【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体器件掺杂，特别是涉及一种离子注入机束流通道校准治具及离子注入机。
技术介绍
1、离子注入，是半导体器件制造中的一种非常重要的掺杂技术。离子注入有能形成高速离子束流的离子注入机实施。随着半导体器件集成度的逐步提高，对离子注入中束流的均匀性提出了更高的要求。
技术实现思路
1、有鉴于此，本申请为解决
技术介绍
中存在的至少一个问题，而提供一种离子注入机束流通道校准治具及离子注入机。
2、为达到上述目的，本申请的技术方案是这样实现的：
3、第一方面，本申请实施例提供一种离子注入机束流通道校准治具，包括：
4、基准定位座，固定安装于所述离子注入机的电弧室射出口所在的第一端板；所述基准定位座中间开设有敞开所述电弧室射出口的第一通孔及定位在所述第一端板的定位结构；
5、移动定位座，能相对所述基准定位座沿束流方向移动；所述移动定位座开设有沿束流方向延伸的第二通孔，所述第二通孔与所述电弧室射出口大小一致；所述移动定位座在沿束流方向移动的过程中，所...
【技术保护点】
1.一种离子注入机束流通道校准治具，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的离子注入机束流通道校准治具，其特征在于，所述导向件为导杆，导向部为适配所述导杆的导向孔。
3.根据权利要求2所述的离子注入机束流通道校准治具，其特征在于，所述导杆的数量为两个，对称地固定连接在所述第一通孔的两侧。
4.根据权利要求1所述的离子注入机束流通道校准治具，其特征在于，所述定位结构包括定位销，以插入所述第一端板上的定位孔。
5.根据权利要求4所述的离子注入机束流通道校准治具，其特征在于，所述移动定位座的外形为圆形，以适配离子注入机的加...
【技术特征摘要】
1.一种离子注入机束流通道校准治具，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的离子注入机束流通道校准治具，其特征在于，所述导向件为导杆，导向部为适配所述导杆的导向孔。
3.根据权利要求2所述的离子注入机束流通道校准治具，其特征在于，所述导杆的数量为两个，对称地固定连接在所述第一通孔的两侧。
4.根据权利要求1所述的离子注入机束流通道校准治具，其特征在于，所述定位结构包括定位销，以插入所述第一端板上的定位孔。
5.根据权利要求4所述的离子注入机束流通道校准治具，其特征在于，所述移动定位座的外形为圆形，以适配离子注入机的加速通道入口所在的端面。
6.根据权利要求4所述的离子注入机束流通道校准治具，其特征在于，所述第一通孔的尺寸远大于所述电弧室射出口的尺寸。
7....
【专利技术属性】
技术研发人员：胡海鸿，
申请(专利权)人：芯联先锋集成电路制造绍兴有限公司，
类型：新型
国别省市：
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