【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及功率半导体湿法清洗，具体涉及一种基于多级动态调节的功率半导体分立器件炉管清洗机的清洁优化装置及方法。
技术介绍
1、功率半导体分立器件的工夹具湿法清洗在半导体制造中具有广泛应用，如用于工夹具清洗柜、冲水柜、炉管清洗机。然而随着半导体技术的不断发展，对清洗工艺的要求也越来越高，新产品、新工艺、新技术的半导体发展加速了手动专用清洗柜已无法达到工艺要求。
2、随着近年来市场竞争的白热化，芯片销售对产品的成品率、可靠性、表面等方面提出了更高要求，芯片厂对用于半导体芯片制造中的工夹具清洗、炉管清洗机的颗粒清洁需求也同样迫切。但目前多数芯片厂所采用的工夹具清洗、炉管清洗装置都存在各种各样的不足之处。
3、常用的适用于半导体芯片制造的工夹具、炉管清洗机装置，存在以下技术缺陷：1）、清洗均匀性差：传统喷淋系统存在盲区，导致器件表面残留颗粒物或化学膜层；2）、工艺参数固化：无法根据污染物类型（如金属离子、颗粒）实时调整清洗剂配比与温度；3）、能耗过高：单一高压冲洗模式导致去离子水与化学试剂过量消耗；4）、二次污染风险...
【技术保护点】
1.功率半导体分立器件炉管清洗机的清洁优化装置，包括至少一个储液设备（2），其特征在于：所述储液设备（2）依次通过第一泵（4）、管路组件（3）连接清洗设备（1），清洗设备（1）为炉管清洗机的不同体积大小的清洗槽，清洗槽内设置有超声发生器，清洗槽入口处设置有控制单元，控制单元包括边缘计算模块（703），边缘计算模块（703）分别与视觉传感器（701）、红外光谱传感器（702）连接，边缘计算模块（703）内置材质及尺寸参数，视觉传感器（701）、红外光谱传感器（702）位于清洗设备（1）进料口；控制单元连接第一泵（4）、超声发生器。
2.根据权利要求1所述的一...
【技术特征摘要】
1.功率半导体分立器件炉管清洗机的清洁优化装置，包括至少一个储液设备（2），其特征在于：所述储液设备（2）依次通过第一泵（4）、管路组件（3）连接清洗设备（1），清洗设备（1）为炉管清洗机的不同体积大小的清洗槽，清洗槽内设置有超声发生器，清洗槽入口处设置有控制单元，控制单元包括边缘计算模块（703），边缘计算模块（703）分别与视觉传感器（701）、红外光谱传感器（702）连接，边缘计算模块（703）内置材质及尺寸参数，视觉传感器（701）、红外光谱传感器（702）位于清洗设备（1）进料口；控制单元连接第一泵（4）、超声发生器。
2.根据权利要求1所述的一种功率半导体分立器件炉管清洗机的清洁优化装置，其特征在于：所述视觉传感器（701）、红外光谱传感器（702）通过动态调节导轨（705）安装在固定平台（704）上，固定平台（704）位于清洗槽入口导向机构处，视觉传感器（701）用于采集物料表面图像，红外光谱传感器（702）用于采集物料表面光谱数据。
3.根据权利要求2所述的一种功率半导体分立器件炉管清洗机的清洁优化装置，其特征在于：所述控制单元内置fpga芯片，通过卷积神经网络（cnn）算法解析物料材质类型与三维尺寸，并与边缘计算模块（703）内置材质及尺寸匹配算法。
4.根据权利要求2所述的一种功率半导体分立器件炉管清洗机的清洁优化装置，其特征在于：所述储液设备（2）为炉管清洗机的储液槽，储液槽为三个，每个储液槽均是独立的储液罐，三个储液罐分别对应a罐、b罐、c罐，每个储液罐存储不同ph值的化学试剂。
5.根据权利要求4所述的一种功率半导体分立器件炉管清洗机的清洁优化装置，其特征在于：任意一个所述储液罐内均设置有液位传...
【专利技术属性】
技术研发人员：蒋亚东，贾云波，龚宇科，常俊，王旭，周晓，
申请(专利权)人：江苏新顺微电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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