涂胶机滤芯浸泡装置制造方法及图纸

本申请公开涂胶机滤芯浸泡装置，包括超声波槽、丙酮循环泵、光刻胶循环泵、丙酮存放容器和光刻胶存放容器，滤芯具有第一端口和第二端口，由第一端口通过第一三通阀分别连通所述丙酮存放容器和所述光刻胶存放容器，由第二端口通过第二三通阀分别连通有丙酮循环管路和光刻胶循环管路，滤芯还分别于第一端口和第二端口的外侧设置有开关阀，丙酮循环管路的另一端通过丙酮循环泵连通丙酮存放容器，所述光刻胶循环管路的另一端通过光刻胶循环泵连通光刻胶存放容器，其中所述丙酮存放容器和所述光刻胶存放容器分别用于存放丙酮和光刻胶。本申请提供的涂胶机滤芯浸泡装置可以有效解决滤芯在浸泡后留有气泡的问题，缩短更换滤芯的时间。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及滤芯清理设备，尤其涉及涂胶机滤芯浸泡装置。

技术介绍

1、在半导体器件的制造和先进封装工艺中，光刻工艺是指在基板上，如半导体晶圆上依次经过光刻胶涂布、曝光、显影等处理，将光刻掩膜板(mask)上设计好的图案转移到基板表面的膜层中的过程。在光刻胶涂布过程中，通过在基板表面喷涂光刻胶液形成光刻胶膜层，然后再通过曝光显影工艺在基板表面的光刻胶层中形成规定的图案结构。在上述的光刻胶喷涂工艺中，一般都是将晶圆放入专门的涂胶机中，采用旋转涂胶法完成。

2、光刻胶的成分一般包括感光树脂、增感剂和溶剂。在进行旋转涂胶时，光刻胶由于旋转离心力从晶圆中心分散至晶圆边缘。在旋转涂布的过程中，晶圆表面的洁净度直接影响涂布后光刻胶膜层的质量，而高质量的光刻胶膜层又是后续光刻及刻蚀所必须的。

3、光刻胶通常是利用涂胶机旋涂在晶圆表面。在光刻胶桶和喷嘴之间一般会通过滤芯对光刻胶进行过滤，主要过滤光刻胶里面的particle和气泡等。

4、目前，滤芯一般需要30天左右更换一次。新滤芯在上机之前需要利用丙酮浸泡，目的是避免滤芯内的气泡，浸泡后再本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.涂胶机滤芯浸泡装置，其特征在于，包括超声波槽、丙酮循环泵、光刻胶循环泵、丙酮存放容器和光刻胶存放容器，其中所述超声波槽用于浸泡滤芯，其中所述滤芯分别具有第一端口和第二端口，所述滤芯于所述第一端口通过第一三通阀分别连通所述丙酮存放容器和所述光刻胶存放容器，所述滤芯于所述第二端口通过第二三通阀分别连通有丙酮循环管路和光刻胶循环管路，所述滤芯还分别于所述第一端口和所述第二端口的外侧设置有开关阀，所述丙酮循环管路的另一端通过所述丙酮循环泵连通所述丙酮存放容器，所述光刻胶循环管路的另一端通过所述光刻胶循环泵连通所述光刻胶存放容器，其中所述丙酮存放容器和所述光刻胶存放容器分别用于存放丙酮和光刻胶...

【技术特征摘要】

1.涂胶机滤芯浸泡装置，其特征在于，包括超声波槽、丙酮循环泵、光刻胶循环泵、丙酮存放容器和光刻胶存放容器，其中所述超声波槽用于浸泡滤芯，其中所述滤芯分别具有第一端口和第二端口，所述滤芯于所述第一端口通过第一三通阀分别连通所述丙酮存放容器和所述光刻胶存放容器，所述滤芯于所述第二端口通过第二三通阀分别连通有丙酮循环管路和光刻胶循环管路，所述滤芯还分别于所述第一端口和所述第二端口的外侧设置有开关阀，所述丙酮循环管路的另一端通过所述丙酮循环泵连通所述丙酮存放容器，所述光刻胶循环管路的另一端通过所述光刻胶循环泵连通所述光刻胶存放容器，其中所述丙酮存放容器和所述光刻胶存放容器分别用于存放丙酮和光刻胶。

2.如权利要求1所述的涂胶机滤芯浸...

【专利技术属性】
技术研发人员：王中龙，
申请(专利权)人：远山新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：