【技术实现步骤摘要】
本技术涉及晶圆片表面处理加工设备，尤其涉及一种水清洗箱。
技术介绍
1、晶圆片在化学剂药液中完成表面清洁，接着进入水清洗工序，将晶圆片表面的化学剂残留液冲洗干净，通常在水清洗箱内完成该表面清洗工序，但是采用传统的清洗方法出现晶圆片表面仍然残留少量液体的问题，影响晶圆片的后续加工，故传统清洗方法不能满足生产要求，影响晶圆片的加工质量稳定性，需要改良。
技术实现思路
1、为了克服现有技术中存在的晶圆片表面有残留液，影响晶圆片加工质量稳定性的问题，本技术的目的在于提供一种水清洗箱，降低晶圆片表面残留液余量的问题，提高生产质量的稳定性。
2、为实现上述目的，本技术的技术方案为：
3、一种水清洗箱，包括容器、隔板、喷淋组件及阀门组件；
4、所述隔板设于容器内，所述隔板将容器分成上腔和下腔，所述上腔和下腔连通，所述喷淋组件包括若干个喷头，所述喷头位于容器的上方；
5、所述容器设有第一通孔，所述第一通孔位于隔板的下方，所述阀门组件包括驱动源及孔盖板，所述驱...
【技术保护点】
1.一种水清洗箱，其特征在于：包括容器(1)、隔板(2)、喷淋组件(3)及阀门组件(4)；
2.根据权利要求1所述的水清洗箱，其特征在于：所述容器(1)还包括导流板(12)，所述导流板(12)位于容器(1)内，所述导流板(12)位于隔板(2)的下方，所述导流板(12)与所述第一通孔(11)间距设置，所述导流板(12)朝向第一通孔(11)的方向倾斜。
3.根据权利要求1所述的水清洗箱，其特征在于：所述容器(1)包括第一底板(101)及第一侧板(102)，所述第一通孔(11)设于第一底板(101)并沿第一底板(101)的厚度方向贯穿第一底板(101...
【技术特征摘要】
1.一种水清洗箱，其特征在于：包括容器(1)、隔板(2)、喷淋组件(3)及阀门组件(4)；
2.根据权利要求1所述的水清洗箱，其特征在于：所述容器(1)还包括导流板(12)，所述导流板(12)位于容器(1)内，所述导流板(12)位于隔板(2)的下方，所述导流板(12)与所述第一通孔(11)间距设置，所述导流板(12)朝向第一通孔(11)的方向倾斜。
3.根据权利要求1所述的水清洗箱，其特征在于：所述容器(1)包括第一底板(101)及第一侧板(102)，所述第一通孔(11)设于第一底板(101)并沿第一底板(101)的厚度方向贯穿第一底板(101)，所述第一侧板(102)与所述第一底板(101)围设成第一容腔(103)。
4.根据权利要求3所述的水清洗箱，其特征在于：所述水清洗箱还包括储液外箱(5)，所述储液外箱(5)包括第二底板(501)及第二侧板(502)，所述第二底板(501)与所述第一...
【专利技术属性】
技术研发人员：李成，姚禄华，邱立阳，赵江风，赵燕飞，
申请(专利权)人：东莞市鼎力自动化科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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