一种长寿命晶盘清洗机制造技术

本发明专利技术公开了一种长寿命晶盘清洗机，包括机架及将机架分为上腔体、下腔体的隔板；隔板上前、后两端设有横槽；上腔体内设有两横轨，两横轨上设有滑动架，滑动架上设有滑动架驱动装置；各横槽活动密封连接有立柱；下腔体内各立柱靠近另一立柱侧垂直向设有滑槽，滑槽上设有第一齿条，各第一齿条的底端与挂架相连，各挂架的底端靠近挂架中心侧设有夹具挂钩；立柱顶端套装有波纹管，波纹管顶端与两横波纹板相连，底端与距其最近的第一齿条的下腔体内一定高度处相连；下腔体内两横轨下方设有清洗室、干燥室；干燥室内设有干燥台；干燥台、清洗台之间设有纵向设有升降通道，升降通道内设有隔断门，隔断门与升降通道活动密封装置相连。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及清洗设备，特别涉及一种晶盘清洗机。

技术介绍

1、半导体器件生产中，硅片须经严格清洗，因为往往微量污染就会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。可采用纯水、酸性、碱性液体等对硅片。

2、槽式清洗机可一次性对多个硅片进行清洗。槽式清洗机还可清洗led的蓝宝石衬底等。通常，硅片清洗过程可大致分为：上料、清洗、干燥、下料。其中，将上料位和清洗槽(也称为工艺槽)所在区域称为湿区，将甩干机和下料位称称为干燥区。在清洗过程中，物料需要在湿区和干燥区间传递。但在不传递物料的时候，湿区和干燥区需要隔离开，否则湿区的水汽、酸气酸雾等会弥漫到干燥区，造成二次污染。为了在湿区和干燥区间进行隔离并便于物料传递，槽式清洗机中通常采用可打开的隔离结构。心有技术中，清洗机构的驱动装置一比较复杂，容易受到酸气酸雾的腐蚀，寿命短。因此，期待一种成本低、结构简单且易于维护的隔离装置，以隔离槽式清洗机中的干燥区和湿区，同时防止湿区的水汽、酸气或酸雾等弥漫到动力机构。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种长寿命晶盘清洗机，其特征在于：包括机架及将机架分为上腔体、下腔体的隔板；隔板上前、后两端设有横槽；上腔体内设有两横轨，两横轨上设有滑动架，滑动架上设有滑动架驱动装置；各横槽上设有立柱，两立柱分别与滑动架的前、后两端底面相连，立柱的左端与所述横槽左端、右端与所述横槽右端各通过横波纹板相连；下腔体内各立柱靠近另一立柱侧垂直向设有滑槽，滑槽上设有第一齿条，各第一齿条的底端与挂架相连，各挂架的底端靠近挂架中心侧设有夹具挂钩，各第一齿条与设置在滑动架上且穿过距其最近的横槽的第一齿条升降装置相连；立柱顶端套装有波纹管，波纹管顶端与两横波纹板相连，底端与距其最近的第一齿条的下腔体内一定高度处相...

【技术特征摘要】

1.一种长寿命晶盘清洗机，其特征在于：包括机架及将机架分为上腔体、下腔体的隔板；隔板上前、后两端设有横槽；上腔体内设有两横轨，两横轨上设有滑动架，滑动架上设有滑动架驱动装置；各横槽上设有立柱，两立柱分别与滑动架的前、后两端底面相连，立柱的左端与所述横槽左端、右端与所述横槽右端各通过横波纹板相连；下腔体内各立柱靠近另一立柱侧垂直向设有滑槽，滑槽上设有第一齿条，各第一齿条的底端与挂架相连，各挂架的底端靠近挂架中心侧设有夹具挂钩，各第一齿条与设置在滑动架上且穿过距其最近的横槽的第一齿条升降装置相连；立柱顶端套装有波纹管，波纹管顶端与两横波纹板相连，底端与距其最近的第一齿条的下腔体内一定高度处相连；

2.如权利要求1所述的长寿命晶盘清洗机，其特征在于：活动密封装置包括两密封板、垂波纹板；隔断门的两侧各设有与升降通道后端接触的密封板，两密封板顶端与驱动室顶端之间连接有垂波纹板，垂波纹板与升降通道后端接触；机架上升降通道前侧设有开口向后的垂直与地面的长凹槽，隔断门前端与若干可在长凹槽内滑动的滚轮相连。

3.如权利要求1所述的长寿命晶盘清洗机，其特征在于：其中一横轨的靠近另一横轨侧面上设有横向设有第二齿条，滑动架驱动装置包括垂直向设置的滑动架驱动电机，滑动架驱动电机的输出轴上设有第一齿轮，第一齿轮与第二齿条啮合；滑动架驱动电机安装在滑动架上。

4.如权利要求1所述的长寿命晶盘清洗机，其特征在于：第一齿条升降装置包括两分别设置在滑动架前后两端的第二齿轮、纵向设置的联动轴、联动轴驱...

【专利技术属性】
技术研发人员：白如意，吴利国，林善斌，董玉麒，张金磊，
申请(专利权)人：山东联盛电子设备有限公司，
类型：发明
国别省市：