一种钙钛矿薄膜及其制备方法和应用技术

本申请公开了一种钙钛矿薄膜的制备方法，包括：在基底表面气相沉积溴化铅，得到溴化铅层；将所述溴化铅层与有机盐反应，得到钙钛矿薄膜。本申请采用气相沉积技术制备具有高结晶质量和择优取向的溴化铅前驱体层；大尺寸、高取向的溴化铅晶粒为有机盐渗透提供理想反应模板，所制备的钙钛矿薄膜相较传统溶液法反应更完全，并且结晶度以及晶粒尺寸有着明显提高；此外此工艺避免了反溶剂，气刀等辅助装置，简化工艺流程，也避免了由此所带来的结晶不可控问题，提高薄膜制备的重复性。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及钙钛矿光电，尤其涉及一种钙钛矿薄膜及其制备方法和应用。

技术介绍

1、钙钛矿材料作为新一代光电功能材料，因其优异的光电特性而备受关注。该材料具有高的光吸收系数、长的载流子扩散长度、可精确调控的带隙、优异的双极性传输特性以及较高的缺陷容忍度的光电优势，同时兼具低成本制备优势。这些特性使其在太阳能电池、发光二极管(led)、光电探测器、激光器等光电器件领域展现出巨大的应用潜力。作为光电器件的核心活性层，钙钛矿薄膜的质量直接决定着器件性能的优劣。然而，目前主流的溶液旋涂法制备工艺存在显著的技术瓶颈：首先，反溶剂或气刀辅助结晶过程难以精确控制，导致薄膜均匀性和工艺重复性较差；其次，溶剂挥发过程中易形成针孔缺陷；并且环境温度和湿度的波动会显著影响薄膜形貌，造成明显的批次差异。

2、针对这些问题，开发出一种高质量、高重复性的钙钛矿薄膜制备方法是本领域技术人员亟待解决的问题。

技术实现思路

1、有鉴于此，本申请提供了一种钙钛矿薄膜的制备方法，以解决现有技术中存在的薄膜质量不佳、均匀性差和工艺重复性低等本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种钙钛矿薄膜的制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述气相沉积溴化铅包括蒸镀溴化铅；所述溴化铅的粒径为20nm至500nm。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述蒸镀的温度为100℃至1000℃；所述蒸镀的压力为10-6Pa至10-5Pa；所述蒸镀的速率为至

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述溴化铅层的厚度为1nm至106nm。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述有机盐包括甲脒卤化铵、甲基卤化铵、卤化铯、正丁基卤化铵、异丁基卤化铵、氨基戊酸卤盐、1-...

【技术特征摘要】

1.一种钙钛矿薄膜的制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述气相沉积溴化铅包括蒸镀溴化铅；所述溴化铅的粒径为20nm至500nm。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述蒸镀的温度为100℃至1000℃；所述蒸镀的压力为10-6pa至10-5pa；所述蒸镀的速率为至

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述溴化铅层的厚度为1nm至106nm。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述有机盐包括甲脒卤化铵、甲基卤化铵、卤化铯、正丁基卤化铵、异丁基卤化铵、氨基戊酸卤盐、1-萘甲基卤化铵、苯乙基卤化铵、正丁基卤化铵、苯甲基卤化铵、苯丙基卤化铵、苯丁基卤化铵、正辛胺氢卤酸盐、乙胺氢卤酸盐或胍氢卤酸盐中的一种或多种。

6.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：秦川江，朱何龙，战宏梅，
申请(专利权)人：中国科学院长春应用化学研究所，
类型：发明
国别省市：