一种PdSe2/Bi2O2Se范德华异质结自驱动光电探测器的制备方法技术

技术编号:46612401 阅读:0 留言:0更新日期:2025-10-14 21:10
本发明专利技术提供一种PdSe2/Bi2O2Se范德华异质结自驱动光电探测器的制备方法,涉及二维材料异质结构的构建及其光电器件应用。该方法包括以下步骤;通过化学气相沉积(CVD)工艺制备纳米片:采用CVD工艺分别制备PdSe2纳米片和Bi2O2Se纳米片;异质结构制备:通过干法转移方式,将PdSe2纳米片转移至Bi2O2Se纳米片表面,形成界面清洁、层间耦合紧密的范德华异质结结构。该转移技术保持二维材料晶格与形貌完整,减少有机残留和溶剂污染影响。异质结结构结合PdSe2窄带隙与Bi2O2Se宽光谱响应特性,实现可见光至近红外高效光电转换。p‑n型异质结内建电场使器件无外加偏压下自驱动,具备低功耗等性能。且工艺热预算低,兼容性强,适用于多种衬底,为柔性光电探测器构建提供技术路径。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光电子器件,具体涉及一种pdse2/bi2o2se范德华异质结自驱动光电探测器的制备方法。


技术介绍

1、随着信息技术、可穿戴设备、环境监测和生物医疗等领域的快速发展,对高性能、低功耗、宽谱响应的光电探测器需求日益迫切。近年来,具有原子级厚度的二维材料因其优异的光电特性、灵活的异质集成能力以及兼容柔性电子器件的潜力,成为构建新型光电器件的重要材料体系。

2、目前,基于二维材料异质结构(如黑磷/mos2、wse2/mote2、sns2/mos2等)构建的光电探测器已展现出高响应度、低暗电流与自驱动等优点(参考文献:xia,f.etal.,nat.photonics,2014,8,899–907;roy,t.etal.,nat.nanotechnol.,2013,8,826–830)。其中,二维bi2o2se因其高电子迁移率、宽波段光响应能力及环境稳定性,近年来受到广泛关注,成为一种前景广阔的n型二维半导体材料。已有研究利用bi2o2se与wse2、sns2等材料构建异质结光电器件,依赖异质界面产生的内建电场实现自驱动光响应(参见:a本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种PdSe2/Bi2O2Se范德华异质结自驱动光电探测器的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述PdSe2纳米片的制备方法包括以下步骤:

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述Bi2O2Se纳米片的制备方法包括以下步骤:

4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于:所述PdSe2纳米片的厚度控制在4–15nm范围内。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述Bi2O2Se纳米片的厚度控制在10–20nm范围内。

6.根据权利要求1所述的一种PdSe2...

【技术特征摘要】

1.一种pdse2/bi2o2se范德华异质结自驱动光电探测器的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述pdse2纳米片的制备方法包括以下步骤:

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述bi2o2se纳米片的制备方法包括以下步骤:

4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于:所述pdse2纳米片的厚度控制在4–15nm范围内。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述bi2o2se纳米片的厚度控制在10–20nm...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘明强张令毕津顺肖文君艾尔肯·阿不都瓦衣提王刚郝乐高昌松王德贵吴艳刘雪飞王珍
申请(专利权)人:贵州师范大学
类型:发明
国别省市:

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