李鑫童莹刘天军倪珊珊
申请(专利权)人:中船邯郸派瑞特种气体股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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