【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及粒子包覆装置以及粒子包覆方法。
技术介绍
1、在电感器等所使用的磁性粉末中,需要在粒子表面实施绝缘处理,抑制粒子间流动的涡电流,或者将端子间绝缘。因此,研究了使用各种成膜法来在磁性粉末的粒子表面形成绝缘膜的方法。例如,在专利文献1中公开了一种粒子包覆装置,其通过作为化学气相成膜法的一种的原子层沉积法(ald:atomic layer deposition)在软磁性金属粒子的表面形成绝缘膜。根据原子层沉积法,能够形成膜厚薄且均匀的绝缘膜。
2、专利文献1:日本特开2021-085050号公报
3、然而,在专利文献1记载的粒子包覆装置中,将软磁性金属粒子放入托盘来形成绝缘膜,但为了以均匀的膜厚成膜,需要限制放入托盘的软磁性金属粒子的量。因此,在专利文献1记载的粒子包覆装置中,存在无法充分提高带绝缘膜的粒子的制造效率的课题。
技术实现思路
1、粒子包覆装置具备:容积为10l~100l的腔室;气体导入部,设置于上述腔室,并能够向上述腔室内导入规定的气体;气体排
...【技术保护点】
1.一种粒子包覆装置,其特征在于,具备:
2.根据权利要求1所述的粒子包覆装置,其特征在于,
3.根据权利要求1所述的粒子包覆装置,其特征在于,
4.根据权利要求1~3中任一项所述的粒子包覆装置,其特征在于,
5.根据权利要求1~3中任一项所述的粒子包覆装置,其特征在于,
6.根据权利要求1~3中任一项所述的粒子包覆装置,其特征在于,
7.一种粒子包覆方法,其特征在于,具有:
8.根据权利要求7所述的粒子包覆方法,其特征在于,
9.根据权利要求7所述的粒子包覆方法,其特征在于,
【技术特征摘要】
1.一种粒子包覆装置,其特征在于,具备:
2.根据权利要求1所述的粒子包覆装置,其特征在于,
3.根据权利要求1所述的粒子包覆装置,其特征在于,
4.根据权利要求1~3中任一项所述的粒子包覆装置,其特征在于,
5.根据权利要求1~3中任一项所...
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