ITO导电膜制造技术

本发明专利技术公开了一种ITO导电膜，包括基材层，所述基材层包括PET基材以及设于PET基材相对两侧的低折底涂层和高折底涂层，在所述高折底涂层侧依次层叠设有第一涂布层、光学匹配层、二氧化硅镀层以及ITO导电层，所述第一涂布层的折射率为1.63~1.68，所述光学匹配层的折射率为2.5~2.6；其中，所述ITO导电膜的透过率a＊的绝对值小于0.2，所述ITO导电膜的透过率b＊的绝对值小于0.4，所述ITO导电膜刻蚀前后的反射率差值△R的绝对值小于0.15%。本发明专利技术的ITO导电膜通过对膜层结构中各个层的选择以及设计，使整个ITO导电膜的透过率a＊的绝对值小于0.2、其透过率b＊的绝对值小于0.4、以及其刻蚀前后的反射率差值△R的绝对值小于0.15%，从而避免ITO导电膜出现发蓝的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于ito导电膜，具体涉及一种ito导电膜。

技术介绍

1、手写板由于显示方式（反射式显示）的特殊性，一般要求有防眩光性，现有技术是由反射率较低的聚合物edot来作为导电层，聚合物edot随着时间变化，稳定性以及导电性能会发生很大变化，使产品失去功能。ito材料具有导电性能稳定的优点，因此手写板的ito导电膜会选择ito材料作为导电层的材料，但是ito材料特定的折射率（较高1.9nd左右）原因，导致ito导电膜贴合后会出现发蓝的问题。

2、公开于该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在增加对本专利技术的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种ito导电膜，其能够避免ito导电膜出现发蓝的问题。

2、为了实现上述目的，本专利技术一具体实施例提供的技术方案如下：一种ito导电膜，包括基材层，所述基材层包括pet基材以及设于pet基材相对两侧的低折底涂层和高折底涂层，在所述高折底涂层侧依本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种ITO导电膜，其特征在于，包括基材层，所述基材层包括PET基材以及设于PET基材相对两侧的低折底涂层和高折底涂层，在所述高折底涂层侧依次层叠设有第一涂布层、光学匹配层、二氧化硅镀层以及ITO导电层，所述第一涂布层的折射率为1.63~1.68，所述光学匹配层的折射率为2.5~2.6；

2.根据权利要求1所述的ITO导电膜，其特征在于，所述高折底涂层的折射率为1.63~1.65，高折底涂层厚度为40~60nm；

3.根据权利要求1所述的ITO导电膜，其特征在于，所述第一涂布层的厚度为800~1000nm。

4.根据权利要求1所述的ITO导电膜，其特...

【技术特征摘要】

1.一种ito导电膜，其特征在于，包括基材层，所述基材层包括pet基材以及设于pet基材相对两侧的低折底涂层和高折底涂层，在所述高折底涂层侧依次层叠设有第一涂布层、光学匹配层、二氧化硅镀层以及ito导电层，所述第一涂布层的折射率为1.63~1.68，所述光学匹配层的折射率为2.5~2.6；

2.根据权利要求1所述的ito导电膜，其特征在于，所述高折底涂层的折射率为1.63~1.65，高折底涂层厚度为40~60nm；

3.根据权利要求1所述的ito导电膜，其特征在于，所述第一涂布层的厚度为800~1000nm。

4.根据权利要求1所述的ito导电膜，其特征在于，所述光学匹配层为镍铬合金层，所述光学匹配层的厚度为1~2nm，其中镍铬合金层中镍占比70wt%~80wt%。

5.根据权利要求1所述的ito导电膜，其特征在于，所述二氧化硅镀层的厚度为20~30nm。

6.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡业新，于佩强，王何杰，宋尚金，袁明，
申请(专利权)人：江苏日久光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：