光源系统、基于光源系统的光路优化方法及加工设备技术方案

技术编号:46355483 阅读:5 留言:0更新日期:2025-09-15 12:35
本申请涉及光源系统、基于光源系统的光路优化方法及加工设备,其中光源系统包括:用于输出光束的灯珠模块;复合匀光器包括依次设置的准直透镜和复眼透镜组,复合匀光器位于灯珠模块的一侧;聚光光组位于复合匀光器的一侧,聚光光组的一侧正对于光源系统的输出端。上述光源系统可在保证输出光束均匀性的同时,满足输出光束的较高平行度要求,进而保证光源系统的稳定高效性,有效提升光学加工设备的工作效率。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及光学加工,特别是涉及一种光源系统、基于光源系统的光路优化方法及加工设备


技术介绍

1、随着光学加工技术不断进步以及光学加工设备应用场景持续多样化,对光学加工的要求越来越高。在激光精密加工领域,相比汞灯光源,uv led光源长寿命、可减少更换频率,且长期维护成本低,故被广泛应用。

2、现有技术中的将原有的汞灯光源系统改造为uv led光源系统时存在汞灯光路与led发散角不匹配,容易导致光束均匀性变差。


技术实现思路

1、基于此,有必要针对上述技术问题,提供一种光源系统、基于光源系统的光路优化方法及加工设备。

2、一种光源系统,包括:

3、用于输出光束的灯珠模块;

4、复合匀光器,包括依次设置的准直透镜和复眼透镜组,所述复合匀光器位于所述灯珠模块的一侧;

5、聚光光组,位于所述复合匀光器的一侧,所述聚光光组的一侧正对于所述光源系统的输出端。

6、在其中一个实施例中,所述聚光光组包括位于所述复合匀光器一侧的第一反射镜、位于所述第一反本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光源系统,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,所述聚光光组包括位于所述复合匀光器一侧的第一反射镜、位于所述第一反射镜一侧的第二反射镜、位于所述第二反射镜一侧的球面镜;

3.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,所述灯珠模块包括:

4.根据权利要求3所述的光源系统,其特征在于,所述散热单元包括:

5.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,所述光源系统还包括:

6.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,所述光源系统还包括:

7.一种基于权利要求1至6任一项所述的光源系统的...

【技术特征摘要】

1.一种光源系统,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,所述聚光光组包括位于所述复合匀光器一侧的第一反射镜、位于所述第一反射镜一侧的第二反射镜、位于所述第二反射镜一侧的球面镜;

3.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,所述灯珠模块包括:

4.根据权利要求3所述的光源系统,其特征在于,所述散热单元包括:

5.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,所述光源系统还包括:

6.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,所述光源系统还包括:

7.一种基于权利要求1至6...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘望飞曾威龙腾云韩子娟王帆帆庄昌辉周志伟尹建刚
申请(专利权)人:深圳市大族半导体装备科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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