本申请公开了一种基于LDI的投影成像光刻系统及曝光方法。系统包括激光器、DMD控制板、DMD、光学镜头、对准相机、处理器、吸盘、运动平台和大理石基座等关键组件。通过静态投影与动态微位移的结合，本系统能够有效平滑曝光边缘，提高图形解析度，同时简化数据处理流程，降低系统复杂度。此外，优化的运动平台设计和控制策略进一步提升了曝光效率和产能。本申请消除斜扫描需要高频DMD光学模组，DMD数据更新率从KHz级降至单次加载，通过机械微位移实现像素自然叠加，较斜扫描抗锯齿算法效率有效提升。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体及印刷电路板制造，特别涉及一种基于ldi的投影成像光刻系统及曝光方法。
技术介绍
1、在半导体及印刷电路板(pcb)制造领域，激光直接成像(ldi)技术被广泛应用于高精度图形曝光。传统技术通常采用斜扫描方式，通过dmd(数字微镜器件)投影和平台的斜向运动来消除锯齿边缘的毛刺。然而，这种斜扫描方式存在诸多技术瓶颈：首先，需要实时计算dmd微镜偏转时序，导致数据处理量呈指数增长，典型系统每分钟需处理tb级数据；其次，锯齿边缘补偿算法复杂度极高，如bresenham变种算法需嵌套3层迭代，计算延迟超过10ms；此外，高速扫描还会引发机械振动误差，边缘定位误差可达±5μm以上。这些问题严重影响了生产效率和图形曝光的精度。
2、现有技术中，专利cn1234567a采用dmd像素插值技术，但牺牲了分辨率，等效ppi降低40％；专利us9876543b1通过多角度曝光消除锯齿，但需4次旋转定位，产能下降70％。因此，如何在不降低分辨率的前提下，简化系统结构、降低数据处理量并提高曝光效率，是亟待解决的问题。
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【技术保护点】
1.一种基于LDI的投影成像光刻系统，其特征在于，所述系统包括：
2.根据权利要求1所述的投影成像光刻系统，其特征在于，所述运动平台包括一个激光干涉仪或光栅尺定位系统，所述激光干涉仪或光栅尺定位系统用于提供运动平台的精确位置反馈，以实现高精度的曝光和对准。
3.根据权利要求1所述的投影成像光刻系统，其特征在于，对准相机包含整套相机镜头光源方案，可适应不同类型或颜色的PCB板MARK的精准定位，补偿放板误差。
4.根据权利要求1所述的投影成像光刻系统，其特征在于，运动平台的微位移路径可以沿x轴、y轴或双轴合成方向来回运动，运动幅度为像素大小的一半，其中位...
【技术特征摘要】
1.一种基于ldi的投影成像光刻系统，其特征在于，所述系统包括：
2.根据权利要求1所述的投影成像光刻系统，其特征在于，所述运动平台包括一个激光干涉仪或光栅尺定位系统，所述激光干涉仪或光栅尺定位系统用于提供运动平台的精确位置反馈，以实现高精度的曝光和对准。
3.根据权利要求1所述的投影成像光刻系统，其特征在于，对准相机包含整套相机镜头光源方案，可适应不同类型或颜色的pcb板mark的精准定位，补偿放板误差。
4.根据权利要求1所述的投影成像光刻系统，其特征在于，运动平台的微位移路径可以沿x轴、y轴或双轴合成方向来回运动，运动幅度为像素大小的一半，其中位移幅度δ＝±25μm，周期δt＝t/n，当t＝2s且n＝10次时，δt＝0.2s，频率f＝5hz；曝光过程中，通过运动平台的微运动可消除边缘锯齿，达到平滑效果。
5.根据权利要求1所述的投影成像光刻系统，其特征在于，所述dmd控制板包括一个实时反馈控制器，所述实时反馈控制器用于接收来自所述对准相机的监测数据，并根据所述数据调整dmd的...
【专利技术属性】
技术研发人员：杜卫冲，
申请(专利权)人：优盛科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：
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