液口距控制方法和相关装置制造方法及图纸

技术编号:45814826 阅读:15 留言:0更新日期:2025-07-15 22:27
本申请实施例提供一种液口距控制方法和相关装置,涉及单晶制备技术领域,包括:获取导流筒的倒影图像和液面温度;根据所述倒影图像和所述液面温度,确定液口距补偿距离;根据所述补偿距离对初始液口距进行修正,得到目标液口距;根据所述目标液口距对坩埚的位置进行调整。本申请通过液温和液面形态双维度补偿机制对液口距进行补偿,可以实现对液口距的动态精准绝对控制,从而有效提升单晶的质量。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及单晶制备领域,尤其涉及一种液口距控制方法和相关装置


技术介绍

1、在单晶生产中,液口距是一个影响晶体质量的重要参数,相关技术中,通过相机拍摄导流筒倒影的图像来计算液口距。但是,相机本质为光线捕捉,液温的高低、波动等都会影响拍摄的图像的质量,从而影响液口距准确性,导致单晶的质量不佳。


技术实现思路

1、本申请实施例提供一种液口距控制方法和相关装置,可以提升液口距的准确性,从而提升单晶的质量。

2、第一方面,本申请实施例提供一种液口距控制方法,包括:

3、获取导流筒的倒影图像和液面温度;

4、根据所述倒影图像和所述液面温度,确定液口距补偿距离;

5、根据所述补偿距离对初始液口距进行修正,得到目标液口距;

6、根据所述目标液口距对坩埚的位置进行调整。

7、在一些实施例中,所述根据所述倒影图像和所述液面温度,确定液口距补偿距离,包括:

8、根据所述液面温度,获取所述液面的膨胀补偿值;

9、根据所述液面温度和所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种液口距控制方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述倒影图像和所述液面温度,确定液口距补偿距离,包括:

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述液面温度和所述倒影图像获取所述液面的凹度值,包括:

4.根据权利要求1-3任一项所述的方法,其特征在于,所述获取导流筒的倒影图像,包括:

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述根据所述多帧初始倒影图像,确定所述倒影图像,包括:

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述根据所述目标液口距对坩埚的位置进行调整,包括:<...

【技术特征摘要】

1.一种液口距控制方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述倒影图像和所述液面温度,确定液口距补偿距离,包括:

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述液面温度和所述倒影图像获取所述液面的凹度值,包括:

4.根据权利要求1-3任一项所述的方法,其特征在于,所述获取导流筒的倒影图像,包括:

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述根据所述多帧初始倒影图像,确定所述倒影图像,包括:

6.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘学金王胜利乔乐王军磊付明全
申请(专利权)人:四川高景太阳能科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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