【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于液晶偏振光学器件,尤其涉及一种微偏振阵列和偏振相机。
技术介绍
1、偏振成像技术作为一种新型的光电成像手段,在传统强度成像的基础上,引入了光的偏振信息,从而能更全面地获取目标特征。光的偏振状态在经过物体表面反射、折射或散射后会发生改变,这些改变包含了如材料组织特征、表面粗糙程度、结构组成、三维形状等信息。全斯托克斯偏振成像可以测得包含线、圆偏振信息在内的全部偏振信息,在癌症病灶定位、雾霾条件下目标识别、水下探测、遥感等方面具有着广泛的应用。同时,分焦平面型偏振成像系统由于具有体积小、集成度高、可实时成像等优点,是当下研究的热点,微偏振阵列是该成像系统的核心元件。
2、关于微偏振阵列的设计,目前比较成熟的是基于液晶或基于超构表面这两种方案。基于液晶材料的微偏振阵列具有灵活的相位调制能力,可灵活实现用于偏振探测的四个最优椭圆偏振态。最具代表性的是通过优化结构,设计了两层阵列化液晶层,对准后实现对偏振信息的探测。但是该方案无法提供较高的测量精度,同时也只适用于单波长下的测量,无法适用于宽的应用波段。方案二为利用超构表
...【技术保护点】
1.一种微偏振阵列,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的微偏振阵列,其特征在于,所述亚像素单元还包括玻璃基板,所述玻璃基板位于所述摩擦取向膜远离所述扭曲液晶层的一侧。
3.根据权利要求1所述的微偏振阵列,其特征在于,所述微偏振阵列中多个所述超像素单元阵列排布。
4.根据权利要求1所述的微偏振阵列,其特征在于,所述超像素单元中的四个亚像素单元分别为第一亚像素单元、第二亚像素单元、第三亚像素单元和第四亚像素单元;
5.根据权利要求4所述的微偏振阵列,其特征在于,所述一维亚波长光栅结构的光栅周期为110nm,所述栅条的
...【技术特征摘要】
1.一种微偏振阵列,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的微偏振阵列,其特征在于,所述亚像素单元还包括玻璃基板,所述玻璃基板位于所述摩擦取向膜远离所述扭曲液晶层的一侧。
3.根据权利要求1所述的微偏振阵列,其特征在于,所述微偏振阵列中多个所述超像素单元阵列排布。
4.根据权利要求1所述的微偏振阵列,其特征在于,所述超像素单元中的四个亚像素单元分别为第一亚像素单元、第二亚像素单元、第三亚像素单元和第四亚像素单元;
5.根据权利要求4所述的微偏振阵列,其特征在于,所述一维亚波长光栅结构的光栅周期为110nm,所...
【专利技术属性】
技术研发人员:穆全全,孙子珺,
申请(专利权)人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,
类型:发明
国别省市:
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