【技术实现步骤摘要】
本技术属于釉面砖，特别是涉及一种新型析晶减少的哑光釉面砖。
技术介绍
1、釉面砖是砖的表面经过施釉高温高压烧制处理的瓷砖，这种瓷砖是由土胚和表面的釉面两个部分构成的，釉面砖表面可以做各种图案和花纹，比抛光砖色彩和图案丰富。因此在建筑材料领域中，釉面砖因其美观、耐用、易清洁等特性而被广泛应用于墙面和地面的装修。然而，传统的釉面砖在使用过程中仍存在一些问题：
2、传统的釉面砖在铺设时，往往难以确保多个釉面砖之间的准确对齐，容易导致缝隙不均匀，影响整体美观；同时，边角限位不足也容易导致釉面砖在长期使用过程中出现翘起或脱落等问题，使用效果不够好。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种新型析晶减少的哑光釉面砖，本技术中，该哑光釉面砖通过优化釉料与烧制工艺，显著减少了釉面砖的析晶现象，赋予其均匀哑光质感，提升了美观度和耐用性；其定位组件与限位组件的巧妙设计，确保了铺设时的精准对齐与边角稳固，有效防止釉面砖翘起或脱落；定位槽底部的通孔及釉面砖侧面的凹槽设计，增强了与水泥砂浆的结合力，提...
【技术保护点】
1.一种新型析晶减少的哑光釉面砖，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的一种新型析晶减少的哑光釉面砖，其特征在于，所述定位组件包括开设于釉面砖主体(1)顶部的多个定位槽(6)，多个所述定位槽(6)均贯穿下釉面层(3)、防水层(4)、上釉面层(5)，多个所述定位槽(6)均匀排列且位于釉面砖主体(1)相邻的两侧；所述釉面砖主体(1)的两侧固定安装有多个定位块(8)，多个所述定位块(8)均匀排列且位于釉面砖主体(1)的另外两侧，多个所述定位块(8)均与相邻釉面砖主体(1)的多个定位槽(6)卡合配合。
3.如权利要求2所述的一种新型析晶减少的哑光釉...
【技术特征摘要】
1.一种新型析晶减少的哑光釉面砖，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的一种新型析晶减少的哑光釉面砖，其特征在于，所述定位组件包括开设于釉面砖主体(1)顶部的多个定位槽(6)，多个所述定位槽(6)均贯穿下釉面层(3)、防水层(4)、上釉面层(5)，多个所述定位槽(6)均匀排列且位于釉面砖主体(1)相邻的两侧；所述釉面砖主体(1)的两侧固定安装有多个定位块(8)，多个所述定位块(8)均匀排列且位于釉面砖主体(1)的另外两侧，多个所述定位块(8)均与相邻釉面砖主体(1)的多个定位槽(6)卡合配合。
3.如权利要求2所述的一种新型析晶减少的哑光釉面砖，其特征在于，多个所述定位槽(6)的底部均设置有通孔(7)，多个所述通孔(7)的一端均贯穿胚底(2)，多个所述定位槽(6)用于在安装时确保水泥砂浆能够进入定位槽(6)内。
4.如权利要求1所述的一种新型析晶减少的哑光釉面砖，其特征在于，所述限位组件包括开设于釉面砖主体(1)拐角处的安装槽(11)和限位槽(12)，所述限位槽(12)位于安装槽(11)上方，所述安装槽(11)贯穿胚底(2)，所述限位槽(12)贯穿下釉面层(3)、防水层(4)、上釉面层(5)，四个相邻的安装槽(11)、限位槽(12)相互配合并形成第一圆孔和第二圆孔，所述第一圆孔内部...
【专利技术属性】
技术研发人员：李鸿鹏，李愈涛，徐欢，
申请(专利权)人：云浮市辉鹏陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：
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