【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及反射镜拼接，尤其涉及一种反射镜真空拼接装置及其拼接方法。
技术介绍
1、大型光学反射阵面通常由若干个反射镜单元拼接而成的。为了保证大型光学反射阵面的整体精度，在拼接时需要保证各个反射镜拼接后反射面法向平行度达到角秒级，并且需要保证拼接后状态稳定可靠，不易发生变化。传统的反射镜拼接方式为：在每个反射镜单元的背部支撑结构上设置调节机构，通常采用三点或三点以上的调节方式。通过传感器对每个被拼接反射镜的倾斜状态进行测定，通过调节机构分别将各反射镜的倾斜状态调节至允许的误差范围内，随后锁定调节机构，完成反射镜的高精度平行拼接。然而，这种拼接方式主要存在以下缺点：1.调节耗费时间较长，拼接过程中需要对每个反射镜进行多次调整和测量，导致效率低下，不适合大规模生产制造。2.无法保证整体阵面位于同一高度，若想保证所有面处于同一高度，还需进行额外的调节。3.调节机构存在一定的自由度，工作状态下易受到外界干扰，这可能导致调节机构发生微小变化，从而使反射阵面的整体精度难以长期保持。
技术实现思路
1...
【技术保护点】
1.一种反射镜真空拼接装置，其特征在于，包括：拼接平台、基准靠尺和真空泵；所述基准靠尺设置于所述拼接平台的上表面，并位于所述拼接平台的相邻两侧边上，用于定位待拼接的反射镜；所述真空泵与所述拼接平台相连；
2.根据权利要求1所述的反射镜真空拼接装置，其特征在于，在每个所述拼接单元的下表面，对应所述第一气孔的位置设置有第三凹槽，所述第三凹槽将对应所述拼接单元的所有第一气孔连通。
3.根据权利要求2所述的反射镜真空拼接装置，其特征在于，所述拼接平台还包括与所述拼接单元数量相等的密封板；所述密封板胶粘于对应所述拼接单元的下表面，并覆盖所述第三凹槽；每个...
【技术特征摘要】
1.一种反射镜真空拼接装置，其特征在于，包括：拼接平台、基准靠尺和真空泵；所述基准靠尺设置于所述拼接平台的上表面，并位于所述拼接平台的相邻两侧边上，用于定位待拼接的反射镜；所述真空泵与所述拼接平台相连；
2.根据权利要求1所述的反射镜真空拼接装置，其特征在于，在每个所述拼接单元的下表面，对应所述第一气孔的位置设置有第三凹槽，所述第三凹槽将对应所述拼接单元的所有第一气孔连通。
3.根据权利要求2所述的反射镜真空拼接装置，其特征在于，所述拼接平台还包括与所述拼接单元数量相等的密封板；所述密封板胶粘于对应所述拼接单元的下表面，并覆盖所述第三凹槽；每个所述密封板的中心位置设置有贯穿的第二气孔，所述第二气孔通过所述第三凹槽与所述第一气孔连通，所述第二气孔通过气管与所述真空泵连通。
4.根据权利要求1所述的反射镜真空拼接装置，其特征在于，所述第一气孔以所述吸附区域的几何中心为原点，沿所述吸附区域相互垂直的两条中心线对称设置；所述第一气孔为锥形孔。
5.根据权利要求1所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：熊紫辛，张晗，李斌，余毅，刘琦，王晓明，王婉，唐伯浩，
申请(专利权)人：中国北方工业有限公司，
类型：发明
国别省市：
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