当前位置: 首页 > 专利查询>苏州工学院专利>正文

一种Eu3+掺杂的单一基质白光发射荧光粉及其制备方法、应用技术

技术编号:45818081 阅读:30 留言:0更新日期:2025-07-15 22:29
本公开提出一种Eu<supgt;3+</supgt;掺杂的单一基质白光发射荧光粉及其制备方法、应用,属于发光材料技术领域。制备方法包括:提供初始发光材料R<subgt;4.667</subgt;Si<subgt;3</subgt;O<subgt;13</subgt;:xEu<supgt;3+</supgt;,其中R为Y<supgt;3+</supgt;、Lu<supgt;3+</supgt;、Gd<supgt;3+</supgt;或La<supgt;3+</supgt;,Eu<supgt;3+</supgt;取代R的摩尔数x满足0.005≤x≤0.10;初始发光材料在还原气氛中进行至少三个阶段式升温退火处理,得到Eu<supgt;3+</supgt;掺杂的单一基质白光发射荧光粉。本公开以R<subgt;4.667</subgt;Si<subgt;3</subgt;O<subgt;13</subgt;:xEu<supgt;3+</supgt;初始红发光材料为基质,通过特定后退火工艺,在晶格中引入稳定氧缺陷,重构Eu<supgt;3+</supgt;配位环境,激活其<supgt;5</supgt;D<subgt;0</subgt;、<supgt;5</supgt;D<subgt;1</subgt;、<supgt;5</supgt;D<subgt;2</subgt;、<supgt;5</supgt;D<subgt;3</subgt;能级的多能级发光跃迁,最终实现单一基质中的白光发射。

【技术实现步骤摘要】

本公开属于发光材料,具体涉及一种eu3+掺杂的单一基质白光发射荧光粉及其制备方法、应用。


技术介绍

1、白光led照明技术自20世纪90年代取得突破以来,已发展成为第四代照明技术的主流方向。目前商业化的白光led主要通过两种技术路线实现:第一种是基于ingan蓝光芯片(450-470纳米)激发yag:ce3+黄色荧光粉的组合方案,该技术虽然成熟稳定,但存在显色指数偏低(ra<75)、色温偏高(>4500k)的固有缺陷,难以满足高品质照明需求;第二种是采用近紫外芯片(380-410纳米)激发rgb三基色荧光粉的混光方案,虽然显色性有所提升(ra>85),但多组分体系存在不同荧光粉间热稳定性差异大、光衰不同步等问题,导致器件寿命和光效降低(光效通常<100lm/w)。

2、在荧光粉材料体系研究中,稀土离子掺杂的发光材料因其优异的发光性能备受关注。其中,eu3+离子作为典型的红光激活中心,其5d0→7fj(j=1-4)跃迁产生的红光发射(580-700纳米)已被广泛应用于荧光粉设计。然而,eu3+的高能级发光(5d1→7fj绿本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种Eu3+掺杂的单一基质白光发射荧光粉的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,至少三个阶段退火处理的温度范围为400℃~950℃。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在至少三个阶段退火处理中,后一阶段温度比前一阶段温度高50℃~200℃。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在至少三个阶段退火处理中,每个退火阶段的保温时间≥60分钟。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述初始发光材料在还原气氛中进行至少三个阶段式升温退火处理,包括

6....

【技术特征摘要】

1.一种eu3+掺杂的单一基质白光发射荧光粉的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,至少三个阶段退火处理的温度范围为400℃~950℃。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在至少三个阶段退火处理中,后一阶段温度比前一阶段温度高50℃~200℃。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在至少三个阶段退火处理中,每个退火阶段的保温时间≥60分钟。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述初始发光材料在还原气氛中进行至少三个阶段式升温退火处理,包括:

6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在至少三个阶段退火处理中,材料晶格中引入稳定氧缺陷,在紫外-近紫外...

【专利技术属性】
技术研发人员:魏东磊和明杨希峰刘玉申
申请(专利权)人:苏州工学院
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1