一种超透镜器件及其制造方法技术

技术编号:46610251 阅读:1 留言:0更新日期:2025-10-14 21:08
本申请提供一种超透镜器件及其制造方法,所述超透镜器件包括:衬底(1),所述衬底的材料为透明的第一介质材料,具有第一折射率;形成于所述衬底表面的柱状结构(11),所述柱状结构在所述衬底表面呈阵列排列,所述柱状结构的材料具有第二折射率;以及形成于所述柱状结构的顶部的覆盖结构(21),所述覆盖结构为透明的第二介质材料,具有第三折射率,所述第二折射率大于所述第一折射率,所述第二折射率大于所述第三折射率。由此,具有减少反射增加透射,光损耗低,高光通量的效果。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及半导体,尤其涉及一种超透镜器件及其制造方法


技术介绍

1、超透镜(metalenses)由不同特征尺寸的纳米柱或环等二维结构按照一定的顺序排列组合形成。其可以在非常薄的膜层中使用波长或纳米结构实现对光相位、振幅、偏振等进行调控,一片透镜就可以实现多片传统透镜组合功能,不需要复杂和大量的透镜组,所以其重量更轻,体积更小,具有更好的聚焦质量。

2、目前,超透镜可以使用成熟的半导体工艺如电子束直写光刻(ebl)、深紫外光刻(duv)、极紫外光刻(euv)等光刻技术先在衬底表面形成图形,再通过刻蚀工艺将结构转移到衬底从而实现制备。

3、由于超透镜只在单层膜中就可以实现特定光学效果,所以当光源入射时,多数光会被衬底反射,少数光会被衬底吸收导致光源的无效损耗,间接降低了超透镜收光能力和利用率导致分辨率下降;此外,为了弥补光损耗提高收光能力,可以增加超透镜面积或者减小光源与超透镜间的距离,但前者会增加工艺难度,后者会降低聚焦效率。

4、应该注意,上面对技术背景的介绍只是为了方便对本申请的技术方案进行清楚、完整的说明,并方便本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种超透镜器件,其特征在于,所述超透镜器件包括:

2.如权利要求1所述的超透镜器件,其特征在于,

3.如权利要求2所述的超透镜器件,其特征在于,

4.如权利要求1至3中任一项所述的超透镜器件,其特征在于,

5.一种超透镜器件的制造方法,其特征在于,所述方法包括:

6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

7.如权利要求5所述的方法,其特征在于,

8.如权利要求5所述的方法,其特征在于,

9.如权利要求5所述的方法,其特征在于,

10.如权利要求9所述的方法,其特...

【技术特征摘要】

1.一种超透镜器件,其特征在于,所述超透镜器件包括:

2.如权利要求1所述的超透镜器件,其特征在于,

3.如权利要求2所述的超透镜器件,其特征在于,

4.如权利要求1至3中任一项所述的超透镜器件,其特征在于,

5.一种超透镜器件的制造方法,其特征在于,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:张琬皎龙眈
申请(专利权)人:上海新微技术研发中心有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1