【技术实现步骤摘要】
技术介绍
1、对半导体制品(例如晶圆)进行缺陷检测时，需要先对被检测的样品表面进行扫描取像，不同扫描位对应的图像需要执行感兴趣区域(aoi)的对位处理，从而利用不同图像中感兴趣区域的差异性来进行缺陷检测，对位成功与否，直接影响后续的缺陷检测结果的准确度。
2、然而，由于半导体制品纹理特征不明显、特征灰度变化较小、拍摄样品的图像时无法有效控制聚焦精度等原因，对位环节容易出现对位失败的情况，导致感兴趣区域错位的情况发生，尤其在非周期性图案区域产生较多的误检。
技术实现思路
1、为此，本申请公开如下技术方案：
2、本申请第一方面提供一种对位检测方法，包括：
3、根据一次对位后的多张样品图像获得模板图像；
4、筛选出所述模板图像中对应梯度值位于第一区间内的第一像素点；其中，所述第一区间根据所述模板图像中像素点的梯度值确定；
5、对当前样品图像进行处理，得到所述当前样品图像中各像素点的差分对比信息；其中，所述当前样品图像是所述多张样品图像...
【技术保护点】
1.一种对位检测方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据一次对位后的多张样品图像获得模板图像，包括：
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述对所述多张样品图像中相同位置像素点的像素值进行排序，包括：
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述模板图像中任一像素点的梯度值的确定方式包括：
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述模板图像中像素点的梯度值确定所述第一区间，包括：
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，确定所述第二区间的方式包括：
...【技术特征摘要】
1.一种对位检测方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据一次对位后的多张样品图像获得模板图像，包括：
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述对所述多张样品图像中相同位置像素点的像素值进行排序，包括：
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述模板图像中任一像素点的梯度值的确定方式包括：
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述模板图像中像素点的梯度值确定所述第一区间，包括：
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，确定所述第二区间的方式包括：
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈鲁，肖遥，张鹏斌，
申请(专利权)人：深圳中科飞测科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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