【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示,尤其涉及一种显示器件光色转换层的制备方法。
技术介绍
1、彩色显示器件主要通过控制不同颜色单色光谱的叠加或排列,实现多种单色光谱的选择和合成,从而实现全彩显示。
2、目前,彩色显示器件的制备方式主要包含以下几种:
3、(1)将红光芯片、绿光芯片、蓝光芯片作为显示器件的像素,通过调节红光芯片、绿光芯片、蓝光芯片的亮度比例来调整显示颜色,从而实现多种色彩组合,市面上常见的如cob显示屏,这种显示器件的像素间距一般较大,通常在200μm以上,可通过巨量转移技术实现芯片转移,然而,当显示器件为微显示屏时,像素尺寸以及像素间距显著缩小,像素尺寸一般为1μm~50μm,像素间距在20μm以下,通常为1μm~20μm,此种情况下,通过巨量转移方式将红光芯片、绿光芯片、蓝光芯片精确转移至如此小像素间距的显示器件内进行彩色显示则较为困难。
4、(2)利用光刻胶材料在发光体表面制备彩膜,形成彩色像素,可满足微显示屏等显示器件的彩色显示需求,无需巨量转移,但受光刻胶涂胶、光刻等工艺良率影响,彩膜局部区域
...【技术保护点】
1.一种显示器件光色转换层的制备方法,用于在显示器件表面制备光色转换层,所述光色转换层用于光色转换,其特征在于,该方法包括:提供一显示器件,所述显示器件包括LED芯片,所述LED芯片包括衬底(101)、阵列分布于衬底(101)的发光体(102);
2.根据权利要求1所述的显示器件光色转换层的制备方法,其特征在于,制备所述彩膜(2),包括:提供一透明基板(201);
3.根据权利要求2所述的显示器件光色转换层的制备方法,其特征在于,所述临时连接材料为Cr或聚酰亚胺,所述荧光材料包括荧光粉、量子点材料或钙钛矿材料。
4.根据权利要求3所
...【技术特征摘要】
1.一种显示器件光色转换层的制备方法,用于在显示器件表面制备光色转换层,所述光色转换层用于光色转换,其特征在于,该方法包括:提供一显示器件,所述显示器件包括led芯片,所述led芯片包括衬底(101)、阵列分布于衬底(101)的发光体(102);
2.根据权利要求1所述的显示器件光色转换层的制备方法,其特征在于,制备所述彩膜(2),包括:提供一透明基板(201);
3.根据权利要求2所述的显示器件光色转换层的制备方法,其特征在于,所述临时连接材料为cr或聚酰亚胺,所述荧光材料包括荧光粉、量子点材料或钙钛矿材料。
4.根据权利要求3所述的显示器件光色转换层的制备方法,其特征在于,采用磁控溅射镀膜工艺、电镀工艺或电子束蒸镀工艺,在所述透明基板(201)表面沉积cr,或,采用旋涂工艺,在所述透明基板(201)表面涂覆聚酰亚胺。
5.根据权利要求2或4所述的显示器件光色转换层的制备方法,其特征在于,采用激光剥离工艺或湿法腐蚀工艺,去除所述透明基板(201),所述湿法腐蚀工艺所采用的腐蚀液包括硝酸铈铵。
6.根据权利要求5所述的显示器件光色转换层的制备方法,其特...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭文平,刘同军,邓群雄,韩奎,王顺荣,
申请(专利权)人:元旭半导体科技无锡有限公司,
类型:发明
国别省市:
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