一种超薄式光学指纹模组及其制作方法技术

技术编号:46597632 阅读:2 留言:0更新日期:2025-10-10 21:30
本发明专利技术公开了一种超薄式光学指纹模组,包括基板层、感光芯片层、微透镜阵列层和保护组件层,所述保护组件层包括位于远离所述微透镜阵列层一侧的保护膜层,以及位于靠近所述微透镜阵列层一侧的遮光胶层,所述遮光胶层与所述保护膜层之间具有第一粘接力,所述遮光胶层与所述微透镜阵列层之间具有第二粘接力,所述第一粘接力小于所述第二粘接力,以使当所述保护膜层被撕去时,所述遮光胶层可与所述保护膜层分离而留在所述微透镜阵列层上。该超薄式光学指纹模组可减少制作工序,以提高制作效率。本发明专利技术还公开了一种上述超薄式光学指纹模组的制作方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学指纹识别技术,尤其涉及一种超薄式光学指纹模组及其制作方法


技术介绍

1、指纹识别是将识别对象的指纹进行分类比对从而进行判别的一项技术。目前,指纹模组根据指纹采集方式不同,可分为三种:电容指纹模组、光学指纹模组以及超声波指纹模组,而光学指纹模组又根据聚光方式不同,分为镜头式和超薄式两种光学指纹模组。

2、传统的镜头式光学指纹模组采用光学镜头进行聚光,而光学镜头具有沿光轴方向设置的多个光学镜片,其厚度较大,无法满足屏下光学指纹装置的轻薄要求。而超薄式光学指纹模组采用微透镜阵列进行聚光,一个聚光微透镜对应于感光芯片上的一个感光像素点,相当于仅有一个光学镜片,可满足屏下光学指纹装置的轻薄要求。

3、超薄式光学指纹模组会在微透镜阵列的非阵列区域上采用移印油墨工艺制作一层遮光油墨,以避免从非阵列区域透过的光线对感光芯片的感光区域造成杂光干涉。如申请号为cn202010839154.5的中国专利公开了一种光学指纹装置,应用于具有显示屏的电子设备,所述光学指纹装置用于设置在所述显示屏的下方,所述光学指纹装置包括:光学指纹芯片,包本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种超薄式光学指纹模组,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的超薄式光学指纹模组,其特征在于,所述遮光胶层为黑色双面胶带,其两侧表面具有粘性。

3.根据权利要求1所述的超薄式光学指纹模组,其特征在于,所述保护膜层包括保护膜片和离型膜片,所述离型膜片设置于所述保护膜层和遮光胶层之间;所述保护膜片和离型膜片中的至少一个设有撕膜手柄。

4.根据权利要求3所述的超薄式光学指纹模组,其特征在于,所述保护膜片为高透PET膜,其透过率不低于90%,其抗静电值为106-109Ω/sq。

5.根据权利要求3所述的超薄式光学指纹模组,其特征在于,所述...

【技术特征摘要】

1.一种超薄式光学指纹模组,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的超薄式光学指纹模组,其特征在于,所述遮光胶层为黑色双面胶带,其两侧表面具有粘性。

3.根据权利要求1所述的超薄式光学指纹模组,其特征在于,所述保护膜层包括保护膜片和离型膜片,所述离型膜片设置于所述保护膜层和遮光胶层之间;所述保护膜片和离型膜片中的至少一个设有撕膜手柄。

4.根据权利要求3所述的超薄式光学指纹模组,其特征在于,所述保护膜片为高透pet膜,其透过率不低于90%,其抗静电值为106-109ω/sq。

5.根据权利要求3所述的超薄式光学指纹模组,其特征在于,所述离型膜片为轻离型膜或超轻离型膜,其剥离力小于5g/mm。

6.根据权利要求3所述的超薄式光...

【专利技术属性】
技术研发人员:谢永辉
申请(专利权)人:信利光电科技汕尾有限公司
类型:发明
国别省市:

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