一种射频等离子清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种射频等离子清洗装置，涉及等离子清洗设备技术领域，包括启辉系统、真空系统和控制系统；启辉系统含外壳体、气流调节器、石英空心管及电感驱动线圈；外壳体有内部空腔，气流调节器及石英空心管设于其内，气流调节器可调节气体流量；电感驱动线圈套在石英空心管外；真空系统包括真空舱、载物台和抽真空设备；载物台固定在真空舱内，抽真空设备抽气口连通舱内，真空舱对应载物台上方的连通口与石英空心管下端开口连接连通；控制系统含射频电源，可为电感驱动线圈提供射频能量，其功率可调，且清洗气体可切换为不同气体。其能够实现设备体积小巧重量轻，结构紧凑，成本低。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及等离子清洗设备，特别是涉及一种射频等离子清洗装置。

技术介绍

1、等离子体和固体、液体或气体一样，是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。等离子清洗技术的工作原理主要是激活键能的交联作用，是对材料表面轰击的物理作用和形成新官能团的化学作用:其主要包含四大应用:表面清洗，表面激活，蚀刻和涂层。与传统溶剂清洗方式相比，等离子清洗有许多优点，如不污染环境、不需要清洗液体、清洗效率高、清洗效果好等，还可活化物体表面、增加表面润湿性能、改善黏着力，因此在电子、航空、医疗、纺织等领域运用广泛。

2、现有的等离子体清洗装置体积较大，且装置机械结构复杂性，导致系统对高精度零部件的依赖性增强，增加了制造与维护成本。

技术实现思路

1、本专利技术的目的是提供一种射频等离子清洗装置，以解决上述现有技术存在的问题，实现设备体积小巧重量轻，结构紧凑，成本低。

2、为实现上述目的，本专利技术提供了如下方案：

3、本专利技术提供一种射频等离子清洗装置，包括启辉系统、真空系统和控制系统；所述启本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种射频等离子清洗装置，其特征在于：包括启辉系统、真空系统和控制系统；

2.根据权利要求1所述的射频等离子清洗装置，其特征在于：所述射频电源的固定频率为13.56MHz。

3.根据权利要求1所述的射频等离子清洗装置，其特征在于：所述启辉系统还包括真空截止阀；

4.根据权利要求1所述的射频等离子清洗装置，其特征在于：所述外壳体的上端固定有射频接头，所述射频接头与所述电感驱动线圈连接；所述射频接头用于与所述射频电源连接。

5.根据权利要求3所述的射频等离子清洗装置，其特征在于：所述外壳体内对应所述电感驱动线圈的位置固定设置有至少一个第一散热...

【技术特征摘要】

1.一种射频等离子清洗装置，其特征在于：包括启辉系统、真空系统和控制系统；

2.根据权利要求1所述的射频等离子清洗装置，其特征在于：所述射频电源的固定频率为13.56mhz。

3.根据权利要求1所述的射频等离子清洗装置，其特征在于：所述启辉系统还包括真空截止阀；

4.根据权利要求1所述的射频等离子清洗装置，其特征在于：所述外壳体的上端固定有射频接头，所述射频接头与所述电感驱动线圈连接；所述射频接头用于与所述射频电源连接。

5.根据权利要求3所述的射频等离子清洗装置，其特征在于：所述外壳体内对应所述电感驱动线圈的位置固定设置有至少一个第一散热风扇；所述外壳体内对应所述真空截止阀的位置固定设置有一个第二散...

【专利技术属性】
技术研发人员：王飞，李隆玉，张泽，
申请(专利权)人：浙江祺跃科技有限公司，
类型：发明
国别省市：