【技术实现步骤摘要】
本申请涉及清洗设备，特别是涉及一种半导体金属清洗设备。
技术介绍
1、对于半导体金属基材，特别是铸造线性金属、线性金属、长条形金属、薄边异性长条形金属等精密部件来说，其生产过程很容易出现含有压铸油、润滑油或者其他杂质的情况，如果多余的压铸油或润滑油没有被清理，金属表面的油就会对其所在的电路产生影响，例如增加电阻、减少电路电流等，因此需要对压铸油、润滑油进行及时清洗。
2、但是现有的清洗主要是通过人工手段对每个产品进行单独清理，或者在批次产品生产完后进行统一清洗，不仅影响了生产效率，还会增加工作人员的劳动强度。
技术实现思路
1、基于此，有必要提供一种半导体金属清洗设备，以解决现有技术中存在的人工清洗半导体金属效率低的技术问题。
2、为实现上述目的，本申请提供一种半导体金属清洗设备，该半导体金属清洗设备包括：
3、箱体，形成有清洗空间，清洗空间的两端分别设置有进料口和出料口；
4、传送机构，包括设置于进料口和出料口之间的驱动轮机构、多个张紧轮机...
【技术保护点】
1.一种半导体金属清洗设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的半导体金属清洗设备，其特征在于，所述驱动轮机构包括：
3.根据权利要求2所述的半导体金属清洗设备，其特征在于，所述上驱动轮和/或所述下驱动轮的高度可调。
4.根据权利要求1所述的半导体金属清洗设备，其特征在于，所述张紧轮机构包括：
5.根据权利要求4所述的半导体金属清洗设备，其特征在于，所述上张紧轮和/或所述下张紧轮的高度可调。
6.根据权利要求1-5任一项所述的半导体金属清洗设备，其特征在于，所述传送机构设置有两个，两个所述传送机构垂直...
【技术特征摘要】
1.一种半导体金属清洗设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的半导体金属清洗设备，其特征在于，所述驱动轮机构包括：
3.根据权利要求2所述的半导体金属清洗设备，其特征在于，所述上驱动轮和/或所述下驱动轮的高度可调。
4.根据权利要求1所述的半导体金属清洗设备，其特征在于，所述张紧轮机构包括：
5.根据权利要求4所述的半导体金属清洗设备，其特征在于，所述上张紧轮和/或所述下张紧轮的高度可调。
6.根据权利要求1-5任一项所述的半导体金属清洗设备，其特征在于，所述传送机构设...
【专利技术属性】
技术研发人员：张俊，梁万通，
申请(专利权)人：珠海市威兆半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：
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