【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示，尤其是涉及一种光罩、金属掩膜版及制备方法。
技术介绍
1、在显示
，fmm（fine metal mask，精细金属掩膜版）是一种用于oled（有机发光二极管）面板制造的关键材料。它主要用于真空蒸镀过程中， rgb（红、绿、蓝）子像素材料通过fmm上的像素开口区域蒸镀到显示面板，从而实现高分辨率显示。
2、在制作fmm时，像素开口区域需要通过光罩上的图形将开口区域定义出来，然后采用湿刻的方式蚀刻出开口区域。如图1，当所需的fmm中的像素开口区域为圆角矩形时，圆角在制作时，如果光罩上的图形采用正常的矩形，90°的直角会导致药液无法将像素开口区域的圆角蚀刻到位，因此现有的光罩上的图形为图1中的四个直线型凸角结构及四条直边组成的封闭图样，但这种光罩图形仍然限制了像素开口区域的圆角的实际制作空间，因为这种直线型凸角结构会导致药液在流动时，流线在直角或尖角或者说两条直线交接处会产生突变，容易形成涡流和死区，导致流动不均匀，四个圆角可能出现不一样的半径，四条直边也可能蚀刻不均匀，在蚀刻过程中导致fmm产品的像素...
【技术保护点】
1.一种光罩，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，以所述图形定义区域的短边所在的长度为第一关键尺寸，所述图形定义区域的圆角的弧中点与所述像素开口区域的圆角的弧中点之间的距离为第一距离，当所述第一关键尺寸大于等于25微米且小于等于45微米时，所述第一距离大于等于所述第一关键尺寸的五分之一且小于所述第一关键尺寸的等于二分之一；当所述第一关键尺寸大于45微米且小于等于80微米时，所述第一距离大于等于所述第一关键尺寸的八分之一且小于所述第一关键尺寸的等于三分之一。
3.根据权利要求2所述的光罩，其特征在于，当所述第一关键尺寸大...
【技术特征摘要】
1.一种光罩，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，以所述图形定义区域的短边所在的长度为第一关键尺寸，所述图形定义区域的圆角的弧中点与所述像素开口区域的圆角的弧中点之间的距离为第一距离，当所述第一关键尺寸大于等于25微米且小于等于45微米时，所述第一距离大于等于所述第一关键尺寸的五分之一且小于所述第一关键尺寸的等于二分之一；当所述第一关键尺寸大于45微米且小于等于80微米时，所述第一距离大于等于所述第一关键尺寸的八分之一且小于所述第一关键尺寸的等于三分之一。
3.根据权利要求2所述的光罩，其特征在于，当所述第一关键尺寸大于等于25微米且小于等于45微米时，所述第一距离为第一长度；当所述第一关键尺寸大于45微米且小于等于80微米时，所述第一距离为第二长度；所述第一长度大于所述第二长度。
4.根据权利要求2所述的光罩，其特征在于，所述图形定义区域的圆角半径为所述像素开口区域的圆角半径...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴焰，徐华伟，王凤姣，王志欣，夏孝定，
申请(专利权)人：浙江众凌科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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