电子束蒸发镀膜装置及电子束蒸发镀膜系统制造方法及图纸

本技术涉及镀膜技术领域，公开了一种电子束蒸发镀膜装置及电子束蒸发镀膜系统。其中，电子束蒸发镀膜装置包括：坩埚，包括坩埚本体和环形设于坩埚本体上的环形凹槽，环形凹槽内适于放置镀膜物料；电子束枪，用于对环形凹槽局部区域内的镀膜物料发射电子束；驱动机构，具有驱动端，驱动端与坩埚本体相连接，用于驱动坩埚本体旋转以切换电子束作用于环形凹槽上的局部区域。相较于常规的与电子束枪配合使用的小坩埚，本技术选择在坩埚上设置环形设于坩埚本体上的环形凹槽，可以有效增加坩埚用于盛放镀膜物料的容积，减少后续镀膜过程中停机重新投料的次数以及恢复正常镀膜所消耗的调试时间，为后续的连续性镀膜奠定了基础。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及，具体涉及一种电子束蒸发镀膜装置及电子束蒸发镀膜系统。

技术介绍

1、电子束蒸镀是一种物理气相沉积技术，是在真空下利用电子束直接加热蒸发放置在坩埚内的镀膜物料，使其受热汽化，沉积在衬底表面形成薄膜的技术。

2、由于电子束的特性，目前用来盛放镀膜物料的坩埚自身容积相对较小，能够盛放的蒸镀物料比较有限，因此需要经常停机，以完成向坩埚内重新投料或更换盛放镀膜物料的新坩埚的操作。然而，若采用重新投料的方式，由于坩埚中物料高低不平，导致蒸镀时出现源气体局部分布不均的现象；若采用更换坩埚的方式，因为蒸镀是在高真空环境下进行的，更换坩埚会导致开腔操作而破坏镀膜腔室中的真空环境，在重新镀膜时需要较长的时间来重新达到原始蒸镀环境，这样一来不利于实现长时间内的连续性生产。

技术实现思路

1、有鉴于此，本技术提供了一种电子束蒸发镀膜装置及电子束蒸发镀膜系统，以解决相关技术中的电子束蒸发镀膜装置不支持长时间连续性生产的问题。

2、第一方面，本技术提供了一种电子束蒸发镀膜装置(为了方便表述，下文简称为本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种电子束蒸发镀膜装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的电子束蒸发镀膜装置，其特征在于，所述电子束枪(2)相邻设置于所述坩埚本体(101)的一侧，所述驱动机构(3)的回转中心与所述环形凹槽(102)的中心轴同轴或平行设置。

3.根据权利要求1所述的电子束蒸发镀膜装置，其特征在于，所述坩埚本体(101)的中心设有通孔(103)，所述环形凹槽(102)环绕所述通孔(103)设置，所述电子束枪(2)设于所述通孔(103)中，所述驱动机构(3)设于所述坩埚本体(101)的周侧。

4.根据权利要求3所述的电子束蒸发镀膜装置，其特征在于，所述驱动机...

【技术特征摘要】

1.一种电子束蒸发镀膜装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的电子束蒸发镀膜装置，其特征在于，所述电子束枪(2)相邻设置于所述坩埚本体(101)的一侧，所述驱动机构(3)的回转中心与所述环形凹槽(102)的中心轴同轴或平行设置。

3.根据权利要求1所述的电子束蒸发镀膜装置，其特征在于，所述坩埚本体(101)的中心设有通孔(103)，所述环形凹槽(102)环绕所述通孔(103)设置，所述电子束枪(2)设于所述通孔(103)中，所述驱动机构(3)设于所述坩埚本体(101)的周侧。

4.根据权利要求3所述的电子束蒸发镀膜装置，其特征在于，所述驱动机构(3)包括驱动电机(301)，所述驱动电机(301)的驱动轴(3011)上设有驱动轮(302)，所述驱动轮(302)与所述坩埚本体(101)的侧壁传动连接。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的电子束蒸发镀膜装置，其特征在于，由所述环形凹槽(102)的槽...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨建，王雪戈，冯治华，
申请(专利权)人：极电光能有限公司，
类型：新型
国别省市：