一种基于光散射的纳米颗粒粒径测量方法和系统技术方案

本发明专利技术提供一种基于光散射的纳米颗粒粒径测量方法和系统，所述方法包括：提供三种具有预设光谱半宽的光源分别作为入射光；所述入射光分别照射待测纳米颗粒溶液，得到三种入射光下的透射光谱和预设散射角对应的散射光谱；根据所述三种入射光下的透射光谱和预设散射角对应的散射光谱，得到三种入射光激发下的透射光强和散射光强；根据所述三种入射光激发下的透射光强和散射光强，得到散射效率因子差比，并基于测量曲线和所述散射效率因子差比，得到待测纳米颗粒的粒径。本发明专利技术测量方法具有快速、可实时的优点，而且对入射光源的要求较低，特别是可以有效去除测量中的干扰和噪声，从而达到更高的测量准确率和更高的分辨率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及粒径测量领域，具体地，涉及一种基于光散射的纳米颗粒粒径测量方法和系统。

技术介绍

1、颗粒物粒径是反映颗粒物某些性质及其与其他物质相互作用规律的重要指标。在许多情况下，粒径的微小变化可能引发显著的物理化学性质改变。例如：在催化剂研究中，纳米颗粒的粒径微小变化可能会显著影响其比表面积和催化效率，从而对化学反应速率产生重要影响；用于能源领域的锂离子电池中，电极材料的纳米颗粒粒径变化可能会显著改变电池的充放电性能及循环寿命；在环境科学中，空气中污染物纳米颗粒的粒径变化会影响其在大气中的传输距离及对人体健康的危害程度。因此，精确测量和控制纳米颗粒粒径对科学研究和实际应用有重要意义。

2、目前已有的颗粒粒径测量方法的测量范围下限一般只能达到亚微米级的测量，如电感应法、小角前向散射法、激光子混合干涉测量技术等。对于100nm以下的纳米颗粒测量，测量的难度较大，常用的有动态光散射法、显微成像法、凝结核法。其中，动态光散射法通过激光照射下颗粒的布朗运动对粒度进行测量，测量时间较长；显微成像法光路复杂，不适合现场测量，并且测量速度较慢；凝结核法通过本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于光散射的纳米颗粒粒径测量方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的基于光散射的纳米颗粒粒径测量方法，其特征在于，所述提供三种具有预设光谱半宽的光源作为入射光，其中，所述具有预设光谱半宽的光源采用激光。

3.根据权利要求1所述的基于光散射的纳米颗粒粒径测量方法，其特征在于，所述提供三种具有预设光谱半宽的光源作为入射光，其中，所述具有预设光谱半宽的光源采用具有预设光谱半宽的LED。

4.根据权利要求1所述的基于光散射的纳米颗粒粒径测量方法，其特征在于，所述提供三种具有预设光谱半宽的光源作为入射光，包括：作为入射光的三种具有预设光谱半宽的...

【技术特征摘要】

1.一种基于光散射的纳米颗粒粒径测量方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的基于光散射的纳米颗粒粒径测量方法，其特征在于，所述提供三种具有预设光谱半宽的光源作为入射光，其中，所述具有预设光谱半宽的光源采用激光。

3.根据权利要求1所述的基于光散射的纳米颗粒粒径测量方法，其特征在于，所述提供三种具有预设光谱半宽的光源作为入射光，其中，所述具有预设光谱半宽的光源采用具有预设光谱半宽的led。

4.根据权利要求1所述的基于光散射的纳米颗粒粒径测量方法，其特征在于，所述提供三种具有预设光谱半宽的光源作为入射光，包括：作为入射光的三种具有预设光谱半宽的光源的波长分别在谱线的第一波长部分、谱线拐点部分、谱线的第二波长部分，所述谱线的第一波长部分和所述谱线的第二波长部分分别位于所述谱线拐点部分两侧。

5.根据权利要求1所述的基于光散射的纳米颗粒粒径测量方法，其特征在于，所述入射光分别照射待测纳米颗粒，其中，所述待测纳米颗粒的粒径为20-100nm。

6.根据权利要求1所述的基于光散射的...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄梅珍，王丹阳，蓝天朔，刘天元，于新娜，徐雪茹，
申请(专利权)人：上海交通大学，
类型：发明
国别省市：