一种用于碳化硅反应烧结炉内的氮化硅涂层制造技术

本发明专利技术公开了一种用于碳化硅反应烧结炉内的氮化硅涂层，属于防护涂料技术领域。本发明专利技术提供了氮化硅涂层，其中不含硼元素，从根本上杜绝了硼元素的引入，采用氮化硅涂层烧结炉烧结的碳化硅陶瓷产品中的硼杂质含量低，产品因烧结带来的硼元素含量超标问题得以控制，大大提升了产品的纯度。本发明专利技术氮化硅涂层流平性好，化学性质稳定，所得涂层结构稳定，不易与反应烧结碳化硅过程中的各种化学物质发生反应，在高温下不易出现开裂而导致烧结炉防护层受损，防护性能优异；采用本发明专利技术涂层防护的真空烧结炉，碳化硅陶瓷烧结过程中的硅不会进入炉内石墨件及发热体中，更不会导致炉内石墨件膨胀开裂变形，使产品烧结后与石墨件易分离，产品合格率大幅上升。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及防护涂料，具体为一种用于碳化硅反应烧结炉内的氮化硅涂层。

技术介绍

1、真空烧结炉在碳化硅(sic)陶瓷产品制造中发挥核心作用，通过真空环境与高温工艺协同，实现材料高纯度、高致密化及复杂结构成型。

2、真空烧结炉内的内壁、炉内石墨支架以及石墨加热件表面通常喷涂有防护涂层，防护涂层可以防止碳化硅反应烧结过程中，硅熔融态或者气态下渗入炉体石墨件及加热体内，导致炉内石墨件及发热体有炸裂风险，因此烧结炉内的防护涂层的性能尤为重要。

3、现有技术中，在反应烧结炉内喷涂的防护涂层为氮化硼涂层，氮化硼有良好的化学惰性与抗侵蚀性，能有效防止碳化硅反应过程中硅渗入到石墨件及发热体内。但其缺陷在于氮化硼的硼元素对于现有碳化硅产品来说属于杂质，会渗入到碳化硅产品内，影响烧结产品的纯度；此外，由于氮化硼涂层的流平性一般，主要原因是氮化硼纳米片表面具有较强的惰性和疏流平性，因此氮化硼涂层容易喷涂不均，受热易出现开裂导致防护层损坏，会导致反应烧结碳化硅陶瓷过程中，硅进入炉内石墨件及发热体中，从而导致石墨件膨胀开裂变形，硅、石墨件和烧结的产品粘连在本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于碳化硅反应烧结炉内的氮化硅涂层，其特征在于：以质量百分比计，其成分组成为：氮化硅微粉30%-40%、炭黑9%-11%、石墨烯4.5%-5.5%、聚乙烯吡咯烷酮0.95%-1.5%、聚乙二醇0.4%-0.6%、酒精45%-55%；

2.根据权利要求1所述的一种用于碳化硅反应烧结炉内的氮化硅涂层，其特征在于：以质量百分比计，所述氮化硅涂层的成分组成为：氮化硅微粉35%、炭黑10%、石墨烯5%、聚乙烯吡咯烷酮1%、聚乙二醇0.5%、酒精48.5%。

3.根据权利要求1所述的一种用于碳化硅反应烧结炉内的氮化硅涂层，其特征在于：所述氮化硅涂层的制备方法如下：将原...

【技术特征摘要】

1.一种用于碳化硅反应烧结炉内的氮化硅涂层，其特征在于：以质量百分比计，其成分组成为：氮化硅微粉30%-40%、炭黑9%-11%、石墨烯4.5%-5.5%、聚乙烯吡咯烷酮0.95%-1.5%、聚乙二醇0.4%-0.6%、酒精45%-55%；

2.根据权利要求1所述的一种用于碳化硅反应烧结炉内的氮化硅涂层，其特征在于：以质量百分比计，所述氮化硅涂层的成分组成为：氮...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋宝山，宋有鑫，杨灿鹏，孙黎明，宋宇鑫，戴鹏飞，
申请(专利权)人：江苏晶孚新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：