用于修改包含固定和自由布图实体的电路布图的布图修正引擎制造技术

本发明专利技术涉及用于修正包括具有固定和自由布图实体的电路布图（１）的布图修正引擎（１８）。布图实体表示集成电路的至少一部分，每个布图实体包括至少一个布图元素。固定布图实体被约束于预定位置。布图修正引擎包括用于解决固定布图实体和自由布图实体间的冲突的冲突解决器。冲突解决器包括布图分析器（１４）和冲突解决模块（１６）。冲突解决模块产生固定布图元素组用于解决检测到的冲突。由于布图修正引擎将固定布图实体转换成固定布图元素组，布图修正引擎在修正电路布图时会遇到更少的冲突状况，从而缩短处理时间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于修改包含固定和自由布图实体的电路布图的布图 修正引擎。本专利技术还涉及用于布图修正引擎中的冲突解决器、修改电路布图 的方法、以及计算机程序产品。
技术介绍
集成电路布图一般包含布图实体，其中布图实体组代表集成电路。 实体例如可以是集成电路的一层，或者是例如代表集成电路的子电路 的单元。实体例如还可以是多边形、或者甚至是多边形的边界或者角 部，或者是线的交叉点或者单元的参考点。实体包含至少一个布图元 素，其中布图元素是集成电路的最小的构成部分。布图元素例如可以 是多边形的边、路径的中心线和宽度、或者路径或多边形的边界。布 图元素例如还可以是多边形的角部、两条线的交叉点、或者单元的参 考点。通常，集成电路布图包含多个层。为了根据集成电路布图制造集 成电路，必须利用不同的光刻工艺在半导体衬底上按顺序产生多个层。 在半导体衬底上形成集成电路布图之前，可以利用布图修正引擎对集成电路布图进行修改。这些布图修正引擎例如可以是压缩引擎、迁移 引擎或者设计规则违反修理引擎。压缩引擎修改集成电路布图以减小 集成电路布图的占用面积从而减小产生集成电路布图所需的半导体衬 底的面积。迁移引擎修改集成电路布图使得可以利用与最初设计集成 电路布图的制造工艺不同的制造工艺来进行生产。设计规则违反修理 引擎检查当前集成电路布图和与具体的制造工艺相关的规则组、即所谓的设计规则的一致性。设计规则对特定的半导体制造工艺是专用的。 设计规则组规定集成电路布图的布图实体之间的几何和连接性约束因 素，以应对半导体制造工艺中的差异。设计规则组应用于布图实体的 布图元素以产生约束组。约束组可以是例如方程组，该方程组中的变 量代表布图实体的布图元素的位置。不同的制造工艺通常包含设计规 则的不同组。实体关于与特定制造工艺相关的特定设计规则的 一致性 确保可以使用特定制造工艺来制造集成电路布图。当设计规则违反修 理引擎检测到与设计规则不一致时，设计规则违反修理引擎通过重新 放置布图实体的布图元素来修改集成电路设计以产生与设计规则的实 质上的完全一致性。集成电路的特定集成电路布图或者集成电路布图的特定子电路对 于集成电路布图中的布图元件的变化比较敏感。例如，当布图元素被 布图修正引擎改动时，模拟电路布图或者模拟子电路布图的功能会发 生不同。为了避免某些集成电路布图或者某些特定子电路被改变，一 些已知的布图修正引擎允许用户阻止特定的布图实体被布图修正引擎 改动。布图修正引擎的已知的缺点在于处理时间会比较长。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种用于修改集成电路设计中的布图实体的 改进了的布图修正引擎，其中减少了改进的布图修正引擎的处理时间。根据本专利技术的第一方面，本专利技术的目的是通过用于对包含有固定 布图实体和自由布图实体的布图实体的电路布图进行修改的布图修正 引擎来实现的。布图实体是集成电路的至少一部分的表示，每个布图 实体包含至少一个布图元素。固定布图实体被限定于预定位置，而自 由布图实体被允许移动以修正电路布图。设置布图修正引擎用来将固 定布图实体限定于预定位置并且修改电路布图以与约束组实质上一致。约束组包含用于将设计规则应用于电路布图的一組布图元素的设 计规则约束。布图修正引擎包含用于解决固定布图实体和自由布图实体之间的冲突的冲突解决器。沖突解决器包括分析电路布图以检测固 定布图实体和自由布图实体之间的冲突的布图分析器。沖突解决器将检测到的沖突提交给冲突解决模块。冲突解决模块将检测到的冲突中 的固定布图实体转换成固定布图元素组。产生该固定布图元素组用于 解决检测到的冲突。固定布图元素是被限定在某个位置的布图元素。本专利技术的布图修正引擎的效果在于，布图分析器分析电路布图以 检测固定布图实体和自由布图实体之间的冲突。这样的冲突例如可能 出现在当固定布图实体是集成电路的固定单元，而自由布图实体是集 成电路的自由层的时候。固定单元中的布图元素应该是固定的。但是， 固定单元的布图元素的子集可能位于自由层中。该布图元素的子集的状态不确定，从而导致冲突。该冲突在冲突解决器中得到解决；在该 沖突解决器中，固定布图实体被转换成固定布图元素组。该转换例如 可以由操作人员手工完成。