【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及集成电路，具体为基于规则的版图检查与自动修正系统。
技术介绍
1、根据中国公开号为“cn116187266a”公开的一种快速预测集成电路良率的方法，包括：s1.建立一个基于机器学习的版图修正模型，并完成该版图修正模型的训练；s2.查找集成电路full-chip版图中代表性的版图结构；s3.对查到的版图结构进行光学邻近修正，得到能够在晶圆上形成的修正后版图结构形状；s4.将得到的的修正后版图结构形状输入版图修正模型，得到预测的修正量；s5.对得到的修正量进行分析，找到对该集成电路良率有影响的结构，计算出该集成电路的良率。该方法可以快速计算集成电路芯片图形在经过光学临近修正后的失真量，从而预测这种失真对于集成电路芯片良率的影响，对于先进节点尤其适用。
2、上述专利文件及现有技术在使用时存在以下技术问题：
3、问题一，现有技术中，集成电路版图设计中的设计规则配置过程存在显著的不足，通常依赖设计者手动输入固定规则或使用单一的规则模板，导致配置过程复杂且耗时，无法灵活适配不同工艺节点和多样化的设计需求；>
4、问题二，本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.基于规则的版图检查与自动修正系统，其特征在于：所述系统包括规则输入与管理模块、版图数据处理模块、规则检查引擎、问题分析与可视化模块、自动修正模块和用户交互与控制界面，其中：
2.根据权利要求1所述的基于规则的版图检查与自动修正系统，其特征在于：所述规则输入与管理模块进一步包括规则模板库，所述规则模板库存储预设的设计规则模板，用户可通过选择模板并进行参数调整生成自定义设计规则，或者直接上传包含正则表达式或数学公式的复杂规则描述。
3.根据权利要求1所述的基于规则的版图检查与自动修正系统，其特征在于：所述版图数据处理模块支持多线程并行处理技术，...
【技术特征摘要】
1.基于规则的版图检查与自动修正系统，其特征在于：所述系统包括规则输入与管理模块、版图数据处理模块、规则检查引擎、问题分析与可视化模块、自动修正模块和用户交互与控制界面，其中：
2.根据权利要求1所述的基于规则的版图检查与自动修正系统，其特征在于：所述规则输入与管理模块进一步包括规则模板库，所述规则模板库存储预设的设计规则模板，用户可通过选择模板并进行参数调整生成自定义设计规则，或者直接上传包含正则表达式或数学公式的复杂规则描述。
3.根据权利要求1所述的基于规则的版图检查与自动修正系统，其特征在于：所述版图数据处理模块支持多线程并行处理技术，通过对版图数据进行分区优化和增量式加载，仅处理用户指定的修改区域，从而提高大规模版图数据的处理效率。
4.根据权利要求1所述的基于规则的版图检查与自动修正系统，其特征在于：所述规则检查引擎支持多种检查样式，包括点对点检查、区域扫描和全局拓扑分析，并且允许用户为设计规则设定优先级权重，以优化检查顺序和效率。
5.根据权利要求1所述的基于规则的版图检查与自动修正系统，其特征在于：所述规则检查引擎进一步集成机器学...
【专利技术属性】
技术研发人员：任谦，王昳，赵伟，修磊，陈强，方大千，潘继宏，
申请(专利权)人：上海芯无双仿真科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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