一种等离子体系统及使用该系统的等离子体阵列系统技术方案

本申请提供了一种等离子体系统级使用该系统的等离子体阵列系统，其包括至少两个电源模块、匹配网络模块、等离子体处理室、数据处理和控制模块；电源模块用于生成第一电源信号；电源模块均与匹配网络模块电连接，并输送至少一个所述第一电源信号到适应网络模块中；电源模块均与等离子体处理室电连接，用于向等离子体处理室输出电能和/或电信号；数据处理和控制模块与电源单元、匹配网络模块、等离子体处理室均电连接。通过本系统的实施，可以在数据的帮助下调整电源的参数，以使得溅射工艺的产品和工艺质量通过防止缺陷(例如开裂)的效果改善来提高最终产品和实施的质量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

：本技术涉及一种操作等离子系统和等离子系统的方法。

技术介绍

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技术介绍
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1、基于等离子体技术的工艺用于玻璃和半导体元件的表面涂层。等离子体是带电和中性粒子的集合，例如电子、原子、离子和自由基。等离子体仅存在于特定的环境条件下，必须通过设备和等离子体过程进行调整。镀膜表面(尤其是玻璃和半导体)的一种工艺是溅射。在这个过程中，靶材通过等离子体雾化，然后沉积在工件上，称为基板。

2、溅射过程中可能会出现基板中的各种缺陷。一个例子是发际线裂纹，即所谓的龟裂。这些是工件表面的缺陷，像裂纹一样穿过基材。龟裂是需要尽力避免的，并且可能导致受影响的部件因损坏而排斥。一个原因被怀疑是等离子体和地球之间的电位差。为了在正在进行的过程中减少这些问题出现，各个公司都在尝试改变等离子体的参数。这是通过调整耦合到等离子体的电路参数来完成的。这是电源的电路，也可以有一个匹配网络模块。目前尚不清楚需要以何种方式更改哪些参数，甚至可能组合在一起，以减少龟裂，从而确保工件的完整性。

3、例如现有技术ep3796362a1中描述了在等离子室和等离子处理本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种等离子体系统，其特征在于：包括至少两个电源模块(110)、匹配网络模块(120)、等离子体处理室(130)、数据处理和控制模块(145)；

2.根据权利要求1所述的等离子体系统，其特征在于：所述数据处理和控制模块(145)包括控制单元(141)和数据处理单元(140)。

3.根据权利要求1所述的等离子体系统，其特征在于：还包括数据存储器(150)，所述数据存储器(150)与所述电源单元(110)、匹配网络模块(120)、等离子体处理室(130)均电信号连接，用于存储来自任一单元的信号。

4.根据权利要求3所述的等离子体系统，其特征在于：所述数据...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种等离子体系统，其特征在于：包括至少两个电源模块(110)、匹配网络模块(120)、等离子体处理室(130)、数据处理和控制模块(145)；

2.根据权利要求1所述的等离子体系统，其特征在于：所述数据处理和控制模块(145)包括控制单元(141)和数据处理单元(140)。

3.根据权利要求1所述的等离子体系统，其特征在于：还包括数据存储器(150)，所述数据存储器(150)与所述电源单元(110)、匹配网络模块(120)、等离子体处理室(130)均电信号连接，用于存储来自任一单元的信号。

4.根据权利要求3所述的等离子体系统，其特征在于：所述数据存储器(150)与所述电源单元(110)、匹配网络模块(120)、等离子体处理室(130)的连接通过无线连接模块(143)实现。

5.根据权利要求1-4任一所述的等离子体系统，其特征在于，包括多个所述电源模块(110)和/或多个所述匹配网络模块(120)。...

【专利技术属性】
技术研发人员：C·霍夫施泰特尔，
申请(专利权)人：通快许廷格两合公司，
类型：新型
国别省市：