由于布图元素是集成电路布图的最小构成 元素，由固定布图元素组替换固定布图实体迫使在冲突的情形下作出 决定。随后在约束组中实现该布图元素组以对固定布图元素的位置进 行固定。本专利技术的布图修正引擎主动地迫使冲突情形在布图修正引擎解决 约束地集合以产生用于调适电路布图的指令之前得到解决。冲突解决 器将固定布图实体转换成随后进入约束组的固定布图元素组。由于布 图修正引擎将固定布图实体转换成固定布图元素组，布图修正引擎修 改电路布图以符合约束组的修改步骤将遇到更少的冲突，从而减少布 图修正引擎的处理时间。在已知的布图修正引擎中，约束组是在将固定布图实体固定于限 定位置时得到解决的。追加特定布图实体必须被限定于特定位置的附 加的要求会导致冲突。在这些已知的布图修正引擎中，这些冲突只在 解决约束组时和在调适电路布图以符合约束组时发生。这会使得布图 修正引擎无法为该约束组提供解决方案或者会导致布图修正引擎需要 过量的计算时间和功耗以对约束组产生解决方案。在本专利技术的布图修 正引擎中，电路布图被分析以检测固定布图元素和自由布图元素之间的冲突。通过将固定布图实体转换成固定布图元素组来主动解决可能 的冲突，防止了沖突使得布图修正引擎试图对因冲突而无解决方案的 情形或者对因冲突致使解决方案过分复杂的情形寻找解决方案。通过 为布图修正引擎提供固定布图元素组，减少了冲突的发生，并减少了 布图修正引擎为约束组产生解决方案所需的处理时间。与约束组的 一致性通常通过布图修正引擎解决约束组以产生调适 电路布图的指令来实现。约束组通常包含方程组。每个方程包含应用 于一组布图元素的约束组的数学表示，例如，应用于一组布图元素的 设计规则。根据指令调适布图会导致移动电路布图的布图元素，这会 导致移动电路布图内的实体和/或导致电路布图内的实体的再次成形。集成电路可以是周知的作为芯片的微型电路，或者是芯片的一部 分的代表。替代地，集成电路也可以是微型结构的代表，这种微型结 构已知也称为纳米结构，包括例如机械纳米结构、磁纳米结构、化学 纳米结构以及生物纳米结构。在布图修正引擎的一个实施方式中，检测到的冲突包括作为固定 布图实体的一部分和作为自由布图实体的一部分的检测到的布图元 素。在布图修正引擎的一个实施方式中，沖突解决器是基于规则的。 该实施方式的好处在于基于规则的冲突解决器以可复验和可预测的方 式处理检测到的冲突。此外，使用基于规则的冲突解决器将手工输入 最小化，从而通过减少等待手工输入的空闲时间而减少布图修正引擎 的处理时间。已知的布图修正引擎通常在求解约束组时发出冲突信号 或者在求解约束组之后给出冲突列表。系统的用户必须手动地检查冲 突(的列表)并手工地解决每个冲突，这相当耗时。此外，实质上相 同的沖突可能由用户以不同的方式解决，这导致集成电路内部的不可 预测的差异。使用基于规则的冲突解决器将固定布图实体转换成固定 布图元素组的措施减少了手工输入并以可复验的方式解决了冲突。在布图修正引擎的一个实施方式中，冲突解决器包括利用本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于修正包括具有固定布图实体（１１；３１；４４）和自由布图实体（３０，３９；４１）的布图实体（３０，３１，３９；４０，４１，４４）的电路布图（１）的布图修正引擎（１８），布图实体（３０，３１，３９；４０，４１，４４）表示集成电路的至少一部分，每个布图实体（３０，３１，３９；４０，４１，４４）包括至少一个布图元素（３２，３６，３７，３８；４２，４３，４５），固定布图实体（１１；３１；４４）被约束于预定位置，自由布图实体（３０，３９；４１）被允许移动以修正电路布图（１），布图修正引擎（１８）被设置为在修正电路布图（１）以实质上符合约束组时，将固定布图实体（１１；３１；４４）约束于所述预定位置，约束组包括将设计规则（１７）应用于电路布图（１）的一组布图元素（３２，３６，３７，３８；４２，４３，４５）的设计规则约束，　布图修正引擎（１８）包括用于解决固定布图实体（１１；３１；４４）和自由布图实体（３０，３９；４１）之间的冲突的冲突解决器（１０），冲突解决（１０）包括布图分析器（１４）和冲突解决模块（１６），　布图分析器（１４）分析电路布图 （１）以检测固定布图实体（１１；３１；４４）和自由布图实体（３０，３９；４１）之间的冲突并将检测到的冲突提交给冲突解决模块（１６），　冲突解决模块（１６）将检测到的冲突中的固定布图实体（１１；３１；４４）转换成固定布图元素（３６；４３ ，４５）组，该固定布图元素（３６；４３，４５）组被产生以解决检测到的冲突，固定布图元素（３６；４３，４５）是被约束于某个位置的布图元素。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：NG布萨，EJ艾克霍恩，JGGP吉斯贝根范，JPF维勒克恩斯，
申请(专利权)人：萨格昂泰克以色列有限公司，
类型：发明
国别省市：IL[以色列]