【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体,尤其涉及一种功率器件及制备方法、功率模块、功率转换电路和车辆。
技术介绍
1、近年来,随着5g、新能源等高频、大功率射频及电力电子需求的快速增长,以碳化硅(sic)为首的第三代半导体材料在这一趋势下逐渐从科研走向产业化,并成为替代部分硅基功率器件的明确趋势。
2、为了提高碳化硅器件的反向耐压,减小电场集中效应,在高压器件中,需要采用结终端技术来调制器件内部耐压区的电场分布。常用的碳化硅器件边缘终端结构有场限环、结终端延伸和场板等。
3、场限环是一种常用的功率器件边缘终端结构,场限环结构可以和器件主结区同时制作,因而制造步骤简单,成本低廉。然而,场限环需要精确设计环间距、环宽、环深度,微小的偏差可能导致击穿电压大幅下降,耐压性能降低。
技术实现思路
1、本专利技术提供了一种功率器件及制备方法、功率模块、功率转换电路和车辆,可以提高器件的耐压性能,提高器件的可靠性。
2、根据本专利技术的一方面,提供了一种功率器件,包括:
3
...【技术保护点】
1.一种功率器件,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的功率器件,其特征在于,沿所述第一方向,每一所述阻挡层的厚度相同;
3.根据权利要求1所述的功率器件,其特征在于,所述终端区设置有多个场限环组;沿第一方向,所述多个场限环组间隔设置,相邻场限环组的间距相同或者依次递增。
4.根据权利要求3所述的功率器件,其特征在于,所述相邻场限环组的间距为0.5μm-5μm。
5.根据权利要求1所述功率器件,其特征在于,所述终端区设置有多个场限环组;沿第一方向,每一所述场限环组中两个沟槽的间距相同或者依次递减。
6.
...【技术特征摘要】
1.一种功率器件,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的功率器件,其特征在于,沿所述第一方向,每一所述阻挡层的厚度相同;
3.根据权利要求1所述的功率器件,其特征在于,所述终端区设置有多个场限环组;沿第一方向,所述多个场限环组间隔设置,相邻场限环组的间距相同或者依次递增。
4.根据权利要求3所述的功率器件,其特征在于,所述相邻场限环组的间距为0.5μm-5μm。
5.根据权利要求1所述功率器件,其特征在于,所述终端区设置有多个场限环组;沿第一方向,每一所述场限环组中两个沟槽的间距相同或者依次递减。
6.一种功率器件的制备方法,其特征在于,包括:
7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,形成半导体本体,包括...
【专利技术属性】
技术研发人员:唐宇坤,罗成志,
申请(专利权)人:长飞先进半导体武汉有限公司,
类型:发明
国别省市:
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