【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体刻蚀，尤其涉及用于等离子体反应腔室的电加热器、等离子体反应腔室。
技术介绍
1、如图1所示，在感性耦合等离子体(icp)刻蚀类腔体上，晶圆70与等离子体80的副产物90在介质窗20上冷凝沉积，容易造成颗粒污染问题，因此icp的介质窗通常需要加热至一定的温度以挥发冷凝的副产物。然而最常见的电加热方式会带来较强的法拉第屏蔽效应，导致真空腔室内的电磁场强度减弱，启辉窗口变小。
技术实现思路
1、本申请公开了用于等离子体反应腔室的电加热器、等离子体反应腔室，用于解决或缓解
技术介绍
提到的至少一个技术问题。
2、第一方面，本申请提供了用于等离子体反应腔室的电加热器，其包括电热丝；薄膜层，所述电热丝嵌入于所述薄膜层中，所述薄膜层用于放置于等离子体反应腔室的介质窗的顶面；压覆部，所述压覆部被配置成至少能将所述薄膜层的边缘压抵于所述介质窗的顶面，从而使所述薄膜层平整贴附于所述介质窗的顶面，所述压覆部为非金属材料。
3、本申请使电热丝嵌设于薄膜层，且薄膜层直接放置于介质...
【技术保护点】
1.一种用于等离子体反应腔室的电加热器，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于等离子体反应腔室的电加热器，其特征在于，所述电加热器(10)还包括保温层(130)，所述保温层(130)设置在所述薄膜层(110)与所述压覆部(120)之间。
3.根据权利要求2所述的用于等离子体反应腔室的电加热器，其特征在于，在铅垂方向的投影上，所述薄膜层(110)位于所述保温层(130)之中，所述保温层(130)位于所述压覆部(120)之中。
4.根据权利要求2所述的用于等离子体反应腔室的电加热器，其特征在于，所述压覆部(120)形成为压盖结...
【技术特征摘要】
1.一种用于等离子体反应腔室的电加热器，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于等离子体反应腔室的电加热器，其特征在于，所述电加热器(10)还包括保温层(130)，所述保温层(130)设置在所述薄膜层(110)与所述压覆部(120)之间。
3.根据权利要求2所述的用于等离子体反应腔室的电加热器，其特征在于，在铅垂方向的投影上，所述薄膜层(110)位于所述保温层(130)之中，所述保温层(130)位于所述压覆部(120)之中。
4.根据权利要求2所述的用于等离子体反应腔室的电加热器，其特征在于，所述压覆部(120)形成为压盖结构，所述压盖结构包括顶面部(121)和自所述顶面部(121)的边缘向下延伸的裙部(122)，所述顶面部(121)压盖于所述保温层(130)，所述裙部(122)位于所述保温层(130)的径向外侧。
5.根据权利要求4所述的用于等离子体反应腔室的电加热器，其特征在于，在铅垂方...
【专利技术属性】
技术研发人员：杜鹏程，杨芹，胡萍，王桂滨，马雷，
申请(专利权)人：深圳市新凯来工业机器有限公司，
类型：发明
国别省市：
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