【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光电子器件,具体涉及一种pdse2/bi2o2se范德华异质结自驱动光电探测器的制备方法。
技术介绍
1、随着信息技术、可穿戴设备、环境监测和生物医疗等领域的快速发展,对高性能、低功耗、宽谱响应的光电探测器需求日益迫切。近年来,具有原子级厚度的二维材料因其优异的光电特性、灵活的异质集成能力以及兼容柔性电子器件的潜力,成为构建新型光电器件的重要材料体系。
2、目前,基于二维材料异质结构(如黑磷/mos2、wse2/mote2、sns2/mos2等)构建的光电探测器已展现出高响应度、低暗电流与自驱动等优点(参考文献:xia,f.etal.,nat.photonics,2014,8,899–907;roy,t.etal.,nat.nanotechnol.,2013,8,826–830)。其中,二维bi2o2se因其高电子迁移率、宽波段光响应能力及环境稳定性,近年来受到广泛关注,成为一种前景广阔的n型二维半导体材料。已有研究利用bi2o2se与wse2、sns2等材料构建异质结光电器件,依赖异质界面产生的内建电场实现自
...【技术保护点】
1.一种PdSe2/Bi2O2Se范德华异质结自驱动光电探测器的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述PdSe2纳米片的制备方法包括以下步骤:
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述Bi2O2Se纳米片的制备方法包括以下步骤:
4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于:所述PdSe2纳米片的厚度控制在4–15nm范围内。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述Bi2O2Se纳米片的厚度控制在10–20nm范围内。
6.根据权利要求1
...【技术特征摘要】
1.一种pdse2/bi2o2se范德华异质结自驱动光电探测器的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述pdse2纳米片的制备方法包括以下步骤:
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述bi2o2se纳米片的制备方法包括以下步骤:
4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于:所述pdse2纳米片的厚度控制在4–15nm范围内。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述bi2o2se纳米片的厚度控制在10–20nm...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘明强,张令,毕津顺,肖文君,艾尔肯·阿不都瓦衣提,王刚,郝乐,高昌松,王德贵,吴艳,刘雪飞,王珍,
申请(专利权)人:贵州师范大学,
类型:发明
国别省市:
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